【課題】紫外光においても劣化が少なく、耐湿性に優れた光半導体封止用エポキシ樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】エポキシ基含有アルコキシケイ素化合物を、共加水分解縮合させることにより得られるエポキシ樹脂（Ａ）、；一般式（３）で表されるエポキシ樹脂の芳香環を核水素化して得られる水素化エポキシ樹脂（Ｂ）、


（式中、Ｒ^５は同一であっても異なっていてもよく水素原子、ハロゲン原子又は炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｍは１〜４の整数、ｎは平均値で１〜６の正数を示す。）；及びカチオン重合開始剤（Ｃ）を含有する光半導体封止用エポキシ樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】紫外光においても劣化が少なく、耐湿性に優れた光半導体封止用エポキシ樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】エポキシ基含有アルコキシケイ素化合物を、共加水分解縮合させることにより得られるエポキシ樹脂（Ａ）、一般式（３）で表されるエポキシ樹脂の芳香環を核水素化して得られる水素化エポキシ樹脂（Ｂ）、


硬化剤（Ｃ）及び硬化促進剤（Ｄ）を含有する光半導体封止用エポキシ樹脂組成物。 （もっと読む）

本発明は、シリコーン樹脂のコーティング組成物において固形体を濃縮する改良された方法を提供した。上記組成物は、所定された基材に適用する場合、最終塗膜の厚さを増加するのに必要な高い固形体レベルを含む。 （もっと読む）

シリコーン系液晶またはベシクルが、まず、（Ａ）三Ｓｉ−Ｈ含有ポリシロキサン；および、（Ｂ）モノ−アルケニルポリエーテルを、白金触媒の存在下、ポリエーテル基を有する三Ｓｉ−Ｈ含有ポリシロキサン（Ｃ）が形成されるまで反応させる。ポリエーテル基を有する三Ｓｉ−Ｈ含有ポリシロキサン（Ｃ）を、ついで、（Ｄ）不飽和炭化水素、たとえば、α，ω−ジエン；および、（Ｅ）水を、白金触媒の存在下、シリコーン系液晶またはベシクルが形成されるまで反応させる。シリコーン系液晶またはベシクルはまた、硬質な液晶ゲルまたはベシクルペーストが形成されるまで、加熱することも可能である。 （もっと読む）

【課題】より耐久性である充填物の存在でＨＣｌ、Ｈ₂Ｏ及びシロキサンを含有する混合物を加工する方法。
【解決手段】フッ素化ビニルポリマーからなる充填物の存在で、ＨＣｌ、Ｈ₂Ｏ及びシロキサンを含有する混合物を加工する。 （もっと読む）

一般式（１）［Ａ¹_zＲ¹_pＳｉＯ_(4-p-z)/2］（１）［式中、ｚ及びｐはそれぞれ０〜３の値にある整数を意味し、
Ａ¹は同一又は異なる、水素−、アルキル−、シクロアルキル−、アリール−又はアルコキシ残基であって、脂肪族の線状又は分枝した又は脂環式のアルキル残基又はアリールオキシ残基を有する残基を意味するか、又は、官能基を意味し、
これは１８個までのＣ原子を含有し、更に１個又は複数個の同一又は異なるヘテロ原子であって、Ｏ−、Ｓ、Ｓｉ、Ｃｌ、Ｆ、Ｂｒ、Ｐ又はＮ原子から選択されたヘテロ原子を含有することができる、
その際、
Ｒ¹は同一又は異なる、脂肪族又は脂環式のアルコキシ−、アリールオキシ又はヒドロキシ残基又は残基Ａ¹を意味する］
の繰り返し単位から構成され、少なくともＴ単位又はＱ単位又はこの両方が存在しなくてはならず、かつこの他にＭ単位及び／又はＤ単位が存在することができ、かつ少なくとも１ｐｐｍのＨＣｌを含有することにより特徴付けられるシリコーン樹脂。 （もっと読む）

【課題】 不純物としてのアルカリ金属イオンの含有量の少ないシリコーンレジンを効率よく得るための精製方法を提供する。
【解決手段】 アルカリ金属触媒により平衡化反応させたシリコーンレジン等の不純物として、ナトリウムイオン、カリウムイオン、セシウムイオン等のアルカリ金属イオンを含有するシリコーンレジンを、ケイ酸アルミニウム粉体、ケイ酸粉体、ケイ酸マグネシウム粉体等の固体状塩基吸着剤により処理することを特徴とするシリコーンレジンの精製方法。 （もっと読む）

【課題】 ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に１個含有する有機化合物と、１分子中に少なくとも３個のＳｉＨ基を有する環状ポリオルガノシロキサンを、ヒドロシリル化反応することによって得られるＳｉＨ基含有化合物を含む硬化性組成物を硬化した成形体は、耐熱クラック性及び耐熱耐光性が不十分な場合がある。
【解決手段】 １分子中に少なくとも３個のＳｉＨ基を有する環状ポリオルガノシロキサン（β１）と、ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個含有する有機化合物（α１）を、ヒドロシリル化触媒（Ｃ）の存在下で反応させた後に、未反応の（β１）を除去し、さらに得られた反応物と、ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に１個含有する有機化合物（α２）を、ヒドロシリル化触媒（Ｃ）の存在下で反応させることにより得られる、１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を含有する化合物（Ｂ）を用いる。 （もっと読む）

低誘電率重合体は、一般式I：(Ｒ¹-Ｒ²)_n-Ｓｉ-(Ｘ¹)_4-n（ここで、Ｘ¹はそれぞれ独立して水素及び無機脱離基から選択され、Ｒ²は任意の基であって１〜６個の炭素原子を有するアルキレン又はアリーレンを備え、Ｒ¹はポリシクロアルキル基であり、ｎは整数１〜３である）で表される化合物から誘導された単量体単位を備える。重合体は優れた電気的及び機械的特性を有する。 （もっと読む）

2種の異なるジハロシランおよび1種のトリハロシランの混合物を、有機液体媒体中でアルカリ金属カップリング剤と反応させることによって、分岐状ポリシランコポリマーがウルツ型カップリング反応経由で調製される。この分岐状ポリシランコポリマーは、反応混合物から回収される。キャッピングされた分岐状ポリシランコポリマーは、この反応混合物へのキャッピング剤の添加によって、同じウルツ型カップリング反応経由で調製される。キャッピング剤は、モノハロシラン、モノアルコキシシラン、ジアルコキシシラン、またはトリアルコキシシランである。分岐状ポリシランコポリマーおよびキャッピングされた分岐状ポリシランコポリマーは、有機液体媒体に可溶性である。 （もっと読む）

【課題】 低い誘電率の絶縁材料を形成できる化合物、該化合物を含有する絶縁材料形成用組成物、該組成物より得られる絶縁材料を提供する。
【解決手段】下記一般式(１)で表される化合物、その加水分解物および／または縮合物を含有することを特徴とする絶縁材料形成用組成物。
【化１】


一般式（１）中、Ｒ₁〜Ｒ₈は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基又はシリルオキシ基を表わす。ただし、Ｒ₁〜Ｒ₈で表される基のうち少なくとも１つは、置換基として下記一般式（２）で表わされる基を有するアルキル基、アリール基、アルコキシ基又はシリルオキシ基を表わす。
【化２】


一般式（Ｓ２）中、Ｘは加水分解性基を表し、Ｒ₉はアルキル基、アリール基又はヘテ
ロ環基を表す。ｍは１〜３の整数を表わす。 （もっと読む）

【課題】 光反応性基を有する新規なシルセスキオキサン重合体およびその製造方法の提供、並びに屈折率変換材料および光−熱エネルギー変換蓄積材料の提供。
【解決手段】 シルセスキオキサン重合体は、下記式（１）で表される繰り返し単位により構成され、その製造方法は、特定の繰り返し単位により構成される重合体と特定の化合物とを反応させる。
【化１】


〔式中、Ｒ¹ は、下記式（ａ）で表される基を示す。ｎは繰り返し数である。〕
【化２】


〔式中、Ｒ² は、下記式（イ）〜式（リ）のいずれかで表される基を示す。〕
【化３】


〔式（ホ）において、Ｒ³ は、水素原子、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜１０のシクロアルコキシ基、炭素数１〜１０のアルキル基または−ＣＦ₃ 基を示す。式（チ）において、Ｒ⁴ は、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基またはジメチルアミノ基を示す。〕 （もっと読む）

【課題】 乾燥後の毛髪に優れた使用感を付与し、根元から毛先まで均一な柔軟性を付与することができる、特に化学処理により損傷の進んだ髪に適する毛髪化粧料を提供する。
【解決手段】 次の成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）；
（Ａ）一般式（１）
【化１】


で表されるエーテル型陽イオン性界面活性剤
（Ｂ）脂肪族アルコール
（Ｃ）窒素原子を下記一般式（２）
【化２】


で表わされるポリ−（Ｎ−アシルアルキルイミン）単位と共に含有するアルキレン基に結合した１個以上のケイ素原子を有し、シリコーンセグメントの重量含有率が４０％以上であるオルガノポリシロキサン
を含有する毛髪化粧料組成物。 （もっと読む）

ポリシロキサン加水分解物は、残留酸性成分を含有するポリシロキサン加水分解物を炭素で処理し、次に該炭素を処理済み中和ポリシロキサン加水分解物から除去することにより中和される。処理し得るポリシロキサン加水分解物のいくつかの例は、ヒドリド官能性ポリシロキサン加水分解物、及びポリジエチルシロキサン加水分解物である。特に好ましい炭素中和剤は、歴青炭由来の炭素である。炭素は、プレート＆フレームフィルタープレス、ポリッシングフィルター及びポストフィルター等の固体・液体分離装置に処理済み中和ポリシロキサン加水分解物を通過させて微粒子を除去することにより、加水分解物から除去される。 （もっと読む）

【課題】 経時による臭気の発生が極めて少ないポリオキシアルキレン変性オルガノポリシロキサンを、特別な装置、ろ過や中和および溶剤希釈を必要とすることなく効率的に製造する方法を提供する。
【解決手段】酸性の白金系触媒の存在下で、オルガノハイドロジェンポリシロキサンと末端二重結合を有するポリオキシアルキレンとのヒドロシリル化反応により合成されたポリオキシアルキレン変性オルガノポリシロキサンを、低級アルコールにより処理して低沸点臭気原因物質を生成させた後、該低沸点臭気原因物質を除去することを特徴とする、経時による臭気の発生が極めて少ないポリオキシアルキレン変性オルガノポリシロキサンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 超強酸により製造されたオルガノポリシロキサン中の該超強酸を中和後、残存する該超強酸を効率良く除去できる、オルガノポリシロキサンの製造方法を提供する。
【解決手段】 トリフルオロメタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸等の超強酸により製造されたオルガノポリシロキサン中の該超強酸を、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸アンモニム、炭酸水素アンモニウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等炭酸塩またはアンモニアで中和し、次いで該オルガノポリシロキサンをハイドロタルサイト類｛該オルガノポリシロキサン１００重量部に対して０.０１〜１重量部（但し、１重量部を含まない。）となる量｝で処理することを特徴とするオルガノポリシロキサンの製造方法。 （もっと読む）

式：（ＰｈＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＨ）_x）_mＨＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＨ）_x）_n（ＭｅＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＨ）_x）_p（ＲＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＨ）_x）_q（式中、Ｐｈはフェニル基であり、Ｍｅはメチル基であり、Ｒはエステル基及びポリエーテル基から選択され、ｘは０、１又は２の値を有し、ｍは０．０５〜０．９５の値を有し、ｎは０．０５〜０．９５の値を有し、ｐは０．０５〜０．９５の値を有し、ｑは０．０１〜０．３０の値を有し、ｍ＋ｎ＋ｐ＋ｑ≒１である）を有する反射防止膜を形成するのに有用なシルセスキオキサン樹脂。 （もっと読む）

【課題】 超強酸により製造されたオルガノポリシロキサン中の該超強酸を効率良く中和できる、オルガノポリシロキサンの製造方法を提供する。
【解決手段】 トリフルオロメタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸等の超強酸により製造されたオルガノポリシロキサン中の該超強酸を、塩化ナトリウム、塩化カリルム等のアルカリ金属のハロゲン化物またはアルカリ土類金属のハロゲン化物で中和し、生成した中和塩およびハロゲン化水素を分離することを特徴とするオルガノポリシロキサンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】
物性向上のための新規なエチレン性不飽和基含有ケイ素化合物と、低カールでクラックの発生が少なく硬化塗膜は硬度が高い感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
エチレン性不飽和基含有モノカルボン酸（１）とエポキシ基含有ケイ素化合物（２）との反応物であるエチレン性不飽和基含有ケイ素化合物（Ａ）。 （もっと読む）

【課題】 基板を十分に絶縁膜で覆うことのできる絶縁膜付基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】 式（１）〜（３）で示されるシラン化合物からなる群から選ばれる化合物を重縮合して得られる重合体および有機溶剤を含む密着層形成用組成物を基板上に塗布した後に加熱して密着層を製造する工程および絶縁膜形成用組成物を該密着層の上に塗布した後に加熱して絶縁膜を形成する工程を含む絶縁膜付基板の製造方法。


（式中、Ｒ¹は水素原子、炭素原子数１〜４のアルキル基または炭素原子数６〜２０のアリール基を表し、Ｒ²は炭素原子数１〜４のアルキル基または炭素原子数６〜２０のアリール基を表し、Ｒ³は炭素原子数１〜４のアルキル基または炭素原子数６〜２０のアリール基を表し、Ｒ⁴は炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のアシル基または炭素原子数６〜２０のアリール基を表し、Ｘは２価の基を表し、ｍは２または３を表す。） （もっと読む）