【課題】真空中で、有機薄膜層と無機薄膜層が積層され、該有機薄膜層中への異物の混入が抑制された積層体の提供。
【解決手段】真空中でイオン液体モノマーを重合させて成膜することを特徴とする有機薄膜の製造方法；かかる製造方法で得られた有機薄膜層１３と、無機薄膜層（第一の無機薄膜層１２及び第二の無機薄膜層１４）とが積層されたことを特徴とする積層体１。 （もっと読む）

【課題】低燃費性、ウェットグリップ性能及び耐摩耗性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】ゴム成分と、ゴム成分１００質量部に対してシリカを５〜１５０質量部及び軟化点−２０〜２０℃の液状レジンを３〜４０質量部含有する組成物であって、上記ゴム成分１００質量％のうち、共役ジエンに基づく構成単位と下式（Ｉ）で表される構成単位とを有し、下式（ＩＩ）で表される基を有する化合物によって重合体の少なくとも一端が変性されてなる共役ジエン系重合体の含有量が５質量％以上であるゴム組成物。


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【課題】硬化性に優れる重合性組成物並びに透明性及び耐熱性に優れる硬化物を提供すること。
【解決手段】光重合開始剤としてアシルホスフィン系光重合開始剤、好ましくは、モノアシルホスフィンオキサイド系化合物又はビスアシルホスフィン系化合物を、一般式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物、好ましくは、一般式（II）で表わされる化合物に含有させた重合性組成物或いはこれを重合させて得られる硬化物を用いる。必要に応じ、上記重合性組成物に、光学活性化合物、好ましくは、一般式（III）又は（IV）で表わされる化合物を含有させる。一般式（Ｉ）、（II）、（III）及び（IV）の具体的内容は明細書に記載の通りである。 （もっと読む）

【課題】非水溶性有機溶剤中でしか重合させることができない反応性基を有する２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール誘導体を、環境への負荷が少ない水系溶媒中で重合させる方法の提供。
【解決手段】シクロデキストリンの疎水性キャビティに、一般式（１）で表される化合物が包摂された複合体を用いる。


（式中、Ｒ１〜Ｒ３は、各々独立して、水素、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基、−Ｚ−ＯＣＯ−Ｃ（Ｒ４）＝ＣＨ₂又は−Ｏ−Ｚ−ＯＣＯ−Ｃ（Ｒ４）＝ＣＨ₂を表わし、Ｚは、アルキレンを表し、Ｒ４は、水素又はメチル基を表わす。ただし、Ｒ１〜Ｒ３で表される基の少なくとも一つは、−Ｚ−ＯＣＯ−Ｃ（Ｒ４）＝ＣＨ₂又は−Ｏ−Ｚ−ＯＣＯ−Ｃ（Ｒ４）＝ＣＨ₂である。） （もっと読む）

【課題】従来の紫外線吸収剤を用いた場合に比して、非ブリードアウト性、相溶性、耐水性、及び耐熱性に優れ、単独又は種々の樹脂との配合で、光劣化が抑制されるとともに、耐久性の向上した塗料、コーティング剤、インキ、フィルム、及びシートなどの高分子製品を製造することが可能なポリマー組成物を提供する。
【解決手段】紫外線吸収型ポリマー（Ａ）と、ポリウレタン（Ｂ）のディスパージョンと、を含み、紫外線吸収型ポリマー（Ａ）は、二重結合及び紫外線吸収基を有する化合物（ａ）と、二重結合含有成分と、を含む重合成分を重合させて得られるものであり、ポリウレタン（Ｂ）は、活性水素含有基及びアニオン性親水性基（水酸基を除く）を有する化合物（ｂ）と、ポリオール（ｃ）及び／又はポリアミン（ｄ）と、ポリイソシアネート（ｅ）と、を含む反応成分を反応させて得られるものであるポリマー組成物である。 （もっと読む）

【課題】低燃費性及び耐摩耗性をバランス良く改善できるゴム組成物及びそれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】共役ジエン化合物及び／又は芳香族ビニル化合物の重合体を、窒素含有複素環基を有する化合物により変性して得られる重合体混合物と、シリカとを含み、前記重合体混合物の重量平均分子量が１．０×１０^３〜１．０×１０^５であるゴム組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】平版印刷における高い耐刷性を実現し、しかも露光部の良好な現像性をも達成する平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】親水性表面を有する支持体上側に、下層及び上層をこの順に配設した記録層を有してなる赤外線感光性ポジ型平版印刷版原版であって、前記上層および／または下層が、特定のマレイミド樹脂Ａと、両性界面活性剤および／またはアニオン性界面活性剤と、赤外線吸収剤とを、同じ層に、あるいはそれぞれ別々に層に含有する平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】 本願発明の目的は、光学異方体の材料として供される重合性液晶組成物において、紫外線照射による重合と加熱による重合を併用したパターン化膜作製の際に、ひび割れの無い良好な膜が得られる材料を提供することにある。
【解決手段】 重合性液晶化合物、光重合開始剤、及び熱重合開始剤を含有する重合性液晶組成物において、該熱重合開始剤の１０時間半減温度が７０℃以上９３℃以下であることを特徴とする重合性液晶組成物及び当該重合性液晶組成物を硬化させた光学異方体を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高速応答が可能であり、かつ電圧保持率、残像特性及び耐光性に優れた液晶表示素子を作製することができ、均一塗布性にも優れる液晶配向剤を提供することである。
【解決手段】本発明は、［Ａ］ポリアミック酸、ポリイミド、（メタ）アクリル重合体、ポリシロキサン及びポリアミック酸エステルからなる群より選択される少なくとも１種の重合体を含有し、かつ上記重合体が下記式（１）で表される基を有する液晶配向剤である。上記Ｒ^３は、下記式（２）で表される基であることが好ましい。
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【課題】アジド基又はアルキン基を有するイソプロピルアクリルアミド誘導体の提供。
【解決手段】式（１）で表されるアジド基又はアルキン基を有するイソプロピルアクリルアミド誘導体を用いる。


式中、Ｘは水素原子又は炭素数１〜６の直鎖もしくは分岐したアルキル基、Ｙは炭素数１〜６のアルキル基、アミド基、エステル基、エーテル基、ケトン基、トリアゾール基、ヒドラゾン基、ジスルフィド基又はシラン基の群から選択されるいずれかの官能基、Ｚはアジド基又はアルキン基を表す。 （もっと読む）

【課題】乾燥工程において使用する乾燥機等の金属部分への付着を抑え、かつ乾燥性に優れ、さらに、その分子量分布の経時変化が少ない変性共役ジエン系重合体組成物、及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】アミノ基とアルコキシシリル基を有する化合物に基づく変性基が結合した変性共役ジエン系重合体（Ａ）１００質量部に対し、有機酸由来の化合物（Ｂ）を０．００２〜０．２質量部含む変性共役ジエン系重合体組成物。 （もっと読む）

【課題】省燃費性及び引張破断強度に優れる重合体組成物を得ることができる共役ジエン系重合体を提供すること。
【解決手段】共役ジエンに基づく単量体単位、下記式（１）で表される化合物に基づく単量体単位、及び、下記式（２）で表される化合物に基づく単量体単位を有し、下記化合物（Ｇ）によって重合体の少なくとも一端が変性されている共役ジエン系重合体。


（Ｖ¹は重合性炭素−炭素二重結合を有するヒドロカルビル基を表し、Ｓ¹は置換シリル基を表す。）


（Ｖ²は重合性炭素−炭素二重結合を有するヒドロカルビル基を表し、Ａ²は置換アミノ基、又は、含窒素複素環基を表す。）
化合物（Ｇ）：置換基を有していてもよいアミノ基及びカルボニル基を有する化合物並びに置換基を有していてもよいアミノ基及びチオカルボニル基を有する化合物からなる化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物。 （もっと読む）

【課題】 高い剛直性を有する螺旋型ポリアセチレンを提供する。
【解決手段】 主鎖が螺旋構造を有する螺旋型ポリアセチレンであって、前記主鎖を構成する炭素２重結合と、前記炭素２重結合の片方の炭素原子に結合した芳香族性の５員環または６員環からなる側鎖とを有し、前記５員環または６員環を構成する原子のうち、主鎖の炭素原子と直結した原子に結合した２個の原子が、前記５員環または６員環を構成するそれぞれ５個または６個の原子のいずれかのみと結合し、かつ前記５員環または６員環を構成する原子のうち、主鎖の炭素原子と直結した原子から最遠位の原子の少なくとも１つが炭素である螺旋型ポリアセチレン。 （もっと読む）

【課題】重合収縮および重合応力を軽減した歯科修復組成物を得るためのマクロ環状オリゴマーの製造方法を提供する。
【解決手段】修復歯科において使用される少なくとも１つの重合性基を有するフリーラジカル重合性マクロ環状オリゴマーを調製する方法であって、（ｉ）反応性でありかつフリーラジカル重合性の前駆物質の縮合基を活性化させる工程と、（ｉｉ）カーボネート、エステル、シロキサンまたはホスホネートの結合を与える、活性化させた反応性でありかつフリーラジカル重合性の前駆物質とカップリング剤との間の縮合によって、擬高希釈条件下においてフリーラジカル重合性マクロ環状オリゴマーを調製する工程とを含む方法。 （もっと読む）

【課題】所望の光学定数を満たしながら、低粘度および低硬化収縮を実現する複合光学素子用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】フルオレン骨格を有する第１の（メタ）アクリレートと、ビフェニル環を有しかつ水酸基を有しない第２の（メタ）アクリレートを含み、前記第１の（メタ）アクリレートの含有率が、４〜４２重量％である複合光学素子用樹脂組成物とする。 （もっと読む）

【課題】耐光性に優れる重合性液晶化合物を提供すること。
【解決手段】ベンゾトリアゾール骨格またはトリアジン骨格を有し、かつ分子内水素結合部位を有する重合性液晶化合物。 （もっと読む）

【課題】優れた現像性を示し、耐熱性、耐溶剤性に優れ、色移り、色ムラを低減した着色パターンを形成し得る着色感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）色素多量体、（Ｂ）重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）有機溶剤を含有し、（Ｘ）色素骨格を含まない無機金属塩の染料固形分に対する含有量が０．１質量％以下である着色感放射線性組成物。 （もっと読む）

【課題】溶液から金属、特にパラジウムを除去するスカベンジャー担体を提供する。
【解決手段】スカベンジャー担体を、リンカーを介して担体に結合した、ヒドロカルビル基、過ハロゲン化ヒドロカルビル基又はヘテロシクリル基を有する1,3-ケトエステル類又は1,3-ケトアミド類又はこれらの混合物から選択されるペンダント基を含む官能性化担体と、置換されているヒドラジン又はそれらの塩又は特定の化学構造を有するアミンとの反応により得る。 （もっと読む）

【解決手段】酸不安定基で置換された（メタ）アクリレート、スチレンカルボン酸又はビニルナフタレンカルボン酸の繰り返し単位及び／又は酸不安定基で置換されたフェノール性水酸基を有する繰り返し単位と、マグネシウム、銅、亜鉛又はセシウムの（メタ）アクリレート、スチレンカルボン酸又はビニルナフタレンカルボン酸の塩の繰り返し単位とを共重合してなる高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト材料。
【効果】本発明のレジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、露光後のパターン形状が良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、ラインエッジラフネスが小さい特性を示す。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＢ、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なレジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料とすることができる。 （もっと読む）

【課題】優れたマスクエラーファクターを有するレジストパターンを製造することができる化合物、樹脂、レジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造単位及び酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂。


［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す；Ｌ^１は、−ＣＯ−Ｏ−Ａ^１−^＊、−ＣＯ−Ｏ−Ａ^２−ＣＯ−Ｏ−Ａ^３−^＊、−Ｂ^１−^＊又は−Ｂ^２−ＣＯ−Ｏ−Ａ^４−^＊を表す；Ａ^１、Ａ^２、Ａ^３及びＡ^４は、それぞれ独立に、炭素数１〜８のアルカンジイル基、炭素数３〜１８の２価の脂環式炭化水素基、炭素数１〜８のアルカンジイル基と炭素数３〜１８の２価の脂環式炭化水素基とが組み合わさった基又はフェニレン基を表す；Ｂ^１及びＢ^２は、フェニレン基を表す；＊は−Ｏ−との結合手を表す。］ （もっと読む）