【課題】 フッ化アルキルケイ素高分子化合物及びそれを用いたハロゲンイオン検出素子材料を提供する。
【解決手段】 本発明のフッ化アルキルケイ素高分子化合物は、主鎖がケイ素で形成され、少なくとも炭素及びフッ素を含む側鎖を含んでなる。このフッ化アルキルケイ素高分子化合物は、直線状の軸を中心として、この軸の周囲を、主鎖のケイ素連鎖が渦巻状に取り囲むコンホメーションを有している。本発明のフッ化アルキルケイ素高分子化合物は、ハロゲンイオンを検出するハロゲンイオン検出素子材料として用いることができる。 （もっと読む）

トリーイングにより低下した性能を有する配電ケーブルの修復方法であって、該方法は（ｉ）芳香族官能性アルコキシシラン、アルキルアルコキシシラン、アミノ官能性アルコキシシラン、エポキシ官能性アルコキシシラン、フルオロ官能性アルコキシシラン、ビニル官能性アルコキシシラン、またはメタクリレート官能性アルコキシシランから選択されるアルコキシシランまたはアルコキシシランの混合物を含む修復液を、該ケーブルのアルミニウムより線部分の隙間に供給すること、および（ｉｉ）スルフィドシラン、メルカプト官能性アルコキシシラン、ホスホネートシラン、またはそれらの混合物を該修復液に加えて、高温で腐食剤に接触したときの該アルミニウムの耐食性を改善することを含む方法。 （もっと読む）

第一の対向面と第二の対向面とを有する基材；第一の対向面の上に重ねられている第一の電極層；第一の電極層の上に重ねられている発光エレメント（発光エレメントには正孔輸送層及び発光／電子輸送層が含まれており、正孔輸送層及び発光／電子輸送層は互いの上に直接重ねられ、かつ正孔輸送層には硬化ポリシロキサンが含まれ、硬化ポリシロキサンは、フィルムを形成するためにシリコーン組成物を適用する工程、及び前記フィルムを硬化する工程により製造され、前記シリコーン組成物には、カルバゾリル基、フルオロアルキル基、及びペンタフルオロフェニルアルキル基から選択される基を有するポリシロキサンが含まれる）；及び発光エレメントの上に重ねられている第二の電極層、を含む有機発光ダイオード。
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（Ｒ^１_３ＳｉＯ_１／２）_ａ、（Ｒ^２_２ＳｉＯ_２／２）_ｂ、（Ｒ^３ＳｉＯ_３／２）_ｃ及び（ＳｉＯ_４／２）_ｄ単位（ただし、Ｒ^３基の少なくとも４０モル％はプロピルであるものとする）を含むＭＱ−Ｔプロピルシロキサン樹脂を開示する。また、ＭＱシロキサン樹脂をＴプロピルシロキサン樹脂と反応させることにより、かかるシロキサン樹脂を調製する方法も開示する。これらのシロキサン樹脂は、パーソナルケアや、家庭用品ケア及び医療用ケアの種々の適用用途において、特に、顔料含有の化粧料配合物における樹脂添加剤として有用である。 （もっと読む）

基材上に改良された被膜を形成させる方法を提供しようとするものであり、特に、基材上に、１．２８〜１．３８の屈折率と９０〜１１５度の水接触角を示し、かつ当該基材の表面に密着して形成された被膜を提供する。
Ｓｉ（ＯＲ）₄で示される珪素化合物（Ａ）と、（Ｒ¹Ｏ）₃ＳｉＣＨ₂ＣＨ₂（ＣＦ₂）_nＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＲ¹）₃で示される珪素化合物（Ｂ）と、Ｒ²ＣＨ₂ＯＨで示されるアルコール（Ｃ）と、蓚酸（Ｄ）とを特定比率に含有する反応混合物を水の不存在下に５０〜１８０℃で加熱することにより、ポリシロキサンの溶液を生成させ、当該溶液を含有する塗布液を基材表面に塗布し、その塗膜を８０〜４５０℃で熱硬化させることにより当該基材表面に密着して形成され、１．２８〜１．３８の屈折率と９０〜１１５度の水接触角を示す被膜、その被膜の形成方法及びその塗布液の製造方法。 （もっと読む）

水性シリコーンエマルジョンは、水の蒸発で樹脂強化エラストマーフィルムを形成する。エマルジョン組成物は、(i)線状ヒドロキシ末端ポリジオルガノシロキサン、(ii)シリコーンMQ樹脂、および(iii)有機官能性ポリシロキサン、から構成されるシリコーン混合物からなる分散相を含む。水性シリコーンエマルジョンは、成分、(i)から(iii)を混合し、混合物を形成し、混合物に乳化剤および水を添加し、成分を混合して水性ベースエマルジョンを得、架橋を促進するために、ベースエマルジョンのpHを酸性または塩基性pHに調整し、引き続いてエマルジョンを中和することによって調製される。エラストマーフィルムは、エマルジョンを基体上で周囲条件で乾燥させることによって得ることができる。 （もっと読む）

放射線によって硬化し、耐擦傷性、耐摩耗性に優れ、低屈折率で反射防止フィルムに使用した場合、反射率の低い感光性樹脂組成物、更にはその硬化皮膜を有するフィルムを提供する。 下記一般式（１） Ｒ_ｅＳｉ（ＯＲ_１）_３ （１） （式中Ｒ_ｅは、エポキシ基を有する置換基を示す。Ｒ_１はＣ_１〜Ｃ_４のアルキル基を示す。）で表されるエポキシ基を有するアルコキシケイ素化合物同士か、又は前記一般式（１）で表されるエポキシ基を有するアルコキシケイ素化合物と下記一般式（２） Ｒ_ｆＳｉ（ＯＲ_２）_３ （２） （式中Ｒ_ｆは、フッ素原子を１〜２０個有する置換基を示す。Ｒ_２はＣ_１〜Ｃ_４のアルキル基を示す。）で表されるフッ素原子を有するアルコキシケイ素化合物とを、塩基性触媒の存在下に、縮合させて得られるエポキシ基含有ケイ素化合物（Ａ）、光カチオン重合開始剤（Ｂ）、並びに必要によりフッ素原子を有する高分子化合物（Ｃ）、一次粒径が１〜２００ナノメートルのコロイダルシリカ（Ｄ）及び側鎖に（ポリ）シロキサン構造を有する高分子化合物（Ｅ）を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 １９３ｎｍ以下の波長にて改善された透明性を有し、像ぼやけを最小にする、レジスト組成物及びフォトリソグラフィ・プロセスに有用な改善されたシルセスキオキサン・ポリマー構造を提供すること。
【解決手段】 本発明は、シルセスキオキサン・ポリマーと、こうしたシルセスキオキサン・ポリマーを含有するレジスト組成物を提供するものであり、このシルセスキオキサン・ポリマーの少なくとも一部はフッ素化部分を有し、このシルセスキオキサン・ポリマーの少なくとも一部は、酸触媒による開裂反応のための活性化エネルギーが低く、光学密度の高い部分の存在を最小化又は回避する、溶解抑制型ペンダント酸不安定部分を有する。本発明のポリマーはまた、水性アルカリ溶液中でのレジストのアルカリ溶解を促進するペンダント極性部分を有する。本発明のポリマーは、ポジ型レジスト組成物に特に有用である。本発明は、基板にパターン形成された構造体を形成する際にこうしたレジスト組成物を用いる方法、特に多層（例えば二層）フォトリソグラフィ方法を包含し、この方法は１９３ｎｍ及び１５７ｎｍのような波長にて高解像度の像を生成できる。 （もっと読む）

Ｎ−カルバゾリルアルキル基及び加水分解性基を含有するカルバゾリル官能性直鎖ポリシロキサン、カルバゾリル官能性直鎖ポリシロキサンを含有するシリコーン組成物、該シリコーン組成物を硬化させることによって調製される硬化カルバゾリル官能性ポリシロキサン、並びにカルバゾリル官能性ポリシロキサンを含有する有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）。 （もっと読む）

本発明は、リソグラフィ特性（エッチング耐性、透過性、解像度、感応性、焦点余裕度、ラインエッジラフネス及び粘着性）を改良した、フォトレジストとして好適なシルセスキオキサン樹脂；フッ素化官能基又は非フッ素化官能基をシルセスキオキサンの主鎖に組み入れる方法に関する。本発明のシルセスキオキサン樹脂は、一般構造（ＨＳｉＯ_３／２）_ａ（ＲＳｉＯ_３／２）_ｂを有する；式中、Ｒは酸解離性基であり、ａは０．２〜０．９の値を有し、ｂは０．１〜０．８の値を有し、且つ０．９≦ａ＋ｂ≦１．０である。 （もっと読む）

本発明は半導体または電気回路での低いｋ誘電性フィルムの製造方法に関し、前記方法は、一般式［（Ｒ_ａＸ_ｂＳｉＯ_１．５）_ｍ（Ｒ_ｃＹ_ｄＳｉＯ）_ｎ］（式中、ａ、ｂは０〜１であり、ｃ、ｄは１であり、ｍ＋ｎは３以上であり、ａ＋ｂは１であり、ｎ、ｍは１以上であり、Ｒは水素原子またはアルキル、シクロアルキル、アルケニル、シクロアルケニル、アルキニル、シクロアルキニル、アリールまたはヘテロアリール基であり、それぞれ置換されているかまたは置換されてなく、Ｘはオキシ、ヒドロキシル、アルコキシ、カルボキシル、シリル、シリルオキシ、ハロゲン、エポキシ。エステル、フルオロアルキル、イソシアネート、アクリレート、メタクリレート、ニトリル、アミノまたはホスフィン基であり、またはタイプＸの少なくとも１つの前記基を有するタイプＲの置換基であり、Ｙはヒドロキシル、アルコキシまたはタイプＯ−ＳｉＺ_１Ｚ_２Ｚ_３の置換基であり、Ｚ_１、Ｚ_２およびＺ_３はフルオロアルキル、アルコキシ、シリルオキシ、エポキシ、エステル、アクリレート、メタクリレートまたはニトリル基であり、またはタイプＲの置換基であり、同じかまたは異なり、タイプＲの置換基が同じかまたは異なるだけでなく、タイプＸおよびＹの置換基もそれぞれ同じかまたは異なり、タイプＹの置換基として少なくとも１個のヒドロキシル基を有する）の不完全に縮合した多面体のオリゴマーシルセスキオキサンをフィルムの製造のために使用することを特徴とし、更にこの方法により製造される低いｋ誘電性フィルムに関する。 （もっと読む）