【課題】透明性に優れ、高温下でも黄色化や分解劣化しにくく、耐熱性、耐紫外線性および耐湿熱性に優れた発光素子コーティング用組成物およびそれを用いた発光素子、ならびに発光素子コーティング用組成物の製造方法を提供すること。
【解決手段】有機溶媒中、塩基性化合物、酸性化合物または金属キレート化合物の存在下で、
（Ａ）金属酸化物微粒子、および
（Ｂ１）下記平均組成式（１）
Ｒ¹_aＳｉＯ_b（ＯＲ²）_c （１）
で表され、特定の重量平均分子量を有するアルコキシ末端の多官能ポリシロキサン（ｂ１）と、特定の重量平均分子量を有するヒドロキシ末端ポリジメチルシロキサン（ｂ２）とを反応させて得られる多官能ポリシロキサン等を混合して得られる発光素子コーティング用組成物。 （もっと読む）

【課題】硬化物中に、ＳｉＨ官能基を有する低分子シロキサンが殆ど存在しない付加硬化型シリコーンゴム組成物を提供する。
【解決手段】ＳｉＨ官能性基を含有する１種又は２種以上のオルガノアルコキシシランとＳｉＨ官能性基を含有しない１種又は２種以上のオルガノアルコキシシランとの共加水分解縮合反応により合成した、分子中にケイ素原子と結合する水素原子を２個以上含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンを架橋剤として含有する付加硬化型シリコーンゴム組成物。 （もっと読む）

本発明は、立体障害ピペリジニル官能基を有する基少なくとも１個で置換されたシロキシル基を１分子当たりに少なくとも１個含有し、皮膚に触れた時に毒性がない、新規のポリオルガノシロキサンに関する。本発明はまた、特にケラチン物質、特に皮膚及び毛髪の処置用の、改良型化粧品又は皮膚科組成物にも関する。 （もっと読む）

【課題】貯蔵保管時にアルコキシシラン縮合物の分子量の増大が抑制されており、薄膜形成用組成物の粘度の上昇が生じ難く、従って、膜厚が均一であり、微細パターン形状を有する薄膜を高精度に形成することを可能とする薄膜形成用組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】アルコキシ基を有するアルコキシシランを水の存在下で加水分解縮合させることにより、アルコキシシラン縮合物と、水と、アルコキシ基に由来するアルコールとを含む溶液を得る工程と、溶液を加熱し、水とアルコールとを共沸させることにより、脱水し、薄膜形成用組成物を得る工程とを備え、得られた薄膜形成用組成物中に含まれているアルコキシシラン縮合物に対する残存アルコールのモル比が、アルコキシシラン縮合物の縮合速度Ｒに応じて図１の破線Ｘで囲まれている範囲内とされている、薄膜形成用組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】低温プロセスで得ることができ、電気的絶縁性が高く、表面性状が良好なシルセスキオキサン系絶縁膜を得ることを可能とする方法を提供する。
【解決手段】アルコキシシランと、前記アルコキシシランの加水分解を促進するための酸触媒と、水と、第１の非プロトン性溶媒とを含む溶液を用意する工程と、前記溶液を０℃〜５０℃の温度に維持して加水分解する工程と、前記加水分解後に、前記溶液を５０℃〜７０℃の温度に維持し、加水分解重縮合を進行させる工程と、前記加水分解重縮合を進行させた後に、酸触媒及び副生成物を少なくとも留去するために減圧する工程と、減圧後に前記溶液を塗工する工程と、塗工された溶液を１５０℃〜１７０℃の温度で焼付けてシルセスキオキサン系膜を形成する工程とを備える、シルセスキオキサン系絶縁膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】硬化させた硬化物が、透明性、耐熱性及び耐光性に優れ、光半導体素子の封止剤として用いた場合に、ハウジング材への密着性に優れるとともに、長時間の使用条件下において黄変等の問題が生じることのない光半導体用熱硬化性組成物を提供する。また、該光半導体用熱硬化性組成物を用いてなる光半導体素子用封止剤、及び、光半導体素子を提供する。
【解決手段】分子内に環状エーテル含有基を有するシリコーン樹脂と、前記環状エーテル含有基と反応可能な熱硬化剤と、酸化防止剤と、下記一般式（１）で表される構造を有する硬化促進剤とを含有する光半導体用熱硬化性組成物。
［化１］


一般式（１）中、Ｒ^１〜Ｒ^４は、フルロオ基、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアラルキル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよい脂環基を表し、これらは、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。また、Ｘ^＋は、Ｎ、Ｓ又はＰを中心元素として有するカチオンを表す。 （もっと読む）

一般式（Ｉ）［式中、Ｒ³は、水素原子、又は炭素原子１〜１８個を有する炭化水素基を意味する］のジケテンを脱離する化合物（１）を使用するβ−ケトカルボニル官能性有機ケイ素化合物の新規の製造法であって、前記一般式（Ｉ）のジケテンを、一般式−Ｒ¹−ＮＲ²₂（ＩＩ）［式中、Ｒ¹は、酸素、硫黄及び窒素の群から選択されるヘテロ原子を有していてよい、炭素原子２〜１０個を有する二価の有機基を意味し、Ｒ²は、水素原子、又は窒素原子を有していてよい、炭素原子１〜１００個を有する有機基を意味し、但し、式（ＩＩ）の基Ａは、少なくとも１個の第一級アミノ基又は第二級アミノ基、好ましくは少なくとも１個の第一級アミノ基を有する］のＳｉに結合した基Ａを分子１個当たりにつき少なくとも１個有する有機ケイ素化合物（２）と、第一級又は第二級のアミノ基とβ−ケトカルボニル化合物との反応を遅延する又は防止する有機化合物の存在で反応させる、β−ケトカルボニル官能性有機ケイ素化合物の製造方法が記載される。
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【課題】光増幅機能が向上した、安定性および耐久性に優れた色素機能材料を提供することを目的とする
【解決手段】有機色素がデオキシリボ核酸及び／又はデオキシリボ核酸塩にインターカレートされている、色素インターカレート材料がポリマーマトリクス中に分散していることを特徴とする色素機能材料。 （もっと読む）

【課題】アミノアルキルポリシロキサンの反応時間の短い製造方法であって、低い残留揮発性、特に低い含有率の環状シロキサン、例えばシクロオクタメチルテトラシロキサン（Ｄ₄）を有し、かつ貯蔵安定性であり、かつ特に、末端位シラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）を有する直鎖状のアミノアルキルポリシロキサンが得られる製造方法を提供する。
【解決手段】アミノアルキルポリシロキサンの製造方法であって、（１）と（２）の化合物を混合して、分散液を得ることと、（１）と（２）とを分散液中で塩基性触媒（３）の存在下で反応させて、十分に澄明な混合物を得ることと、塩基性触媒（３）を中和することによって反応を停止することによって行う製造方法によって解決される。 （もっと読む）

ジシリロキサン単位を含むシリコーン樹脂と、炭素ナノ材料と、有機溶媒とを含むナノ材料充填シリコーン組成物；及び、該シリコーン樹脂の硬化生成物と、硬化生成物中に分散される炭素ナノ材料とを含む強化シリコーン樹脂フィルム。 （もっと読む）

【課題】高集積化および多層化が望まれている半導体素子などにおいて好適に用いることができ、絶縁膜を形成する際に所望の比誘電率を簡便に得ることができる膜形成用組成物を提供すること。
【解決手段】上記膜形成用組成物は、下記式（１）で示されるケイ素化合物を、特定のシラン化合物を加水分解縮合して得られた加水分解縮合物の存在下で、縮合させて得られる加水分解縮合物、ならびに有機溶媒を含有する。


（式中、ｘは３〜２５の整数を示す。） （もっと読む）

【課題】
本発明は、陰イオン対をもったロッド状のポリアミノアルキルシロキサン複合体という、自然界には全く存在し得ない新たな物質を提供することを目的とする。
【解決手段】
アンモニウム陽イオンとなるアミンを有する有機アルコキシシラン原料と塩素陰イオンとで対イオンを形成して、その組織化を利用しロッド状ミセルを構築したものである。
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【課題】高い屈折率を有し、耐熱性および耐溶剤性などに優れた、光学フィルムなどを形成するのに有用な新規なフルオレン骨格含有ポリマー、およびそのポリマーで形成された成形体を提供する。
【解決手段】９，９−ビス（３−メチルー４−ヒドロキシフェニル）フルオレン−ジクロロジフェニルシラン共重合体に代表される、特定のフルオレン骨格を含有するとともに、主鎖に特定のケイ素骨格を有するポリマー。さらに、該ポリマーから形成された成形体、特にフィルム。 （もっと読む）

【課題】耐熱性などに優れたフルオレン骨格を有するケイ素含有ポリマーを効率よく製造できる方法を提供する。
【解決手段】特定のフルオレン骨格を有する下式（１）の化合物と、ハロゲン原子を有する下式（２）のシラン化合物とを反応させ、フルオレン骨格を有するケイ素含有ポリマーを提供する。
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【課題】Ｓｉｃ結合ポリエーテルシロキサンの調製方法を提供する。
【解決手段】本発明の対象は、ポリオキシアルキレン−ポリシロキサン−ブロック混合ポリマーまたはアルキルポリシロキサン−ポリオキシアルキレンポリシロキサン−ブロック混合ポリマーの調製方法であって、ポリシロキサンブロックがＳｉｃ結合によってポリエーテルブロックまたはアルキル残基に結合されている方法において、ポリオキシアルキレン−ポリシロキサン−ブロック混合ポリマーまたはアルキルポリシロキサン−ポリオキシアルキレンポリシロキサン−ブロック混合ポリマーもしくはその溶液をそれ自体周知の水素化触媒と酸活性化担体材料および水の組合せの存在下で流動水素ガス、および場合により不活性の別のガスで、２０〜２００℃の温度、かつ常圧下で０．５〜１０時間にわたって処理することを特徴とする方法である。 （もっと読む）

本発明は、環状シロキサンの開環重合における共触媒としての、トコフェロールの使用に関する。更に、本発明は、ヒドリドを含む環状シロキサンが、モノマーを収得するための第一の触媒の存在下で、一般式(Ｉ)Ｈ_２Ｃ＝ＣＨ−(ＣＨＲ) _ｎ−Ｏ−(ＣＨＲ^１ＣＲ^２Ｒ^３) _ｍＲ^４、又は(ＩＩ)Ｈ_２Ｃ＝ＣＨ−（ＣＨＲ) _ｎ−Ｒ^５(式中、ｎは、０〜４の整数であり、ｍは、０〜５の整数であり、Ｒ、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４は、それぞれ独立して、水素又はＣ_１〜Ｃ_５のアルキルであり、Ｒ^５は、カルボニル基を含む飽和環状炭化水素である)を有する、炭素−炭素二重結合を含む親水性分子と反応し、そして第二の触媒及び共触媒としてのトコフェロールの存在下で、前記モノマーを重合する、親水性ポリシロキサンポリマーを製造する方法に関する。 （もっと読む）

本発明は、オルガノポリシロキサンの製造方法であって、第１工程で、クロロシランを、加水分解可能な塩素１モルあたり０．００２〜０．６モルの水および加水分解可能な塩素１モルあたり０．３〜１．６モルのアルコールと反応させ、その際、アルコールに対する水のモル比は０．００１〜１．５であり、第２工程で、第１工程において得られた反応混合物を場合により水中で不溶性の、０．９ｋｇ／ｌ以下の比重を有する有機溶剤と混合し、かつＳｉ成分１モルあたり水０．２〜１００モルの量で水を計量供給し、かつ第３工程で、第２工程の反応が終了した後に、水アルコール相を分離し、その際、オルガノポリシロキサンの分子量を、第１工程で選択される条件である圧力および温度によって所望の値に調整し、その際、その他の反応パラメーターを維持しながら圧力の上昇によって分子量が増大され、かつ圧力を低下させる場合に分子量が低減され、その際、その他の反応パラメーターを維持しながら、温度の上昇によってオルガノポリシロキサンの分子量が低減され、かつ温度を低下させる場合に分子量が増大される、オルガノポリシロキサンの製造方法に関する。 （もっと読む）

【課題】使用目的に応じてアルコキシシリル基の加水分解反応性を任意に変化させることのできる新規なオルガノポリシロキサンを提供する。
【解決手段】下記式で表される有機官能基及び炭素原子数が異なる複数種のアルコキシ基を含有するオルガノポリシロキサン。
Ｙ_aＲ¹_bＳｉ（ＯＣＨ₃）_c（ＯＣ₂Ｈ₅）_d（ＯＲ²）_e（ＯＨ）_fＯ_{(4-a-b-c-d-e-f)/2}
（Ｙはメルカプト基、エポキシ基、（メタ）アクリロキシ基、アルケニル基、ハロアルキル基及び／又はアミノ基含有有機基、Ｒ¹は脂肪族不飽和結合を有さない非置換一価炭化水素基、Ｒ²は炭素原子数３及び／又は４のアルキル基、０．０１≦ａ≦１、０≦ｂ＜２、０≦ｃ≦２、０≦ｄ≦２、０＜ｅ≦２、０≦ｆ≦１、ｃ＋ｄ≠０、０．１≦ｃ＋ｄ＋ｅ≦２．５、２≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ≦３） （もっと読む）

レジスト下層膜加工用ハードマスク組成物が提供される。前記ハードマスク組成物は、オルガノシラン重合体および溶媒または溶媒の混合物を含み、前記オルガノシラン重合体は、酸触媒の存在下で、式１、２、および３で表される化合物の加水分解物の重縮合によって調製される：


式中、Ｘは、少なくとも１つの置換または非置換の芳香環を含むＣ_６−Ｃ_３０の官能基であり、Ｒ^１はＣ_１−Ｃ_６のアルキル基である；


式中、Ｒ^２はＣ_１−Ｃ_６のアルキル基であり、Ｒ^３はＣ_１−Ｃ_１２のアルキル基である；


式中、Ｒ^４およびＲ^５はそれぞれ独立してＣ_１−Ｃ_６のアルキル基であり、Ｙは、芳香環、置換または非置換の、直鎖または分岐のＣ_１−Ｃ_２０のアルキレン基、骨格中に芳香環、複素環、ウレア基またはイソシアヌレート基を含むＣ_１−Ｃ_２０のアルキレン基、および少なくとも１つの多重結合を含むＣ_２−Ｃ_２０の炭化水素基からなる群から選択される連結基である。
本発明のハードマスク組成物は、優れた膜特性および良好な保存安定性を示し、その満足できるハードマスク特性によって材料層に良好なパターンを転写することを可能にする。加えて、本発明のハードマスク組成物は、後続のパターンのエッチングの際にＯ_２プラズマガスに対して改善されたエッチング耐性を有する。前記ハードマスク組成物は、高い親水性の薄膜の形成に使用することができ、したがって薄膜の上部の反射防止コーティングとの界面の相溶性の改善に効果的である。さらに、前記ハードマスク組成物を用いた半導体集積回路デバイスの製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】可視光領域の波長における透過性にすぐれ、耐熱性が高く、クラック耐性や耐溶剤性に優れた膜を形成できる特性を有する新規シリコーン共重合体を提供する。
【解決手段】下記一般式


（式中、Ａ、Ｘは炭化水素基を示す。）で示されるアシロキシ基を含有するシルセスキオキサン単位を含むシリコーン共重合体。 （もっと読む）