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Fターム[4J246CA46]の内容

珪素重合体 (47,449) | Si上の一価の基 (11,590) | Siの次位にC;そのCが異種原子含有炭化水素基 (4,121) | ハロゲン含有炭化水素基 (486) | F原子含有←トリフルオロプロピル (298)

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【課題】反応における多分散性を改良するSi−H官能性シロキサンオリゴマーを調製するための新規な反応機構の提供。
【解決手段】水素化シリコン化合物と環状シロキサンオリゴマーとの間の反応に基づくSi−H官能性シロキサンオリゴマーの製造方法であって、水素化シリコン中の水素と相互に作用し、環状シロキサンオリゴマーの中の開環を促進できるルイス酸の存在下で、ケイ素原子と水素原子との間へのシロキサンオリゴマー部分を挿入させ、Si−H官能性シロキサンオリゴマーを形成させる方法。 (もっと読む)


【課題】良好な耐溶媒性を所有する一方で、処理が容易で、かつ使用の前後で安定であるシリコーンベースのPSA組成物の提供。特に高度な耐溶媒性を必要とする感圧接着組成物における粘着付与剤としての使用に特に適する、フルオロアルキルシリル化MQ樹脂の提供
【解決手段】式1で表される化合物の使用。当該使用によりPSA組成物に対して例外的に高いレベルの耐溶媒性が提供され、高レベルの溶媒及び/又は長い溶媒への曝露時間を伴う環境への使用にとり理想的なものとなる。 (もっと読む)


希釈オルガノポリシロキサンポリマーの製造方法であって、(i)有機希釈材料、適当な触媒及び末端封鎖剤の存在下で、環状オルガノポリシロキサンモノマーを重合させることによってオルガノポリシロキサンポリマーを調製する工程と、(ii)必要とされる場合に重合プロセスを失活させる工程とを含み、希釈材料が、得られる希釈オルガノポリシロキサン中に実質的に保持される、希釈オルガノポリシロキサンポリマーの製造方法。 (もっと読む)


【課題】光エレクトロニクス材料として有用な新規な高分子化合物を提供する。
【解決手段】式(1)で示されるシルセスキオキサン骨格をポリマー主鎖中に有する高分子化合物を提供する。
化1


式(1)において、X及びYは独立して水素原子、または炭素数1〜40の1価有機基を示す。 (もっと読む)


【課題】分子量制御性、耐溶剤性、耐熱性、耐湿性に優れ、更には、分子量の制御された安定した品質の低光伝送損失、低複屈折である光導波路材料を提供する。
【解決手段】式(1−0)で示されるシルセスキオキサン誘導体を用いて得られる重合体を用いて光導波路を作製する。


式(1−0)において、R0は独立して水素、炭素数1〜40のアルキル、任意の水素がハロゲンまたは炭素数1〜20のアルキルで置き換えられてもよいアリール、またはアリールにおける任意の水素がハロゲンまたは炭素数1〜20のアルキルで置き換えられてもよいアリールアルキルであり、Yは式(a)または式(b)で示される基である。
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本発明は、アミノメチル末端のポリジメチルシロキサンと、ジイソシアナートと、場合により鎖長延長剤との反応から得られた一般式(1)
B−{[NR−CR−SiR−(O−SiR−CR−NR−CO−NH−Y−NH−CO]−[Z−D−Z−CO−NH−Y−NH−CO]−[NR−CR−SiR−(O−SiR−CR−NR−CO−NH−Y−NH−CO−NH−Y−NH−CO]−B
のオルガノポリシロキサン/ポリ尿素/ポリウレタン−ブロックコポリマー、その製造方法並びにその使用に関する。 (もっと読む)


【課題】伝導性の有機無機複合体組成物及びその製造方法、組成物を利用して製造された伝導性の有機無機複合体薄膜、伝導性の有機無機複合体薄膜を備える有機電界発光素子、及び有機電界発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】伝導性の高分子単量体、酸化剤及びアルコール溶媒を含む混合溶液と、有機ケイ素化合物、水、酸触媒及びアルコール溶媒を含むシリカゾル溶液と、を混合して製造された伝導性の有機無機複合体組成物及びその製造方法、組成物を利用して製造された伝導性の有機無機複合体薄膜、伝導性の有機無機複合体薄膜を備える有機電界発光素子、及び有機電界発光素子の製造方法である。これにより、疎水性であり、かつ水及び有機溶媒に不溶性であり、機械的強度にすぐれ、熱的、化学的に安定しており、またその組成を多様に調節できる伝導性の有機無機複合体組成物を提供できる。 (もっと読む)


本発明は、電子材料、光学材料、コーティング材料、シーリング材料または触媒担持体として有用であり、さらに高分子材料の難燃性、耐熱性、耐候性、耐光性、電気絶縁性、表面特性、硬度、力学的強度、または耐薬品性などの各種物性を向上させるための添加剤としても利用できる新規な有機ケイ素化合物およびポリシロキサンを提供する。即ち本発明は、式(1)で示される有機ケイ素化合物、および該有機ケイ素化合物を単量体として含有するポリシロキサンである。

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【課題】 本発明の課題は、応答速度の速い液晶組成物、及び該液晶組成物を含有する液晶素子の提供である。
【解決手段】 シロキサンポリマーと、フッ素原子で置換されたネマチック液晶と、二色性色素とを含む液晶組成物、及び該液晶組成物を含む液晶素子。 (もっと読む)


【課題】 優れた紫外線吸収性を示し、アルコキシシリル基を有する新規な紫外線吸収性基含有有機ケイ素化合物及びその製造方法、並びに耐熱性及び耐水性に優れ、該化合物を安定にコーティング膜中に保持することが可能なコーティング組成物、及びこの組成物の硬化皮膜にて被覆してなる被覆物品を提供する。
【解決手段】 式(1)又は(2)の紫外線吸収性基含有有機ケイ素化合物。
【化1】


[R1はアルキル基又はアリール基、R2はアルキル基、R31は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、アリール基又はアシロキシ基、R32〜R34は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基又はアルコキシ基、R35はエステル結合含有二価有機基、R36は二価炭化水素基、aは0〜2、Zは式(3)
【化2】


の基、Rは水素原子又は一価炭化水素基、R2はアルキル基、0<m≦1、0≦n≦2、0≦p<3、0≦q≦3、0<m+n+p+q<4] (もっと読む)


【課題】電子材料、光学材料、コーティング材料、シーリング材料または触媒担持体として有用であり、さらに高分子材料の難燃性、耐熱性、耐候性、耐光性、電気絶縁性、表面特性、硬度、力学的強度、または耐薬品性などの各種物性を向上させるための添加剤としても利用できる新規な有機ケイ素化合物およびポリシロキサンの提供。
【解決手段】式(1)で示される有機ケイ素化合物、および該有機ケイ素化合物を単量体として含有するポリシロキサン。
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この発明は、重付加反応により架橋可能なポリオルガノシロキサン組成物に関するものである。この発明は、少なくとも一のSi−アルケニルユニット、好ましくはSi−ビニルを含み、該組成物に架橋前に加えられるポリオルガノシロキサン樹脂(D)のヒドロシリル化により架橋されるシリコーンエラストマー組成物の黄変を低減させるための利用に関係する。 (もっと読む)


【課題】放射線によって硬化し、耐擦傷性、耐摩耗性に優れ、低屈折率で反射防止フィルムに使用した場合、反射率の低い感光性樹脂組成物、更にはその硬化皮膜を有するフィルムを提供する。
【解決手段】下記一般式(1)
fSi(OR13・・・(1)で表されるフッ素原子を有するアルコキシケイ素化合物同士か、又は前記一般式(1)で表されるフッ素原子を有するアルコキシケイ素化合物と下記一般式(2)ReSi(OR23・・・(2)で表されるエポキシ基を有するアルコキシケイ素化合物とを、塩基性触媒の存在下に、縮合させて得られるフッ素原子含有ケイ素化合物(A)、光カチオン重合開始剤(B)、幹部分がフッ素系ポリマーで、枝部分がシリコーンで構成された櫛型ポリマー(C)及びフッ素原子を有する高分子化合物(D)を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】 超強酸により製造されたオルガノポリシロキサン中の該超強酸を効率良く中和できる、オルガノポリシロキサンの製造方法を提供する。
【解決手段】 トリフルオロメタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸等の超強酸により製造されたオルガノポリシロキサン中の該超強酸を、塩化ナトリウム、塩化カリルム等のアルカリ金属のハロゲン化物またはアルカリ土類金属のハロゲン化物で中和し、生成した中和塩およびハロゲン化水素を分離することを特徴とするオルガノポリシロキサンの製造方法。 (もっと読む)


【課題】 アニオン系界面活性剤と水の存在下で、低重合度オルガノポリシロキサンを酸触媒を用いて乳化重合反応させることによるオルガノポリシロキサンエマルジョンの製造方法において、優れた貯蔵安定性を有するオルガノポリシロキサンエマルジョンを製造する方法を提供する。
【解決手段】アニオン系界面活性剤と水の存在下で、低重合度オルガノポリシロキサンを酸触媒を用いて乳化重合反応させることよるオルガノポリシロキサンエマルジョンの製造方法において、中和剤を投入して乳化重合反応を停止させる工程において、前記のアニオン系界面活性剤と同種又は異種のアニオン系界面活性剤を、中和剤の投入前に投入、あるいは中和剤と同時に投入することを特徴とするオルガノポリシロキサンのエマルジョンの製造方法。 (もっと読む)


【課題】 水に不溶で塩基水溶現像液に可溶な上面反射防止コーティング材料/障壁層を提供すること。
【解決手段】 上面反射防止コーティング材料(TARC)及び障壁層、並びにそれらのリソグラフィ工程における使用法が開示される。TARC/障壁層は、特に、画像形成媒体として水を用いる浸漬リソグラフィに対して有用である。TARC/障壁層は、少なくとも1つのシリコン含有部分と少なくとも1つの塩基水溶液に可溶な部分とを備えたポリマーを含む。適切なポリマーは、構造
【化1】


を有するモノマーを含んだポリマーなど、シルセスキオキサン(梯子状又は網目状)構造を有するポリマーを含むが、ここで、R1は塩基水溶液に可溶な部分を含み、xは1から1.95まで、より好ましくは1から1.75までである。 (もっと読む)


脱ガス現象を低減することができるシルセスキオキサン樹脂、ポジ型レジスト組成物、レジスト積層体、レジストパターン形成方法が提供され、またイマージョンリソグラフィーに好適なシリコン含有レジスト組成物及びレジストパターン形成方法が提供される。上記シルセスキオキサン樹脂は、下記一般式[式中、R及びRは、それぞれ独立に、直鎖状、分岐状又は環状の飽和脂肪族炭化水素基;Rは単環又は多環式基を含有する炭化水素基からなる酸解離性溶解抑制基;Rは水素原子、もしくは直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基;Xは、少なくとも1つの水素原子がフッ素原子で置換された炭素数1〜8のアルキル基;mは1〜3の整数]で表される構成単位を有する。

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【解決手段】 合成樹脂製透明基材の最外層に設けられたF原子及びSi原子を含む3次元架橋された反射防止膜であり、
(I)架橋構造は、Si−O−Si結合及びSi−C24−(CF2n−C24−Si結合(nは4又は6)で構成されており、
(II)反射防止膜中のF原子とSi原子の比率がF/Si=8.0〜10.0(モル比)、
(III)Siに結合する全1価有機置換基中、−C24−(CF2aF(aは4,6,8,10又は12)で示されるパーフルオロアルキル基を90〜100モル%含有する
耐アルカリ性に優れる反射防止膜。
【効果】 本発明の反射防止膜及びこれが表面に形成された物品は、耐アルカリ性、耐擦傷性及び防汚性に優れたものである。 (もっと読む)


【課題】高温下に長時間暴露された場合にも光透過率の低下が少ない硬化性組成物を提供する。
【解決手段】下式(1)の官能基と下式(2)〜(4)の官能基1種類以上を有するポリオルガノシロキサン及びその製造方法、並びに前記ポリオルガノシロキサンを含有する硬化性組成物。
【化1】


(1)
(RはH又はC1〜6のアルキル基、RはC2〜6のアルキレン基。)
【化2】


(2)
(R、RはC1〜20のアルキル基、アルケニル基、アリール基。)
【化3】


(3)
【化4】


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【課題】パターンの精度と形状に優れ、かつ耐熱性、光透過性に優れた光導波路パターンを形成することができる樹脂組成物及び簡便かつ低コストでパターン精度及び形状に優れた微細パターンが形成できるパターン形成方法を提供
【解決手段】 分子内に炭素-炭素不飽和結合及びケイ素‐水素結合を有するシリコンポリマーを含有する樹脂組成物を光学コア及び/又は光学クラッドとして用いる高分子光導波路及び該樹脂組成物を基板3上に塗布し、硬化させて光学コア4及び/又は光学クラッド2、4用の膜を得るとともに、光学コアの形成を金型成型法により行う高分子光導波路の製造方法 (もっと読む)


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