【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、塩基性化合物成分（Ｃ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、酸発生剤成分（Ｂ）が、式（ｂ１）で表される化合物を含有し、塩基性化合物成分（Ｃ）が、式（ｃ１）〜（ｃ３）で表される化合物の１つ以上を含むレジスト組成物。
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【課題】レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物を含有するレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し且つ酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する樹脂成分（Ａ）を含有するレジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、下記一般式（Ｉ）［式中、Ｒ^１は直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基であり、Ｒ^ｆは炭素数１〜４のフッ素化アルキレン基であり、Ｑ^＋は有機カチオンである。］で表される基を含む構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。
［化１］
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【課題】アセタール部分を含む（メタ）アクリラートモノマー、このモノマーから形成される単位を含むポリマー、およびこのポリマーを含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】２個のアセタール環構造を有するアルコールから得られる(メタ)アクリル酸エステルモノマー。該モノマー、ポリマー、およびフォトレジスト組成物はフォトリソグラフィパターン形成に有用である。前記フォトレジスト組成物でコーティングされた基体、フォトリソグラフィパターンを形成する方法、および電子デバイスも提供する。この組成物、方法およびコーティングされた基体には、半導体デバイスの製造における特別な適用性が見いだした。 （もっと読む）

【課題】特定の構造単位を有する樹脂を含有する新規なポジ型レジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂と、酸発生剤とを含有するポジ型レジスト組成物。


［式中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ脂肪族炭化水素基を表すか、Ｒ^１及びＲ^２が互いに結合し、それらが結合している炭素原子とともに環を形成する；Ｒ^３は、ハロゲン原子を有してもよいアルキル基、水素原子又はハロゲン原子；Ｔ^１は、２価の脂肪族飽和炭化水素基等；ｍは０又は１の整数を表す。］ （もっと読む）

【課題】電子デバイス製造における微細パターンの形成を可能にし、および最新技術に関連する１以上の上記課題を回避するかまたは顕著に改善する、改良されたポリマー、フォトレジスト組成物、およびネガティブトーン現像のためのフォトリソグラフィ方法の開発。
【解決手段】特定のアセタール部分を含む単位と、ラクトン部分を含む単位とを含むポリマー。このポリマーを含むフォトレジスト組成物、前記フォトレジスト組成物でコーティングされた基体、およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法。このポリマー、組成物、方法およびコーティングされた基体には、半導体デバイスの製造における特別な適用性が見いだされる。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れが改良され、現像欠陥の少なく、解像力、孤立ＤＯＦ、ＰＥＢ温度依存性など諸性能に優れたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】特定の酸分解性繰り返し単位及び特定の非酸分解性繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ネガティブトーン現像プロセスによってフォトリソグラフィパターンを形成するのに有用なフォトレジスト組成物、フォトリソグラフィパターンを形成する方法、並びにフォトレジスト組成物でコーティングされた基体を提供する。
【解決手段】フォトレジスト組成物、およびネガティブトーン現像プロセスを用いて微細パターンの形成を可能にするフォトリソグラフィ方法に関し、このフォトレジスト組成物は一部分が特定のアセタール部分を含むモノマーから形成されるコポリマーを含む。本発明の好ましい組成物および方法は、フォトリソグラフィ処理における厚さ損失の低減およびパターン崩壊マージンの向上をもたらす。この組成物、方法およびコーティングされた基体については、半導体デバイスの製造における特別な適用性が見いだされた。 （もっと読む）

【課題】焼結性を損なうことなく、機械的強度及び耐溶剤性に優れたセラミックグリーンシートを得ることのできるエポキシ変性ポリビニルアセタール樹脂を提供する。また、該エポキシ変性ポリビニルアセタール樹脂を用いて製造されるセラミックスラリー及びセラミックグリーンシートを提供する。
【解決手段】ポリビニルアルコールで表される構成単位を１７〜４９．４モル％、アセチル基を有する構成単位を０．１〜１５モル％、下記式（３）で表されるアセタール基を有する構成単位を４８〜８０モル％、及び、エポキシ基を有する構成単位を０．５〜２０モル％の割合で有し、かつ、平均重合度が３００〜２５００であることを特徴とするエポキシ変性ポリビニルアセタール樹脂。


式（３）中、Ｒ^１は、水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基を表す。 （もっと読む）

【課題】反応阻害や粒子の粗大化をほとんど引き起こすことなく低重合度のポリビニルアセタールを製造することができるポリビニルアセタールの製造方法を提供する。また、該ポリビニルアセタールの製造方法を用いて製造されるポリビニルアセタールを提供する。
【解決手段】遷移金属イオンを含有する酸性溶液中にてポリビニルアルコールを過酸化水素と接触させて低重合度化する工程１、及び、前記工程１で低重合度化したポリビニルアルコールを、酸触媒の存在下においてアルデヒドと反応させてアセタール化する工程２を有するポリビニルアセタールの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ブリッジ前寸法等の解像力、ＤＯＦに優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用により分解してアミド基又はチオアミド基を生じる樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】低燃費性及びウェットグリップ性能がバランス良く改善されたゴム組成物、空気入りタイヤを供することができる共重合体を提供する。
【解決手段】１，３−ブタジエン及び下記一般式（Ｉ）で表される化合物を共重合して得られ、末端が窒素、酸素、もしくはケイ素を含む官能基を有する変性剤で変性され、重量平均分子量Ｍｗが１．０×１０^５〜２．５×１０^６である共重合体。［化１］


（式中、Ｒ^１及びＲ^２は、炭化水素基を表す。Ｒ^１及びＲ^２は互いに結合していてもよい。Ｒ^３は水素原子又は炭化水素基を表す。） （もっと読む）

【解決手段】式（１）で示される酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有する繰り返し単位ａと、ラクトン環を有する繰り返し単位ｂを含有する（メタ）アクリレートポリマーと、酸発生剤と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布してレジスト膜を形成し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に現像液として２−ヘプタノンを５０質量％以上含有する溶液による現像を行うパターン形成方法。


（式中、Ｒ2は酸不安定基である。）
【効果】安全にネガティブトーンパターンを形成できるプロセスを構築できる。 （もっと読む）

【課題】太陽光の紫外線部分の分光放射照度分布に対応可能な３００〜４００ｎｍの広範囲な波長領域、特に積算エネルギーの高い波長領域３３０〜４００ｎｍの紫外線吸収性能に優れるベンゾトリアゾール系（共）重合体を提供すること。
【解決手段】一般式（１）で表されるセサモール型または一般式（２）で表されるレゾルシノール型のベンゾトリアゾール系単量体を含む単量体組成物を共重合してなるベンゾトリアゾール系（共）重合体とする。
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【課題】例えばインク用バインダー樹脂として用いた際に粘度上昇が起こりにくいアルキルアセタール化ポリビニルアルコール樹脂及びその製造方法及びその樹脂を用いたインクを提供することにある。
【解決手段】ポリビニルアルコールとアルデヒドとのアセタール化反応によって合成されるアルキルアセタール化ポリビニルアルコール樹脂であって、重合度が１５０〜１０００、アセタール化度６０モル％以上、ポリビニルアルコール単位の含有量が１０〜３９モル％、樹脂中の金属イオン濃度が１００ｐｐｍ以下であり、上記金属イオンが、ナトリウムイオン、カリウムイオン、カルシウムイオン、バリウムイオンから選ばれる少なくとも１つであるアルキルアセタール化ポリビニルアルコール樹脂。 （もっと読む）

【解決手段】下記で示される含フッ素単量体。


（Ｒ⁴〜Ｒ⁶はＣ１〜６のフッ素化１価炭化水素基。ｋ¹は０〜２の整数。）
【効果】波長５００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、現像欠陥の少ない感放射線レジスト材料の添加剤用樹脂を製造するための単量体。得られる高分子化合物は、機能性材料、医薬・農薬等の原料として有用で、撥水性、加水分解性などの調整が可能。 （もっと読む）

【課題】 打ち抜き加工時のクラックが抑制され、機械的な強度も高いセラミックグリーンシートおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 セラミック粉末１を有機樹脂からなるバインダ２で結合してなるセラミックグリーンシート３であって、バインダ２は、ポリビニルアセタール鎖を主成分とする第１相２ａと、ポリアルキレンオキサイド鎖を主成分とする第２相２ｂとを含み、第１相２ａおよび第２相２ｂは、第２相２ｂのポリアルキレンオキサイド鎖に第１相２ａのポリビニルアセタール鎖がブロック共重合したことによって、第１相２ａが海であり、第２相２ｂが島である海島構造を形成して互いに結合しているセラミックグリーンシート３である。第１相２ａでバインダ２の機械的な強度を高くし、柔軟な第２相２ｂでクラックＣの進行を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】得られるビニルアセタール樹脂の着色及び分子量の低下、並びに、アルデヒドのアセタール化反応以外の副反応を抑制することができ、アルデヒドの使用量が少量であってもアセタール化度の高いビニルアセタール樹脂を短時間で製造することができるビニルアセタール樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】ビニルアルコール系樹脂又は酢酸ビニル系樹脂とアルデヒドとを含有する混合液を、１００〜４００℃、０．２〜１００ＭＰａの高温高圧流体中でアセタール化反応させるビニルアセタール樹脂の製造方法であって、反応温度を一定に保持して２０〜５５モル％のアセタール化度までアセタール化反応を進行させる工程１と、前記工程１の後に反応温度を、工程１の反応温度から１０〜２５０℃低い温度まで０．０１〜２℃／分の速度で降下させながらアセタール化反応を更に進行させる工程２とを有するビニルアセタール樹脂の製造方法。 （もっと読む）

【課題】酸触媒を用いずに、昇温過程でのアルデヒドの熱劣化や副生成物の生成を抑え、生産のスケールアップに際しても温度ムラや分散不良による反応率のばらつきを抑え、短時間で効率的にアセタール化度の高いビニルアセタール樹脂を得ることができるビニルアセタール樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】ビニルアルコール系樹脂とアルデヒドとを含有する混合液を１００〜４００℃、０．５〜１００ＭＰａの高温高圧流体中でアセタール化反応させることによりビニルアセタール樹脂を製造する方法であって、ビニルアルコール系樹脂を１００〜４００℃、０．５〜１００ＭＰａに加熱、加圧する工程１、アルデヒドを、高温高圧流体と接触させることにより、１００〜４００℃、０．５〜１００ＭＰａに加熱、加圧する工程２、並びに、前記アルデヒドを回分式反応容器に圧入して前記ビニルアルコール系樹脂と混合し、攪拌してアセタール化反応させる工程３を有するビニルアセタール樹脂の製造方法。 （もっと読む）

【課題】アルデヒドのアセタール化反応以外の副反応を抑制してアルデヒドの使用量を減らすことができ、アセタール化度が高く、着色がほとんどないビニルアセタール樹脂を短時間で製造することができるビニルアセタール樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】ビニルアルコール系樹脂又は酢酸ビニル系樹脂とアルデヒドとを含有する混合液を、１００〜４００℃、０．５〜１００ＭＰａの高温高圧流体中でアセタール化反応させるビニルアセタール樹脂の製造方法であって、前記ビニルアルコール系樹脂とアルデヒドとを含有する混合液は、室温大気圧環境下における水酸化物イオン濃度が３×１０^−５ｍｏｌ／Ｌ以下であるビニルアセタール樹脂の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 塗布欠陥、塗布膜厚均一性、ＰＥＢＳ性能に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する構造部位（Ｓ１）と、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位（Ｓ２）とを備えた繰り返し単位（Ａ）を含む樹脂（Ｐ）と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、溶剤を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であり、前記溶剤として、下記Ｘ群およびＹ群に列挙された溶剤のうち少なくとも１種を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
（Ｘ群）アルキレングリコールモノアルキルエーテル類、乳酸アルキルエステル類、アルコキシ酢酸アルキル類、アルコキシプロピオン酸アルキル類、ピルビン酸アルキル類、酢酸アルキルエステル；
（Ｙ群）環状ラクトン類、アルキレンカーボネート類。 （もっと読む）