【課題】ユニークな触媒活性を有するのみならず、熱安定性に優れる多核錯体、特に過酸化水素分解触媒において、フリーラジカルの発生を抑制しつつ水と酸素に分解できる触媒能を有する不均一系触媒を提供する。
【解決手段】下記(i)、(ii)、(iii)等の要件を備える配位子Ｌを１つ以上と、複数の金属原子とを含む、多核錯体及び該錯体の縮合体を提供する。
(i) 下記式（１）で示される１価の基及び／又は下記式（２）で示される２価の基を有すること。


(ii) 金属原子と配位する配位原子を５個以上有すること。
(iii) 前記配位原子から選ばれる少なくとも１つの配位原子が２つの金属原子に配位すること、又は前記配位原子から選ばれ、それぞれ異なる金属原子に配位する２つの配位原子をＡＭ１、ＡＭ２としたとき、ＡＭ１−ＡＭ２間を結ぶ共有結合の最小値が１以上４以下となる、ＡＭ１及びＡＭ２の組合せを有すること。 （もっと読む）

【課題】硬化後に、低屈折率で高い硬度を有し、優れた耐擦傷性と防汚性が得られる硬化性組成物を提供すること。また、そのような硬化性組成物を用いて低反射率で耐擦傷性と防汚性に優れたフィルムを提供すること。更には、そのようなフィルムを用いた偏光板や画像表示装置を提供すること。
【解決手段】（Ａ）特定の構造を有する、水酸基と反応可能な架橋剤を含有する含フッ素化合物、および（Ｂ）含フッ素ビニルモノマー重合単位および水酸基含有ビニルモノマー重合単位を、それぞれ少なくとも１種含有する含フッ素ポリマーバインダー、を含有することを特徴とする硬化性組成物。 （もっと読む）

【解決手段】(A)式(1)〜(3)の化合物を含む加水分解性シランモノマー混合物の共加水分解・縮合により得たシリコーン樹脂、
(B)酸発生剤、
(C)含窒素有機化合物、
(D)有機溶剤
を含有するレジスト組成物。


R³R⁴_qSiX_3-q (2)
R⁵R⁶_rSiX_3-r (3)
(R¹はフッ素原子、アルキル基又はフッ素化されたアルキル基。R²は炭化水素基、R³は官能基として酸分解性保護基で保護されたカルボキシル基を持つ有機基、R⁴はR²と同定義、R⁵は官能基としてラクトン環を有する有機基、R⁶はR²と同定義。Xは水素原子、塩素原子、臭素原子又はアルコキシ基、pは0又は1、qは0又は1、rは0又は1。)
【効果】本発明のレジスト組成物は、従来の近接位炭素がフッ素化されたアルコールを極性基として使用したレジスト組成物に対し同等以上の解像性を示し、酸素反応性エッチングにおいて有機材料である下層膜との間でエッチング選択比がとれないという問題を解決でき、ArF露光における2層レジスト法に好適である。 （もっと読む）

【解決手段】(A)式(1)、(2)、(3)の化合物を含む加水分解性シランモノマー混合物の共加水分解・縮合により得たシリコーン樹脂、
(B)酸発生剤、
(C)含窒素有機化合物、
(D)有機溶剤
を含有するレジスト組成物。


R⁵R⁶_qSiX_3-q (2)
R⁷R⁸_rSiX_3-r (3)
(R¹、R²、R³は水素原子、フッ素原子、アルキル基又はフッ素化されたアルキル基で、少なくとも一つはフッ素原子を含む。R⁴は炭化水素基、R⁵は官能基として酸分解性保護基で保護されたカルボキシル基を持つ有機基、R⁶はR⁴と同定義、R⁷は官能基としてラクトン環を有する有機基、R⁸はR⁴と同定義。Xは水素原子、塩素原子、臭素原子又はアルコキシ基、pは0又は1、qは0又は1、rは0又は1。)
【効果】本発明のレジスト組成物は、従来の近接位炭素がフッ素化されたアルコールを極性基とする組成物と同等以上の解像性を示し、酸素反応性エッチングにおけるエッチング選択比の問題もなく、ArF露光の２層レジスト法に好適である。 （もっと読む）

本発明は、特に光導波路に使用可能なケイ酸縮合生成物であって、（Ａ）一般式（１）：Ｒ^１_２Ｓｉ（ＯＲ^２）_２〔式中、Ｒ^１は、少なくとも１個の芳香族基を有する炭素原子数が６〜２０個の基を表し、Ｒ^２は、Ｈ（Ｈは重水素Ｄであってよい）を表す。〕で示されるシランジオール化合物と、（Ｂ）一般式（２）：Ｒ^３Ｓｉ（ＯＲ^４）_３〔式中、Ｒ^３は、少なくとも１個のＣ＝Ｃ二重結合を有する有機基を表し、Ｒ^４は、Ｃ_ｎＨ_２ｎ＋１（ｎ＝１または２の数である）を表す。〕で示される変性シラン化合物を、（Ａ）：（Ｂ）のモル比として１．１〜１．４：１の範囲内で縮合させることにより得られる縮合生成物及びその製造方法、並びに該生成物を使用してなる光導波路デバイスに関する。 （もっと読む）

【課題】硫黄官能線状ポリオルガノシロキサンを提供すること。
【解決手段】上記課題は、不飽和エラストマーと反応できる、化学的に保護された硫黄基を含む、硫黄官能線状ポリオルガノシロキサンを含んでなる組成物により解決する。特定の条件下で、硫黄基は、不飽和エラストマーと反応してもよい。前記硫黄官能線状ポリオルガノシロキサンが更にフィラー表面とカップリングできる官能基を含むことが好ましい。本発明は、硫黄官能線状ポリオルガノシロキサンを製造・使用する方法に関する実施形態を含んでもよい。 （もっと読む）

【課題】ケイ素含有ポリマーおよびそのポリマーから形成される光導波路の提供。
【解決手段】式Ｓｉ（ＯＲ^１）_３の第一反応物質および式Ｒ^２Ｏ（Ｒ^３_２Ｓｉ−Ｏ）_ＸＯＲ^４の第二反応物を含むケイ素含有反応物質の縮合生成物を含むポリマーが提供される。また、光導波路の形成において使用するのに好適な当該ポリマーを含む組成物、並びに当該ポリマーから形成される光導波路も提供される。これらのポリマー、組成物および光導波路は、電気的および光学的機能性を有するプリント配線基板の形成における特定の用途を有している。 （もっと読む）

【課題】 新規な含フッ素オルガノポリシロキサン、その製造方法、およびそれを含有し、均質で透明性を有し、表面潤滑性に優れた皮膜を形成する有機ポリマー組成物を提供する。
【解決手段】 一般式：
【化１】


｛式中、Ｒ¹は置換もしくは非置換の一価炭化水素基（但し、式：−ＣＦ₃で表される基を少なくとも２個含有するフッ素置換一価炭化水素基を除く）、Ｘは、式：−ＣＦ₃で表される基を少なくとも２個含有するフッ素原子含有有機基、Ｙは、一般式：−Ｒ²−(ＳiＲ¹₂)_a−Ｑ（式中、Ｒ¹は前記と同じ、Ｒ²はアルキレン基、Ｑはポリスチレン系残基、ａは０または１）で表される基、Ｚは、Ｒ¹、Ｘ、Ｙ、水酸基、水素原子、およびアルコキシ基からなる群より選択される基、ｌは０以上の整数、ｍは０以上の整数、ｎは１以上の整数、但し、ｍが０である場合、Ｚの少なくとも一つはＸである。｝で表される含フッ素オルガノポリシロキサン。 （もっと読む）

【課題】 新規な含フッ素オルガノポリシロキサン、およびその製造方法を提供することにあり、また、本発明の他の目的は、このような含フッ素オルガノポリシロキサンを含有し、均質で透明性を有し、表面潤滑性に優れた皮膜を形成する有機ポリマー組成物を提供する。
【解決手段】 一般式：
【化１】


｛式中、Ｒ¹はフッ素原子含有有機基もしくはフッ素原子を有さない一価炭化水素基、但し、少なくとも１個のＲ¹はフッ素原子含有有機基、Ｚは、前記Ｒ¹、一般式(Ｉ)：−[Ｒ²−(ＳiＲ¹₂)_a]_b−Ｑ（式中、Ｒ¹は前記と同じ、Ｒ²はアルキレン基、Ｑはポリスチレン系残基、ａは０または１であり、ｂは０または１である）で表される基、水酸基、水素原子、およびアルコキシ基からなる群より選択される基、但し、Ｚの少なくとも一つは前記一般式(Ｉ)で表される基、ｍは１以上の整数である｝で表される含フッ素オルガノポリシロキサン。 （もっと読む）

【課題】ポッティング成型が可能であり、無色透明で耐久性に優れ、しかも、はんだリフローやヒートサイクルに対してクラックを生じにくい光半導体封止材を形成しうる光半導体用封止用組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）エポキシ当量が１５０〜６００ｇ／モルでありかつガラス転移温度が−８０℃〜１５０℃であるポリスチレン換算重量平均分子量５００〜１，０００，０００のエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンおよび（Ｂ）エポキシ当量が６００ｇ／モルを超えそして１，６００ｇ／モル以下でありかつガラス転移温度が−５０℃以下であるポリスチレン換算重量平均分子量５００〜１，０００，０００のエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンならびに（Ｃ）シクロヘキサントリカルボン酸および／またはその無水物を含有する光半導体封止用組成物。 （もっと読む）

【課題】ポッティング成型が可能であり、無色透明で耐久性に優れ、しかも、はんだリフローやヒートサイクルに対してクラックを生じにくい光半導体封止材を形成しうる光半導体用封止用組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）エポキシ当量が１５０〜６００ｇ／モルでありかつガラス転移温度が−８０℃〜１５０℃であるポリスチレン換算重量平均分子量５００〜１，０００，０００のエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンおよび（Ｂ）エポキシ当量が６００ｇ／モルを超えそして１，６００ｇ／モル以下でありかつガラス転移温度が−５０℃以下であるポリスチレン換算重量平均分子量５００〜１，０００，０００のエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを含有する光半導体封止用組成物。 （もっと読む）

本発明は、ａ）一般式（Ｉ）ＣＦ₃（ＣＦ₂）_n（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＣＨ₃）_yＸ_3-y（Ｉ）［式中、Ｘは塩素、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ及びｎ−プロポキシの系列からの基であり、ｎは３、４、５、６、７、８及び９の系列からの数であり、ｙは０又は１である］の少なくとも１種の加水分解可能なフルオロアルキルシラン、ｂ）ＨＣｌ、ｃ）水、ｄ）イソプロパノール、及びｅ）ドデカンの成分をベースとし、かつシラン成分（ａ）：水のモル比が１：４．５〜１：９であることを特徴とする特別なコーティング組成物に関する。本発明は更に、そのような組成物の製造法、及び、滑らかな無機基材表面に耐摩耗性及び耐候性の易洗浄性コーティングを施与するための該組成物の使用に関する。 （もっと読む）

本発明は、ａ）一般式（Ｉ）ＣＦ₃（ＣＦ₂）_n（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＣＨ₃）_yＸ_3-y（Ｉ），［式中、Ｘは塩素、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ及びｎ−プロポキシの系列からの基であり、ｎは３、４、５、６、７、８及び９の系列からの数であり、ｙは０又は１である］の少なくとも１種の加水分解可能なフルオロアルキルシラン、ｂ）ＨＣｌ、ｃ）水、ｄ）イソプロパノール、及びｅ）アルコール、グリコール、グリコールエーテル、エーテル、エステル、ケトン及び脂肪族炭化水素及び芳香族炭化水素の系列からの少なくとも１種の他の溶剤及び／又は希釈剤の成分をベースとし、かつシラン成分（ａ）：水のモル比が１：４．５〜１：９であることを特徴とする特別なコーティング組成物に関する。本発明は更に、そのような組成物の製造法、及び、滑らかな無機基材表面に耐摩耗性及び耐候性の易洗浄性コーティングを施与するための該組成物の使用に関する。 （もっと読む）

【課題】 本願発明の目的は、鎖状及び／又は環状のポリオルガノシロキサン化合物と炭素−炭素二重結合とエポキシ基を有する化合物とをヒドロシリル化反応させた後、ゲル化させずに反応液中の未反応化合物及び溶剤を減圧下で留去させる方法を提供する。
【解決手段】
（Ａ）１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を有する鎖状及び／又は環状のポリオルガノシロキサン化合物と、（Ｂ）ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合とエポキシ基を１分子中に少なくとも各１個含有する有機化合物とを、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させてエポキシ基含有オルガノシロキサン化合物を製造する方法において、前記化合物（Ａ）及び化合物（Ｂ）の反応終了後、前記反応液に（Ｄ）リン含有化合物を添加し、減圧下で未反応化合物及び溶剤を除去することを特徴とする、エポキシ基含有オルガノシロキサン化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】耐熱性およびレジスト塗布性に優れた低屈折率の透明硬化膜を形成する樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）少なくとも一般式（１）で表されるフッ素含有シラン化合物および一般式（２）で表されるエポキシ基含有シラン化合物を共重合成分とするフッ素含有シロキサンポリマーを含有することを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。Ｒ^１_ｍＳｉ（ＯＲ^２）_４−ｍ （１）（ただし、Ｒ^１はフッ素数３〜１７のフルオロアルキル基を表す。）Ｒ^３_ｎＳｉ（ＯＲ^４）_４−ｎ （２）（ただし、Ｒ^３は水素原子の一部がエポキシ基で置換されたアルキル基を表す。） （もっと読む）

【課題】高温高湿環境下での屈折率の変動を低減することが光学樹脂材料を得る。
【解決手段】分子中に少なくとも１つの水酸基を有する金属アルコキシドの加水分解・重縮合生成物と、揮発性の低分子成分と、有機重合体を含む光学樹脂材料であって、揮発性の低分子成分が、金属アルコキシドの加水分解・重縮合生成物の水酸基と、結合可能な極性基（例えば、カルボン酸基、カルボニル基、及び水酸基など）を有することを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】安全であって、より高収率なポリシランの製造方法を提供すること。
【解決手段】一般式（１）で示される少なくとも１種のハロシランを、金属ナトリウムの存在下で反応させてポリシランを合成する工程、及び低級アルコールを添加する工程を含むポリシランの製造方法において、ポリシランの合成に用いるハロシランに含まれるハロゲン原子の総モル数に対して０．９５〜１．２倍のモル数の金属ナトリウムを用い、低級アルコールを金属ナトリウムに対して０．０５〜０．３当量用いることを特徴とするポリシランの製造方法である。本製造方法において、一般式（１）で示されるハロシランに加えて、一般式（２）で示されるハロシラン及び／又は一般式（３）で示されるハロシランを反応させてポリシランを合成してもよい。 （もっと読む）

【課題】反射率が極めて低く、良好な光線透過率、帯電防止性を有し、表面の耐擦傷性が特に優れる反射防止フィルム、およびそれを組み込んだ画像表示装置を提供する。
【解決手段】基材フィルムの片面に、ハードコート層、アクリル系樹脂および導電性金属酸化物微粒子を主成分とする高屈折率層および、シリカ系微粒子と均質化されているシロキサンポリマーを主成分とする低屈折率層の少なくとも３層が、ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層の順で該基材フィルム上に積層されている反射防止フィルムであって、下記シロキサン化合物（１）と下記シロキサン化合物（２）からなる縮合体化合物が、該高屈折率層中に、該高屈折率層に対して０．００１〜２０質量％含まれている反射防止フィルム。 （もっと読む）

【課題】耐久性の優れた撥水、撥油性樹脂基体を提供することを目的とする。
【解決手段】表面に加水分解可能な樹脂層を有する樹脂基板表面にシロキサン結合を有する膜を設けた樹脂基体としたもので、この構成によると、加水分解可能な樹脂層とシロキサン結合を有する膜が強固に結合し、また、加水分解可能な樹脂層と樹脂基板は熱膨張の差が小さいため密着力に優れるため、耐久性の優れたシロキサン結合を有する膜が設けられた基体を提供できる。 （もっと読む）

【課題】高湿環境下で繰り返し使用しても優れた特性を維持し得る帯電部材、ならびに、該帯電部材を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供する。
【解決手段】ＳｉＯ_0.5Ｒ¹（ＯＲ²）（ＯＲ³）で示される第１のユニット、ＳｉＯ_1.0Ｒ⁴（ＯＲ⁵）で示される第２のユニットおよびＳｉＯ_1.5Ｒ⁶で示される第３のユニットを有するポリシロキサンを含有する表面層を有する帯電部材であって、該ポリシロキサン中の該第１ユニットのモル数をｘ［mol］とし、該第２ユニットのモル数をｙ［mol］とし、該第３ユニットのモル数をｚ［mol］としたとき、０．６０≦｛（ｘ＋ｙ）／（ｘ＋ｙ＋ｚ）｝≦０．８０である帯電部材。（上記Ｒ¹、Ｒ⁴およびＲ⁶は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換のアルキル基、または、置換もしくは無置換のアリール基を示し、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁵は、それぞれ独立に、水素原子、または、置換もしくは無置換のアルキル基を示す。） （もっと読む）