【課題】本発明は、血小板が関与する一次止血の段階と血液凝固因子が関与する凝固血栓形成の段階における双方の血液凝固反応を阻害でき、医療器材又は医療材料の表面に抗血液凝固活性を保持した状態で強固に固定化できる高分子化合物を提供すること。
【解決手段】本発明は、血小板の付着を阻害する共重合体と、下記の一般式（Ｉ）で示される化合物とが結合している、高分子化合物を提供する。
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【課題】長期の室温放置安定性に優れ、さらに露光量が比較的少なくても、精度よくパターン形成できる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】本発明の感光性樹脂組成物は、一般式（１）で表される化合物を含むシロキサン化合物を加水分解縮合して得られる重量平均分子量５０００以上のシロキサン樹脂と、光酸発生剤及び光塩基発生剤からなる群より選択される少なくとも１種と、上記シロキサン樹脂を溶解可能な溶媒と、を含有する。


［式中、Ｒ^１は、Ｈ原子若しくはＦ原子、又はＢ原子、Ｎ原子、Ａｌ原子、Ｐ原子、Ｓｉ原子、Ｇｅ原子若しくはＴｉ原子を含む基、又は炭素数１〜２０の有機基を示し、Ｘは加水分解性基を示し、ｎは０〜２の整数を示し、４−ｎ個のＸは同一でも異なっていてもよく、ｎが２のとき、２個のＲ^１は同一でも異なっていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】本発明は液晶素子の高速応答を実現しつつ、電圧保持率や残像特性等の諸性能に優れた液晶表示素子を形成することができる液晶配向剤、その液晶配向剤から形成された液晶配向膜を備える液晶表示素子及び液晶配向剤に好適に用いられるポリオルガノシロキサン化合物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物を含有し、この［Ａ］ポリオルガノシロキサン化合物が、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンに由来する部分と、下記式（１）で表されるカルボキシル基を有する化合物に由来する部分とを有する液晶配向剤である。
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【課題】レーザー彫刻時に発生する彫刻カスのリンス性に優れ、形成されるレリーフ層の弾性及びインキ転移性に優れたレリーフ印刷版を得ることができるレーザー彫刻用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）下記式（１）〜（４）のいずれかで表される化合物、及び、（ｂ）バインダーポリマーを含有する。Ｒ¹は結合性基を表し、Ｒ²〜Ｒ⁶はそれぞれ独立に、一価の有機基を表し、Ａは（ｍ＋ｎ）価の有機連結基を表し、ｋは０〜４の整数を表し、ｍは１〜４の整数を表し、ｎは１〜４の整数を表す。
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【課題】塗布性に優れ、層間絶縁膜として用いることのできるシリカ系被膜の形成が比較的容易であり、かつ形成されるシリカ系被膜が耐熱性、解像性及び透明性に優れる感光性樹脂組成物及びそれを用いたシリカ系被膜の形成方法を提供すること。
【手段】（ａ）成分：第１のシラン化合物を加水分解縮合して得られる第１のシロキサン樹脂と第２のシラン化合物との混合物を加水分解縮合し、更に加熱処理して得られる第２のシロキサン樹脂と、（ｂ）成分：フェノール類又はアルコール類とナフトキノンジアジドスルホン酸とのエステル化合物とを含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】優れた耐熱性と光透過率と輝度保持率のみならず、優れた引っ張り弾性率をも付与することができる熱硬化性組成物を提供すること、及び該熱硬化性組成物を用いて光半導体素子を封止してなる光半導体装置を提供すること。
【解決手段】アルミノシロキサン、両末端シラノール型シリコーンオイル及びシリコーンアルコキシオリゴマーを含有してなる熱硬化性組成物、両末端シラノール型シリコーンオイルとアルミニウムイソプロポキシドとを反応させて得られるアルミノシロキサンと両末端シラノール型シリコーンオイルとの混合物を、シリコーンアルコキシオリゴマーと混合することにより得られる熱硬化性組成物、並びに前記熱硬化性組成物を用いて光半導体素子を封止してなる光半導体装置。 （もっと読む）

【課題】３００℃より低い温度での封止に用いることができ、紫外光〜可視光の波長領域で優れた光透過性、耐光性、耐熱性、湿熱耐性、及び紫外線耐性を有し、かつ長期間使用しても亀裂及び剥離が生じない硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を提供する。また、硬化性ポリオルガノシロキサンを用いた封止材を提供し、上記した硬化性ポリオルガノシロキサンの優れた特性を使用した航空宇宙産業用材料を提供する。
【解決手段】縮合性官能基の合計含有量が３００ｐｐｍ以下であるポリオルガノシロキサンを含有する組成物であって、ヒドロシリル化触媒の含有量（金属元素換算）が３ｐｐｍ以下であり、且つ、ヒドロシリル化触媒及び縮合触媒の実質的非存在下で、１５０℃において４８時間以内に硬化しうることを特徴とする硬化性ポリオルガノシロキサン組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明はデュアルダマシンパターンの形成方法に関する。
【解決手段】より詳しくは多機能ハードマスク組成物を用意する段階と、半導体基板の配線層上に窒化膜、第１の低誘電膜、食刻静止膜及び第２の低誘電膜が順次積層された積層構造を形成する段階と、前記配線層の一部が露出するよう積層構造を食刻してビアホールを形成する段階と、前記ビアホールを含む第２の誘電膜の上部に前記多機能ハードマスク組成物を塗布して多機能ハードマスク膜を形成する段階と、第１の誘電膜の一側が露出するよう前記結果構造物に対する食刻工程を行ない、ビアホールより広い幅のトレンチを形成する段階と、前記多機能ハードマスク膜を除去する洗浄工程を行なう段階とを含むことにより、工程段階を短縮することができるデュアルダマシンパターンの形成方法に関する。 （もっと読む）

【課題】 プロセス適応性に優れるシリカ系絶縁膜の形成、すなわちシリカ系絶縁膜の機械強度を向上させるシリカ系被膜形成用組成物、シリカ系被膜の製造方法及び電子部品を提供する。
【解決手段】 （ａ）成分下記一般式（１）
【化１】


（ｂ）成分下記一般式（２）
【化２】


（ｃ）成分：前記（ａ）成分を溶解可能な溶媒及び
（ｄ）成分：オニウム塩
を含有してなるシリカ系被膜形成用組成物であって（ａ）成分の配合割合が（ｂ）成分１モルに対し０．０１モル〜０．６モルであるシリカ系被膜形成用組成物、シリカ系被膜形成用組成物を基体上に塗布し、塗布された被膜を加熱して硬化膜を形成することを特徴とするシリカ系被膜の製造方法及びシリカ系被膜を有する電子部品。 （もっと読む）

【課題】ユニークな触媒活性を有するのみならず、熱安定性に優れる多核錯体、特に過酸化水素分解触媒において、フリーラジカルの発生を抑制しつつ水と酸素に分解できる触媒能を有する不均一系触媒を提供する。
【解決手段】下記(i)、(ii)、(iii)等の要件を備える配位子Ｌを１つ以上と、複数の金属原子とを含む、多核錯体及び該錯体の縮合体を提供する。
(i) 下記式（１）で示される１価の基及び／又は下記式（２）で示される２価の基を有すること。


(ii) 金属原子と配位する配位原子を５個以上有すること。
(iii) 前記配位原子から選ばれる少なくとも１つの配位原子が２つの金属原子に配位すること、又は前記配位原子から選ばれ、それぞれ異なる金属原子に配位する２つの配位原子をＡＭ１、ＡＭ２としたとき、ＡＭ１−ＡＭ２間を結ぶ共有結合の最小値が１以上４以下となる、ＡＭ１及びＡＭ２の組合せを有すること。 （もっと読む）

エネルギー吸収材に有用な可撓性シート材料に、ポリジオルガノシロキサンと、酸化ホウ素、ホウ酸、ホウ酸前駆体、ホウ酸塩又は部分的に加水分解されたホウ酸塩から選択されるホウ素化合物との反応生成物を含むダイラタントシリコーン組成物を含浸させる。シリコーン組成物は、シラノール基と反応する疎水性化合物との反応によって改質され、耐洗濯性を改善させる。可撓性シートは、負のポワソン比を有する材料、例えば織物であり得る。 （もっと読む）

【課題】炭酸カルシウム合成触媒及びこれを用いた炭酸カルシウムの合成方法を提供する。
【解決手段】ケイ素原子を中心原子とする複数の４面体が配列した４面体シート、及び金属原子を中心原子とする複数の８面体が配列し前記４面体シートと酸素原子を介して結合している８面体シートを含み、一般式（１）： （Ｒ^１_ｎＳｉＯ_{（４−ｎ）／２}）_ｘＭ_２／ＺＯ（Ｈ_２Ｏ）_ｗ ・・・（１）［式中、Ｒ^１はそれぞれ独立に１価の有機基を示し、ｎは１〜３の整数を示し、ｘは０．５〜２の数値を示し、Ｍはそれぞれ独立に金属原子又はそのイオンを示し、Ｚは２又は３を示し、ｗは０〜２の数値を示し、Ｒ^１の少なくとも一部は亜鉛イオンと錯形成しうる含窒素官能基を有する錯形成性有機基である。］で表される組成を有する層状ポリマーにおける錯形成性有機基の少なくとも一部が亜鉛イオンと錯形成している、Ｚｎ錯体含有層状ポリマー。 （もっと読む）

【解決手段】 下記一般式（１）で表される含フッ素環状構造を有するケイ素化合物。
【化１】


（式中、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³は水素原子、水酸基、ハロゲン原子、炭素数１〜６の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシ基、又は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状、環状又は多環状骨格を持つ一価の有機基（但し、アルコキシ基を除く）を表す。Ｙは単結合又は二価の有機基を表す。Ｚは三価の有機基を表す。）
【効果】 本発明は、膨潤によるパターン崩壊を極力抑制して微細パターン形成を可能とする適度な酸性を有し、かつ、有機膜へのパターン転写の際のエッチング条件に対し、優れたエッチング耐性を実現するためにより少ない数のフッ素置換に、この適度な酸性を実現するケイ素化合物とシリコーン樹脂を提供し、このため、特にＡｒＦ露光における二層レジストの原料として好適である。 （もっと読む）

【課題】 シラノール基含有重合体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 重合体部分と、該重合体部分に結合した下記一般式（1）：
−Me₂SiO（Me₂SiO）_m(Me₂Si−R¹)_n−Me₂SiOH （1）
（R¹は独立に酸素原子又は非置換もしくは置換の二価炭化水素基、Meはメチル基、ｍは0〜4の数、nは0又は1。）
で表される一価の基とを有するシラノール基含有重合体；脂肪族不飽和結合含有重合体と、下記一般式(4)：
H−Me₂SiO（Me₂SiO）_m(Me₂Si−R¹)_n−Me₂SiOH （4）
（R¹、Me、ｍ及びnは前記のとおり。）
で表される有機ケイ素化合物とを白金族金属系触媒の存在下で反応させることを含む前記シラノール基含有重合体の製造方法；並びに、脂肪族不飽和結合含有重合体と、該有機ケイ素化合物とを白金族金属系触媒の存在下で反応させることを含む前記重合体にシラノール基含有基を導入する方法。 （もっと読む）

本発明は：
（ｉ）１分子につき少なくとも１つのシリコン結合水素原子を含有する少なくとも１つの有機水素シリコン化合物、または、１分子につき少なくとも１つのシリコン結合水素原子を含有する少なくとも１つの有機水素シリコン化合物と少なくとも１つの脂肪族不飽和部分を持つ少なくとも１つの化合物とを白金族金属含有触媒存在下に混合することにより得られる反応生成物；
（ｉｉ）少なくとも１つの末端封鎖剤；ならびに任意に
（ｉｉｉ）加水分解物もしくはシクロシロキサンから選ばれる、少なくとも１つの有機シロキサン
を含む混合物を、触媒存在下に加熱すること（１）を含み、成分（ｉ）、（ｉｉ）、および任意に（ｉｉｉ）の重合化を起こさせ、シリコン結合水素含有分岐ポリマーを形成させる方法に関する。 （もっと読む）

【課題】 溶液プロセスを用いた簡便な方法により形成できるとともに、基板表面に強固に吸着でき、かつ、高い秩序性（結晶性）および高密パッキング特性を有する機能性有機薄膜およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 式；Ａ−Ｂ−Ｃ−ＳｉＸ^１Ｘ^２Ｘ^３（Ａは炭素数１〜１５の１価脂肪族炭化水素基；Ｂは酸素原子または硫黄原子；Ｃはπ電子共役を示す２価の有機基；Ｘ^１〜Ｘ^３は加水分解により水酸基を与える基）の有機シラン化合物を用いた機能性有機薄膜。上記有機シラン化合物のシリル基を加水分解して基板表面と反応させ、該基板に直接吸着した単分子膜を形成した後、該単分子膜上の未反応の有機シラン化合物を非水系有機溶剤を用いて洗浄除去する機能性有機薄膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 溶液プロセスを用いた簡便な方法により形成できるとともに、基板表面に強固に吸着でき、かつ、高い秩序性（結晶性）および高密パッキング特性を有する機能性有機薄膜およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 式；Ａ−Ｂ−Ｃ−ＳｉＸ^１Ｘ^２Ｘ^３（Ａは水素原子がハロゲン原子によって置換されていてもよい１価脂肪族炭化水素基であって、ハロゲン原子によって置換されていない場合は炭素数１６〜３０、ハロゲン原子によって置換されている場合は炭素数１３〜２５のもの；Ｂは酸素原子または硫黄原子；Ｃはπ電子共役を示す２価の有機基；Ｘ^１〜Ｘ^３は加水分解により水酸基を与える基）の有機シラン化合物を用いた機能性有機薄膜。上記有機シラン化合物のシリル基を加水分解して基板表面と反応させ、該基板に直接吸着した単分子膜を形成した後、該単分子膜上の未反応の有機シラン化合物を非水系有機溶剤を用いて洗浄除去する機能性有機薄膜の製造方法。 （もっと読む）

【化１】


本発明は、一般式(1)の新規化合物に関する{式中、Xは、R¹、二つのA¹成分に結合する基-[CO₂(CH₂)_nCO₂]-(A¹は、X以外のAであり、nは2〜4である)、C(=W)R、(CR³Z)_iCHR³Z、OH、O(M^+g)_1/g及びOC(=W)Rから選ばれ(式中、Wは酸素、硫黄、NR⁴及びNNR⁴R⁵から選ばれ、ZはOR⁶、NR⁶R⁷及びSR⁶から選ばれ、RはR⁶、OR⁶、O(M^+g)_1/g、NR⁶R⁷、NHNR⁶R⁷又はSR⁶であり、R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶及びR⁷は、水素、所望により置換されていてもよい線状又は分岐のアルキル基、アルケニル基又はアルキニル基、アリール基又はアルキルアリール基である)}。Mはランタニド、アクチニド、主族又は遷移金属から誘導される金属イオンである。Vは所望により置換されていてもよいアルキル基、アルケニル基又はアルキニル基又はアリール基又はアルキルアリール基であり；eは、整数の0〜2であり;fは、整数の0〜100、gは整数の1〜4であり、iは整数の0〜6であり、tは整数の1〜20、好ましくは1〜3であり;hは0又は1である。シリケート酸素原子の遊離原子価は、一般式(１)の他の基のシリコン原子、水素、線状又は分岐のアルキル基、又は末端基、架橋メンバー又はシリコン、アルミニウム、チタニウム又は他の公知のオキソ金属架橋系を含むポリマー鎖の一つ以上により飽和されている。整数a、b、c及びdは、i）bが0の場合、a:cの比は0.00001〜100,000であり、一般式A_aB_bC_cD_dにおいてA及びCの両方が常に存在し、ii)bが1以上の場合、比a:bは0.00001〜100,000であり、一般式A_aB_bC_cD_dにおいてA及びBの両方が常に存在する。末端基及び/又は架橋リンカー及び/又はポリマー鎖のa+b+c+dに対する比は、0〜999:1である。本化合物は、固相抽出、固相合成、酸及び金属介在不均一触媒、金属イオン抽出及び生物分子の固定化のために、不必要な有機及び無機化合物を除去するためのスカベンジャーとして有用である。
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