【課題】十分な解像度を持ち、露光マージンが広く、平坦化性能に優れ、高温の加熱工程を経ても高い透明性を維持することができ、金属配線を経時劣化することのない配線隔壁形成用感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】上記感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）（ａ−１）アリール基を有するアルコキシシラン化合物５０〜９９重量％、（ａ−２）アルキル基を有するシラン化合物１〜４５重量および（ａ−３）その他のアルコキシシラン化合物０〜５重量％を重縮合してなるポリシロキサンならびに（Ｂ）放射線の照射を受けて酸を発生する化合物を含有する。 （もっと読む）

【課題】耐熱性および耐光性が高く、特に高温環境下、高強度の光照射によっても電圧保持率の低下が少なく、且つ静電気リーク性に優れる液晶配向膜を形成することができる液晶配向剤を提供すること。
【解決手段】上記液晶配向剤は、エポキシ当量が５０〜１０，０００ｇ／モルであり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量は１，０００〜１００，０００である、エポキシ基を有する特定のポリオルガノシロキサンを含有する。 （もっと読む）

本発明は、ＭＱ（ＯＨ）型のヒドロキシル化シリコーン樹脂Ａと、ヒドロキシル化シリコーンゴムＢと、Ｄ^Vi及び／又はＭ^Vi単位を有する、ＭＱ型又はＭＱ（ＯＨ）型のビニル官能性シリコーン樹脂Ｅである第３成分と、を含むシリコーン組成物に関するものである。また、本発明は、当該シリコーン組成物の製造方法、当該架橋シリコーン組成物で少なくとも部分的に覆われた支持体を備える複合材、及び、当該シリコーン組成物の、支持体上に接着力を付与する目的で該支持体の表面を完全に又は部分的に被覆するための使用に関するものでもある。 （もっと読む）

【課題】ケイ素原子１つに２つのカルボキシル基が結合されており、カルボキシル基の反応性が高く、且つ油剤との親和性が高いオルガノポリシロキサンを提供する。
【解決手段】下記平均組成式（１）で表されるオルガノポリシロキサン。


ここでＲ^２は下記式（２）で表される基であり、ｃが０の場合にはＲ^２は該オルガノポリシロキサンの少なくとも一の末端に結合されており、


Ｒ^３は下記式（３）で表される基であり、


ａは１．５〜２．５の数、ｂは０．００１〜１．５の数、ｃは０〜１．５の数である。 （もっと読む）

【課題】耐水性及び油剤への分散性に優れた粉体及びその分散物、特に化粧料に好適な分散物、を提供する。
【解決手段】下記平均組成式（１）で表されるオルガノポリシロキサンにより表面処理された粉体。


［ここで、Ｒ^１は炭素原子数１〜３０のアルキル基、炭素原子数１〜３０のフロロアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、及び炭素原子数６〜３０のアラルキル基から選択される基であり、Ｒ^２はジエステルを有する置換基であり、Ｒ^３はオルガノポリシロキサンを有する置換基である。］ （もっと読む）

【課題】 極少量の添加で優れた耐汚染性および汚染拭取り性を発現し、且つ塗膜硬度などの塗膜物性を損なうことのないＵＶ反応性改質剤、およびこれを含有してなるＵＶ硬化型樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 炭素数４−２０のエーテル型酸素原子を有していても良いパーフルオロアルキル基および／又は炭素数２−１０のパーフルオロアルキル基とポリジメチルシロキサン鎖が下記一般式（Ｉ）で表される連結基により結合した（メタ）アクリレート化合物、これを含有するＵＶ硬化型樹脂組成物。（式中、Ｒ^１は炭素数１−４のアルキレン鎖、Ｒ^２はアクリロイル基、Ｒ^３は、炭素数１−４のアルキレン鎖、Ｘは酸素原子、硫黄原子を表す。）
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【課題】レジスト膜との密着性に優れ、レジストパターンの再現性を向上させるとともに、現像等に用いられるアルカリ液及びレジスト除去時の酸素アッシングに対して耐性を有し、レジスト材料の染み込み量が少ないレジスト下層膜を形成することができ、且つ保存安定性に優れるレジスト下層膜用組成物を提供する。
【解決手段】本レジスト下層膜用組成物は、側鎖にアルキルスルホンアミド基を含有する構成単位、およびそれぞれ他の特定構造を有する２種類の構成単位を含有するポリシロキサンと、溶剤と、を含む。 （もっと読む）

ゾルゲル組成物、ゾルゲル組成物前駆体、および光パターン形成された構造を基板上で製作する方法を、本明細書中に記載する。本ゾルゲル組成物は、金属酸化物または金属アルコキシドを組み込まずして、高屈折率と低光損失の組み合わせを有する。本ゾルゲル組成物は、特に、１３００〜１６００ｎｍのテレコミュニケーション波長範囲における導波管製作への応用においてさらに有用である。さらに、本明細書中に記載するゾルゲル組成物を用いた、パターン形成された構造の製作は、例えば、シリコン・オン・シリカの基板およびモリブデン・オン・ガラスの基板をはじめとした種々の基板において達成することができる。
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【解決手段】被加工基板上に、化学増幅ポジ型レジスト組成物を塗布し、レジスト膜を形成する工程、該膜に第１ポジ型パターンを得る工程、更に該ポジ型パターンに反転膜形成用組成物に使用される有機溶剤への耐性を与える工程、第２化学増幅ポジ型レジスト材料で反転膜を形成し、該膜に第２ポジ型パターンを得る工程を含み、更に第２ポジ型レジストパターンを得るアルカリ現像液工程において、上記アルカリ性現像液に可溶に反転された第１ポジ型パターンが、第２パターンを得る工程中に溶解除去、反転転写される工程を含むダブルパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、ヒドロキシ基含有溶剤や高極性溶剤を用い反転用膜の第２レジスト膜を成膜しても、第１ポジ型レジストパターンにダメージを与えず、間隙に第２レジスト材料を埋め込むことができ、第１ポジ型パターンを現像液でアルカリ可溶除去でき、簡易な工程で高精度なポジネガ反転を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】シリコーン油及びシリコーン油以外の有機オイルに対して、高い増粘性効果を示し、べたつき感の無いペーストを与えるポリシロキサン重合物及びその製法を提供する。
【解決手段】主鎖が下記繰り返し単位（Ｉ）からなり、側鎖エチレン基によって結合されたシロキサン側鎖、及びシロキサンの架橋構造を含み、自重以上の油剤を含んで膨潤することを特徴とするオルガノポリシロキサン。


［式中Ｒ^１は、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、フッ素置換アルキル基、−Ｃ_ｊＨ_２ｊＯ（Ｃ_ｋＨ_２ｋＯ）_ｂＲ^４で表される基からなる群より選択される有機基である］ （もっと読む）

少なくともひとつの末端メチルイソプロピルケトキシミノ又はメチルケトキシミノ部位を有するオルガノシロキサン単位又はポリウレタン単位を含む室温（ＲＴＶ）ポリマー成分、ならびにその製造方法。 （もっと読む）

【課題】 ＤＣ接触帯電方式に用いても、帯電均一性に優れ、長期に亘って安定した帯電および画像出力が可能な帯電部材を提供する。
【解決手段】 支持体、該支持体上に形成された導電性弾性層、および該導電性弾性層上に形成された被覆層を有する帯電部材において、該被覆層が、Ｆ及びＳｉを含有する化合物を含有し、該被覆層の最外表面におけるＦ原子とＳｉ原子との濃度比（Ｆ／Ｓｉ＝Ｒ０）が該被覆層の該導電性弾性層と接する面におけるＦ原子とＳｉ原子との濃度比（Ｆ／Ｓｉ＝Ｒ１）よりも高くすることである。 （もっと読む）

一般式ＱＲ_aＳｉＯ_(3-a)/2（Ｉ）ＥＲ_bＳｉＯ_(3-b)/2（ＩＩ）及びＲ_cＳｉＯ_(4-c)/2（ＩＩＩ）、その際、Ｒは、同じであるか、又は異なっており、且つ一価の、場合によりハロゲン化された炭素原子１〜１８個を有する炭化水素基を意味し、Ｅは、エポキシ基を含有する、炭素原子３〜１８個を有する一価のＳｉＣ結合した有機基を意味し、Ｑは、第四級アンモニウム基が開環エポキシ基によってケイ素原子に結合している、一価のＳｉＣ結合した有機基を意味し、ａは、０、１又は２であり、ｂは、０、１又は２であり、且つｃは、０、１、２又は３である、の単位を含有する、第四級アンモニウム基を有するオルガノポリシロキサンであって、但し、前記オルガノポリシロキサンは、それぞれ式（Ｉ）及び（ＩＩ）の少なくとも１個の単位を含有し、且つ基Ｑ／Ｅの比率は、平均的に０．２〜１００、好ましくは０．５〜２０、有利には１〜１０の範囲である。 （もっと読む）

【課題】ＳｉＨ官能性分岐シロキサンを調製する方法を提供する。
【解決手段】本発明は、１種またはそれ以上の低分子量ＳｉＨ官能性シロキサン、１種またはそれ以上の、ＳｉＨ基を含まない低分子量シロキサン、および１種またはそれ以上のトリアルコキシシランの混合物を、少なくとも１種のブレンステッド酸触媒の存在下に水を加えて転化させることによる、ＳｉＨ官能性分岐シロキサンの調製方法であって、この反応が、１回の処理工程で実施されることを特徴とする方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】水溶性、活性エネルギー線硬化性、水性インクの形成材料などに用いた場合の安定性に優れた活性エネルギー線硬化型液体組成物の提供。
【解決手段】少なくとも、アミノ基を含有する加水分解性シランの縮合物に、下記一般式（Ｉ）で示される化合物を付加させてなる反応物を含んでなることを特徴とする活性エネルギー線硬化型液体組成物。
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【課題】水溶性、活性エネルギー線硬化性、水性インクの形成材料などに用いた場合の安定性に優れた活性エネルギー線硬化型液体組成物の提供。
【解決手段】少なくとも、環状エーテル基を含有する加水分解性シランの縮合物に、下記一般式（Ｉ）で示される化合物を付加させてなる反応物を含んでなることを特徴とする活性エネルギー線硬化型液体組成物。
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【課題】３．７以下の誘電率を有するシリカ系の材料及び膜、並びにそれを作製及び使用するための組成物及び方法を提供すること。
【解決手段】シリカ系材料を調製するための組成物であって、少なくとも１つのシリカ源と、溶剤と、少なくとも１つのポロゲンと、任意選択で触媒と、任意選択で流動添加剤とを含み、該溶剤が、９０℃〜１７０℃の温度で沸騰し、化学式、ＨＯ−ＣＨＲ⁸−ＣＨＲ⁹−ＣＨ₂−ＣＨＲ¹⁰Ｒ¹¹（式中、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹は、独立して１〜４個の炭素原子のアルキル基又は水素原子であることができる）；Ｒ¹²−ＣＯ−Ｒ¹³（式中、Ｒ¹²は３〜６個の炭素原子を有する炭化水素基であり；Ｒ¹³は１〜３個の炭素原子を有する炭化水素基である）；及びそれらの混合物によって表される化合物から成る群より選択された組成物によって上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】 高い透明性と高い反射防止性能を有する被膜付基材を提供することを目的とする。
【解決手段】 中空粒子を８５〜１００重量％含有する被膜を有する被膜付基材。マトリックス樹脂を含有しない中空シリカ・シリコーン粒子あるいは有機重合体被覆中空シリカ・シリコーン粒子は凝集のない均一な被膜を基材上に形成し、高い透明性と高い反射防止性能を有する被膜付基材を提供することを見出した。 （もっと読む）

【課題】貯蔵保管時にアルコキシシラン縮合物の分子量の増大が抑制されており、薄膜形成用組成物の粘度の上昇が生じ難く、従って、膜厚が均一であり、微細パターン形状を有する薄膜を高精度に形成することを可能とする薄膜形成用組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】アルコキシ基を有するアルコキシシランを水の存在下で加水分解縮合させることにより、アルコキシシラン縮合物と、水と、アルコキシ基に由来するアルコールとを含む溶液を得る工程と、溶液を加熱し、水とアルコールとを共沸させることにより、脱水し、薄膜形成用組成物を得る工程とを備え、得られた薄膜形成用組成物中に含まれているアルコキシシラン縮合物に対する残存アルコールのモル比が、アルコキシシラン縮合物の縮合速度Ｒに応じて図１の破線Ｘで囲まれている範囲内とされている、薄膜形成用組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、耐光性、ハウジング材等への密着性が優れ、硬化させた硬化物が優れた透明性を有するとともに、高い屈折率を有する光半導体用封止剤、及び、これを用いてなる光半導体素子を提供する。
【解決手段】分子内に脂肪族炭化水素基或いはそのフッ素化物基と環状エーテル含有基を有するシリコーン樹脂と、前記環状エーテル含有基と反応する熱硬化剤とを含有する光半導体用封止剤であって、２ｍｍ厚の硬化物としたときに、該硬化物は、波長４００ｎｍの光の透過率が９０％以上であり、かつ、屈折率が１．４以上である光半導体用封止剤。 （もっと読む）