少なくとも一つのシラノール基を有するケイ素含有化合物と、少なくとも一つのＯＲ基又は少なくとも一つのシラノール基を有するケイ素含有化合物（又は双方の基を有する化合物）とを、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、水酸化ストロンチウム、又は水酸化バリウム、及び有利には水、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、及び２−ブタノール、アセトン又はトルエン等の溶媒存在下で、互いに反応する段階を含むオルガノシリコン縮合物を調製する方法。 （もっと読む）

【課題】 高分子量のラダー型ポリシルセスキオキサンを、簡便に且つ高収率で製造する方法を提供すること。
【解決手段】 本発明のラダー型ポリシルセスキオキサンの製造方法は、（１）加水分解性基又はヒドロキシル基を有するシラン化合物を、水及び触媒を含む加水分解用溶液に加えて加水分解する工程と、（２）工程（１）で得られた溶液に、水との共沸混合物を生成する有機溶媒を添加する工程と、（３）工程（２）で得られた溶液を加熱還流する工程と、（４）工程（３）で得られた溶液から共沸によって水を除去する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】光通信で使用される帯域での吸収及び偏波依存性が小さく、屈折率調整が可能でパターニング性、生産性、信頼性に優れた縮合生成物の提供。
【解決手段】式（１）で示す化合物（Ａ）、式（２）で示す化合物（Ｂ）、式（３）で示す化合物（Ｃ）、式（４）で示す化合物（Ｄ）のうち少なくとも（Ａ）（Ｃ）（Ｄ）を０≦ｂ×３＋ｃ×２＋ｄ×３−ａ×２≦０．４〔ａ〜ｄは（Ａ）〜（Ｄ）の総量に対する（Ａ）〜（Ｄ）のモル比率〕の範囲内で縮合させる。
Ｒ^１_２Ｓｉ（ＯＲ^２）_２ （１）〔Ｒ^１は少なくとも１個の芳香族基を有する基、Ｒ^２は、重水素ＤであってもよいＨ〕Ｒ^３Ｓｉ（ＯＲ^４）_４ （２）〔Ｒ^３は少なくとも１個のＣ＝Ｃ二重結合を有する基、Ｒ^４はアルキル基〕Ｒ^５Ｒ^６Ｓｉ（ＯＲ^７）_２ （３）〔Ｒ^５は少なくとも１個のＣ＝Ｃ二重結合を有する基、Ｒ^６，Ｒ^７はアルキル基〕Ｒ^８Ｓｉ（ＯＲ^９）_３ （４）〔Ｒ^８はフッ素含有基、Ｒ^９はアルキル基〕 （もっと読む）

【解決手段】一部メチレン基が酸素に置換されていてもよいノルボルナン骨格と珪素原子とが直接結合された構造を有する側鎖を持ったシルセスキオキサンユニットを含有する縮合度が実質的に100％であるシルセスキオキサン系化合物混合物であり、該ノルボルナン骨格の珪素が結合していない側のジメチレン鎖が１つ以上の水素以外の置換基により置換されており、かつ、該ジメチレン鎖上の、より嵩高い置換基がｅｘｏ位を占める異性体の比率の方が高い側鎖を持ったシルセスキオキサンユニットを含有する。
【効果】本発明は、特に化学増幅ポジ型レジスト組成物に好適な実質的に100％の縮合度を持つシルセスキオキサン系化合物あるいはその混合物を与える。更に、本発明により得られる100％の縮合度を持つシルセスキオキサン系化合物混合物を用いたレジスト組成物は、従来のものに比較して、高い解像性、特に微小な繰り返しパターンの形成に対し高い性能を有する。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも1つの重合可能なビニル部分を有する親水性二カチオン性シロキサン・プレポリマーに関するものである。このプレポリマーにより、架橋密度と弾性率が小さくなっているが他の特性は犠牲にされないコンタクト・レンズおよび／または生体医学装置が得られる。 （もっと読む）

（ａ）アルデヒドベースのレドックス開始剤を供給する工程；及び（ｂ）前記レドックス開始剤と、複数の水素化物末端キャップ成分を有するシロキサンとを反応させて、複数の末端アルデヒド成分を有するシロキサンポリマーを生成させる工程；を含むシロキサンポリマーの製造方法。 （もっと読む）

【課題】支持基体に対して、耐擦傷性、耐クラック性、汚染物質に対する防汚効果やマジックインキの拭き取り性、帯電防止性を付与できる硬化被膜を与える熱硬化性樹脂組成物、その硬化皮膜を有する物品を提供する。
【解決手段】（１）（ａ）式（ｉ）あるいは（ｉｉ）の光反応性基含有加水分解性シランで、１種の場合は３官能性シラン、２種以上の場合は７０ｍｏｌ％以上が３官能性シラン、又はこれらの加水分解物もしくは部分縮合物、（ｂ）式（ｉｉｉ）の両末端加水分解性基含有ジメチルシロキサン及び（ｃ）式（ｉｖ）のフッ素含有加水分解性シランを塩基性触媒存在下で、加水分解性基を全て加水分解縮合する量より多くの水で加水分解縮合することで得られる光反応性基含有シロキサン化合物、（３）（ＣＦ₃（ＣＦ₂）_mＳＯ₂）₂ＮＬｉ（ｍ＝０〜７）及び（４）ラジカル系光重合開始剤を含有する光硬化性樹脂組成物、及びこの硬化皮膜が形成されてなる物品。 （もっと読む）

【課題】軟化温度が極めて低く、常温域で光学用途に適するような、アッベ数の温度変化が少なく、可視光透過率の高い透明材料はなかった。
【解決手段】２０〜１５０℃の温度域でアッベ数が１．５以上変化しない（最大値と最小値の差が１．５以内）、２０〜１５０℃の温度域でのアッベ数の標準偏差が０．５以下である、３００〜８００ｎｍの波長域における平均透過率が８５％以上となる有機無機ハイブリッドガラス状物質。軟化温度が５０℃〜３５０℃であり、溶融性を有する特徴も持つ。 （もっと読む）

【課題】ゲル化物や粒子の発生を抑制することができ、例えば半導体素子などの絶縁膜等を構成するのに用いられたときに、電気的特性を高めることが可能なポリマーを得ることができる金属含有ポリマーの製造方法を提供する。
【解決手段】金属化合物、その加水分解物または加水分解物の縮合物からなる成分（Ａ）と、金属化合物、その加水分解物または加水分解物の縮合物からなる成分（Ｂ）とを反応させてなる金属含有ポリマーの製造方法であって、成分（Ａ）と成分（Ｂ）とを反応させる際に、成分（Ｂ）が成分（Ａ）よりも高い反応性を有し、容器に成分（Ａ）を入れた後、容器内に成分（Ｂ）を連続的または段階的に添加し、成分（Ａ）と成分（Ｂ）とを反応させる、金属含有ポリマーの製造方法。 （もっと読む）

【課題】加熱処理時の着色がなく、光透過率良好、高露光感度等の性能を有する保護層が得られる熱硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】（β２）少なくとも１つ無水物骨格の有機基を有するシランカップリング剤を加水分解縮合成分として含むシロキサン樹脂、（Ｂ）エチレン性不飽和基を２個以上有する化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含み、さらに、シロキサン樹脂以外の（Ａ）アルカリ可溶性樹脂を含有する熱硬化性組成物であって、ＴＦＴアクティブマトリックス基板或いはカラーフィルタ基板の保護膜として有用な硬化物が得られる。 （もっと読む）

【課題】適切な材料特性を有するポリシロキサン材料を作製すること。
【解決手段】新規なフルオロシロキサン含有モノマーが開示される。これは、コンタクトレンズのような生体医用材料の調製に特に有用である。ポリシロキサン含有モノマー中のシロキサン基に、末端ジフルオロ置換炭素原子に結合した水素原子を有する極性のフルオロ化グラフトまたは側基を結合しているフルオロシロキサン含有モノマーが開示される。このフルオロ化ポリシロキサンは、追加の混和剤または可溶化剤が必要とされなくなる程度に、親水性コモノマーに可溶化されている。 （もっと読む）

式（Ｉ）のフルオロシリコーン化合物を含んで成る離型組成物を開示する：


(I)
[式中、R¹, R², R⁴, R⁵, R⁶, R⁷, R⁸ および R⁹は、それぞれ同一または異なって、置換または非置換のアルキル基、または置換または非置換のアリール基であり、R³ および R¹⁰は、同一または異なって、置換または非置換のアルキル基、置換または非置換のアリール基、Rf-X-またはZ-Y-であり、XおよびYはそれぞれ同一または異なって、２価の有機基であり、Rf はC_1-6フルオロアルキル基であり、Zは加水分解可能な部位を含むシリル基であり、mは1〜100、nは1〜50、およびoは0〜200である。離型組成物は、優れた離型性および離型性の耐久性（繰返し離型性）を与える。
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【課題】 低誘電率、高機械的強度を有し、疎水性の改良された多孔質膜及びその作製方法、この多孔質膜の前駆体組成物及びその調製方法、並びにこの多孔質膜を利用した半導体装置の提供。
【解決手段】 式：Ｓｉ(ＯＲ^１)_４及びＲ_ａ(Ｓｉ)(ＯＲ^２)_４−ａ(式中、Ｒ^１は１価の有機基を表し、Ｒは水素原子、フッ素原子又は１価の有機基を表し、Ｒ^２は１価の有機基を表し、ａは１〜３の整数であり、Ｒ、Ｒ^１及びＲ^２は同一であっても異なっていてもよい)で示される化合物から選ばれた化合物と、熱分解性有機化合物と、触媒作用をなす元素と、尿素等とを含む。この前駆体組成物から得られた多孔質膜に対して紫外線照射した後、疎水性化合物を気相反応させる。得られた多孔質膜を用いて半導体装置を得る。 （もっと読む）

【課題】 室温で固体であり、加熱により溶融し、トランスファー成形またはインジェクション成形することができ、硬化して、高強度で、紫外線や熱による変色の少ない硬化物を形成することができる硬化性シリコーンレジン組成物、およびその組成物を硬化して得られる、高強度で、紫外線や熱による変色の少ない硬化物を提供する。
【解決手段】 軟化点が５０℃以上であり、１５０℃における溶融粘度が５,０００ｍＰａ・ｓ以上であるヒドロシリル化反応硬化性シリコーンレジン組成物であって、リン含有ヒドロシリル化反応遅延剤を含有することを特徴とする硬化性シリコーンレジン組成物、およびそれを硬化してなる硬化物。 （もっと読む）

【課題】 プロセス適応性に優れるシリカ系絶縁膜の形成、すなわちシリカ系絶縁膜の機械強度を向上させるシリカ系被膜形成用組成物、シリカ系被膜の製造方法及び電子部品を提供する。
【解決手段】 （ａ）成分下記一般式（１）
【化１】


（ｂ）成分下記一般式（２）
【化２】


（ｃ）成分：前記（ａ）成分を溶解可能な溶媒及び
（ｄ）成分：オニウム塩
を含有してなるシリカ系被膜形成用組成物であって（ａ）成分の配合割合が（ｂ）成分１モルに対し０．０１モル〜０．６モルであるシリカ系被膜形成用組成物、シリカ系被膜形成用組成物を基体上に塗布し、塗布された被膜を加熱して硬化膜を形成することを特徴とするシリカ系被膜の製造方法及びシリカ系被膜を有する電子部品。 （もっと読む）

本発明は、他の性質を低減させずに、架橋密度および弾性率が減少したコンタクトレンズおよび／または生物医学用具が得られる、２つの重合性ビニル部分の代わりに１つの重合性ビニル部分を持つ親水性ジカチオンシロキサンプレポリマーに関する。 （もっと読む）

【課題】機械的特性、熱的特性及び他の材料への密着性の経時劣化が極めて少ない硬化物を形成し得うる樹脂組成物を提供する。
【解決手段】樹脂組成物に好適に用いられるポリシロキサン複合架橋粒子（Ｂ）は、架橋粒子（Ａ）中にポリシロキサンを含む。また、ポリシロキサン複合架橋粒子（Ｂ）は、水系分散媒中に分散された架橋粒子（Ａ）に、下記平均組成式（１）で表されるオルガノシロキサンを吸収させ、次いで、該オルガノシロキサンを縮合させて得られるポリシロキサンを、架橋粒子（Ａ）に複合することにより製造される。(Ｒ¹)_aＳｉＯ_b(ＯＲ²)_c （１）（式中、Ｒ¹は炭素数１〜８の有機基を表し、Ｒ²は炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜４のアシル基または水素原子を表し、ａ〜ｃは、ａ＋２ｂ＋ｃ＝４、０≦ａ＜４、０≦ｂ≦１、および０≦ｃ≦４を満たす。） （もっと読む）

【課題】半導体発光素子または半導体受光素子を封止材で封止した半導体光装置において、封止材が劣化し難くまた吸水率が低い半導体光装置を提供する。
【解決手段】次のかご型シルセスキオキサン化合物、又はこの化合物が部分付加反応した部分重合物を含有するケイ素化合物で、半導体発光素子又は半導体受光素子を封止する。
（ＡＲ^１Ｒ^２ＳｉＯＳｉＯ_１．５）_ｎ（ＢＲ^３Ｒ^４ＳｉＯＳｉＯ_１．５）_ｓ（ＨＯＳｉＯ_１．５）_{ｍ−ｎ−ｓ}
（Ｒ^５Ｒ^６ＨＳｉＯＳｉＯ_１．５）_ｑ（ＥＲ^７Ｒ^８ＳｉＯＳｉＯ_１．５）_ｒ（ＨＯＳｉＯ_１．５）_{ｐ−ｑ−ｒ}
（Ａは炭素−炭素不飽和結合を有する鎖状炭化水素基、Ｂ及びＥは飽和アルキル基あるいは水酸基、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３，Ｒ^４，Ｒ^５，Ｒ^６，Ｒ^７，Ｒ^８はメチル基又はフェニル基等、ｍ及びｑは６，８，１０，１２から選ばれた数、ｎは２〜ｍの整数、ｑは２〜ｐの整数、ｒは０〜ｐ−ｑの整数、ｓは０〜ｍ−ｎ） （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）で表される含フッ素ケイ素化合物。


(Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³は水素原子、水酸基、ハロゲン原子、炭素数１〜６の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシ基、又は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状、環状又は多環状骨格を持つ一価の有機基を表す。Ｙは二価の有機基を表す。Ｒ¹、Ｒ²はそれぞれ独立に水素原子、又は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状、環状又は多環状骨格を持つ一価の有機基を表す。Ｒ¹、Ｒ²は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成してもよい。)
【効果】本発明は、膨潤によるパターン崩壊を極力抑制して微細パターン形成を可能とする適度な酸性を有し、かつ、有機膜へのパターン転写の際のエッチング条件に対し優れたエッチング耐性を実現するために必要十分な数のフッ素置換によりこの適度な酸性を実現するケイ素化合物とシリコーン樹脂を提供し、このため、特にＡｒＦ露光における二層レジストの原料として好適である。 （もっと読む）

【課題】従来の乾燥ゲルは、温度変化による膨張収縮の度合いが小さいため、乾燥ゲルを他の物体に取り付けて用いる場合、他の物体と乾燥ゲルとの温度変化による伸縮の度合いが大きく異なり、強度の弱い乾燥ゲルに割れが生じたり、剥離したりする課題がある。
【解決手段】本発明の乾燥ゲルは、それを構成する材料の工夫により柔軟性をもたせる。柔軟性は、乾燥ゲルの材料であるオルガノシラン化合物９を、加水分解性有機基１２と、非加水分解性有機基１０が同一のケイ素１１に直接結合したものを含有するようにすることで得られる。 （もっと読む）