【解決手段】 酸存在下、極性溶媒を含む溶媒中で、下記一般式（１）で表されるアルコキシシランと水を反応させることを特徴とする下記一般式（２）で表されるかご状オリゴシロキサンを製造する方法。
Ｒ¹Ｓｉ（ＯＲ²）₃ （１）
（Ｒ¹ＳｉＯ_3/2）_n（Ｒ¹ＳｉＯ₂Ｈ）₃ （２）
（一般式（１）及び（２）において、Ｒ¹は水素原子、炭素原子数１〜２０の置換又は非置換の炭化水素基又はケイ素原子数１〜１０のケイ素原子含有基から選ばれる。ＯＲ²は炭素原子１〜６のアルコキシル基である。ｎは２〜１０の整数である。）
【効果】 本発明によれば、酸存在下極性溶媒を含む溶媒中でアルコキシシランを水と反応させることで、高純度かつ容易に目的とするシラノール基を有するかご状オリゴシロキサンを製造できる。また、本発明で製造したかご状オリゴシロキサンは、新規な電子材料、光学材料、電子光学材料、触媒担体、又は樹脂改質剤の反応中間原料として極めて有用である。 （もっと読む）

【課題】 塗布均一性に優れ、熱的に安定な酸化物被膜を形成することができる酸化物被膜形成用塗布液、均一で熱的に安定な酸化物被膜の製造法及び均一で熱的に安定な酸化物被膜を有する半導体装置の製造法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）一般式（Ｉ）
【化１】


（式中Ｒは、炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ′は炭素数１〜３のアルキル基、ｍは０、１または２を意味する）で表されるアルコキシシラン化合物を溶媒の存在下に加水分解及び縮重合させ、加水分解によって生成する１価アルコールを除去してなる酸化物被膜形成用塗布液、この塗布液を、基体表面上に塗布後、５０〜２００℃で乾燥し、ついで３００〜１０００℃で焼成することを特徴とする酸化物被膜の製造法及びこの塗布液を、半導体素子表面上に塗布後、５０〜２００℃で乾燥し、ついで３００〜１０００℃で焼成して酸化物被膜を形成することを特徴とする半導体装置の製造法。 （もっと読む）

【解決手段】 下記一般式（１）で表されるかご状オリゴシロキサン構造を有する一官能性モノマー。
【化１】


（式中、Ｘは酸素原子を含有する炭素数１〜４０の重合性基を表す。Ｒ¹は同一でも異なってもよく、炭素数１〜２０の飽和炭化水素基、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基、炭素数１〜２０のオルガノキシ基、ハロゲン原子の中から選ばれる基を表す。Ｒはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１〜４０の非重合性一価炭化水素基を表し、同一ケイ素原子に結合したＲは互いに同一でも異なっていてもよい。）
【効果】 本発明により、溶媒や他の重合性モノマーとの相溶性を改善した新規なかご状オリゴシロキサン構造を有する一官能性モノマー及びその製造方法が提供される。また本発明の製造方法によれば、かご状オリゴシロキサン構造を有する一官能性モノマーが一段階で高純度かつ高収率で得られる。 （もっと読む）

本発明は、式Ｒ^１_ａＲ^２_ｂＲ^３_ｃＲ^４_ｄＲ^５_ｅＲ^６_ｆＲ^７_ｇＲ^８_ｈＳｉ_８Ｏ_１２（Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８＝同じ又は異なり、置換された又は非置換のアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、シクロアルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基又は水素；ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＋ｇ＋ｈ＝８）及び構造１の完全に縮合したオリゴマーのシルセスキオキサンの製造方法、並び完全には縮合していないシルセスキオキサン、官能化されたシルセスキオキサン、触媒及び前記触媒の出発化合物の合成のための並びにポリマーの合成及び改質のための、前記シルセスキオキサンの使用に関する。 （もっと読む）

【課題】白金系、スズ系などの金属系の硬化触媒を使用することなく、球状のシリコーンエラストマー微粒子を製造する方法を提供。また、経時的に臭気を発生させない化粧料を提供。
【解決手段】本発明の球状シリコーンエラストマー微粒子は、シリコーンエラストマーを主成分とする平均粒子径が０．１〜５００μｍの球状微粒子である。この微粒子の製造方法は、（ａ）１分子中に少なくとも２個のシラノール基を有するポリオルガノシロキサンと、（ｂ）一般式：Ｒ^１Ｓｉ（ＯＲ^２）_３で表されるオルガノトリアルコキシシランとを、金属系の触媒を使用することなく縮合反応させて得られた架橋性ポリオルガノシロキサンを、（ｃ）界面活性剤の存在下に水中に乳化し、かつ金属系の触媒を使用することなく縮合反応させて架橋する。本発明の化粧料は、（Ａ）球状シリコーンエラストマー微粒子と、（Ｂ）ポリエーテル化合物、および（Ｃ）水を含有する。 （もっと読む）

【解決手段】 シラノール部位を有するかご状オリゴシロキサンと下記一般式（１）で表されるオルガノアシロキシシランとを反応させることを特徴とするかご状オリゴシロキサンの修飾方法。
【化１】


（式中、Ｒ¹は置換又は非置換の炭素数１〜４０の１価炭化水素基あるいは水素原子であり、同一分子における複数のＲ¹は互いに異なっていてもよい。Ｒ²は置換又は非置換の炭素数１〜２０の１価炭化水素基を表す。ｎは０〜３の整数を表す。）
【効果】 本発明の方法により、かご状オリゴシロキサンの修飾を温和な条件下で行うことができるため副反応が抑制され、高収率である。また、様々な官能基を導入することができるため汎用性が高く、副生成物が少なく、反応の後処理が簡便である。 （もっと読む）

その製造および保存における副反応生成物および未反応物が加水分解及び酸化等により臭気物質を発生することがなく、経時的にも安定である無臭化ポリエーテル変性ポリシロキサン組成物、その製造方法、及びそれを含有する化粧料であって、末端に炭素−炭素二重結合を有するポリオキシアルキレンとオルガノハイドロジェンポリシロキサンとのヒドロシリル化反応により合成されたポリエーテル変性ポリシロキサン組成物において、該ポリエーテル変性ポリシロキサン組成物を固体酸存在下に処理することにより、精製されていることを特徴とする無臭化ポリエーテル変性ポリシロキサン組成物、その製造方法、及びそれを含有する化粧料などが提供される。 （もっと読む）

式I(式中のR₁は加水分解可能な基、R₂は分極率を減少させる有機基、R_３は架橋性の炭化水素基である)を有するモノマーを重合してシロキサン材料を形成することによって得られる組成物を備える薄膜。また、本発明は該薄膜を製造する方法に関する。該薄膜は、集積回路装置内の低誘電率誘電体に用いることができる。新規誘電体は半導体基板トポグラフィー上で良好な局部的及び全体的平坦性を生ずる優れた平坦化性能を有し、誘電体及び酸化物ライナー蒸着後の化学機械的平坦化の必要性を減少又は除去する。
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【課題】 新規なポリオレフィン含有ポリシロキサンおよびその用途を提供すること。
【解決手段】 少なくとも下記一般式（１）


（１）
（式中、Ａは、炭素数２〜２０のオレフィンの重合体であり、重量平均分子量が４００〜５０００００のものを表し、Ｒは水素原子、炭素数１〜１８のアルキル基を表し、ｍは１以上の整数を表す。）を含むポリシロキサン化合物、
並びに、その重合体を含む化粧料。 （もっと読む）

【課題】
ArF露光のような短波長露光での透過性がよく、さらに、微細加工に使用される中間層材料として好適な新規シリコーン共重合体を提供する。
【解決手段】
下記一般式
【化１】


（式中、Ａは脂肪族炭化水素基を示し。ｎは１〜５の整数を示す）
で示される水酸基を有する繰り返し単位と下記一般式
【化２】


（式中、Ｒは脂肪族炭化水素基を示す）
で示される繰り返し単位を含むシリコーン共重合体を提供する。 （もっと読む）

ａ）１０〜９９．９９重量％の少なくとも１種類のポリオレフィンと、ｂ）０〜５０重量％のポリオレフィンではない熱可塑性物質と、ｃ）０．００５〜１重量％のそれ自体公知のポリマー添加物と、を含み、ｄ）有機分岐を坦持する無機コアを含み、このコアおよび分岐が粒子構造を形成する、少なくとも１種類の多分岐有機／無機ハイブリッドポリマー、または／およびｅ）最終生成物中の全ての金属が、標準状態（２５℃および最大湿度９８％）で、適切な酸化剤によって確実にその最高安定酸化状態で存在するような方法で、金属塩と酸性有機化合物とを反応させることによって調製される脂溶性金属化合物と、のうちから選択される付加的な成分を含有するポリマー組成物。 （もっと読む）

R 及び X が明細書中に記載された意味を有する、式（I）又は（II）の反応性環状カーボネート及び尿素を開示する。前記のカーボネート及び尿素は、特に、穏やかな条件で、官能基を生体分子、ポリマー及び基材表面に導入し得る。

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（ｉ）有機官能性が少なくとも１つの不飽和炭化水素基を示すオルガノアルコキシシラン少なくとも１つ、
（ｉｉ）アミノアルキルアルコキシシラン少なくとも１つ、
（ｉｉｉ）ポリオール少なくとも１つ、
（ｉｖ）場合により、その他のアルコキシシラン又はアルコキシシロキサン、及び
（ｖ）場合により、ナノスケール又はマイクロスケールの、半金属酸化物又は金属酸化物、半金属酸化物の水酸化物又は金属酸化物の水酸化物、又は半金属水酸化物又は金属水酸化物少なくとも１つ、及び／又は
（ｖｉ）前記成分（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）及び、場合により（ｉｖ）、及びまた場合により（ｖ）からなる共縮合体少なくとも１つ、及び／又は
（ｖｉｉ）前記成分（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）及び、場合により（ｉｖ）、及びまた場合により（ｖ）から、加水分解条件下で生成された反応生成物、
（ｖｉｉｉ）及び有機溶媒
を、モル比（ｉ）：（ｉｉ）：（ｉｉｉ）が（ｉ）＝１、（ｉｉ）＝０．５〜１．５、及び（ｉｉｉ）＝０．３〜１．１である条件下で含有する、ガスに対するバリヤー層を製造するためのオルガノシランベースの組成物。本発明はまた、前記組成物の製造方法及びその使用、及び前記組成物を用いて製造された包装材料にも関する。 （もっと読む）

本発明は、ＶＣＭＸのようなエチレン性不飽和のエポキシドとＭＤＤ’Ｍ（ここに、Ｍ＝Ｒ₃ＳｉＯ_1/2、Ｄ＝Ｒ₂ＳｉＯ_2/2、Ｄ’＝ＲＨ＝ＳｉＯ_2/2であり、Ｒ＝アルキルである。）型の水素化ＰＯＳとの間の白金触媒ヒドロシリル化方法に従うエポキシ化ＰＯＳの製造方法に関する。
本発明の目的は、最終生成物の粘度を最適化された態様で制御するのを可能ならしめる、即ち、反応混合物の部分的又は全体的なゲル化を生じさせるような複素環の開環による陽イオン重合の寄生反応を制限するのを可能ならしめる、不均質触媒作用によるエポキシ化ＰＯＳシリコーンの合成方法を提案することである。
この目的は、ヒドロシリル化を少なくとも１種の無機非求核性塩基（ＮａＨＣＯ₃）及び随意の水の存在下に実施することを特徴とする本発明によって達成される。 （もっと読む）