Fターム[4J246HA63]の内容
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ポリマーの製造方法、ポリマー、絶縁膜形成用組成物、絶縁膜の製造方法、および絶縁膜
本発明のポリマーの製造方法は、1種以上の(A)ポリカルボシランの存在下、(B)加水分解性基含有シランモノマーを加水分解縮合することを含み、前記(A)ポリカルボシランのうち少なくとも1種が、以下のポリカルボシラン(I)である。
(I)下記一般式(1)で表される化合物をアルカリ金属およびアルカリ土類金属の少なくとも一方の存在下に反応させて得られる、重量平均分子量500以上のポリカルボシラン(I):
R1mY3−mSiCR2nX3−n ・・・・・(1)
(式中、R1,R2は同一または異なり、それぞれ1価の有機基または水素原子を示し、Xはハロゲン原子を示し、Yはハロゲン原子またはアルコキシ基を示し、kは0〜3の整数を示し、mおよびnは同一または異なり、0〜2の整数を示す。)
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光起電アプリケーション用のシリコーンベース誘電被膜及びフィルム
【課題】ロール・トゥ・ロールプロセスでの使用に適応した高温安定性の平坦化フレキシブル誘電基板及びそれに用いる誘電被膜を提供すること。
【解決手段】式:[RxSiO(4-x)/2]n(ここで、x=1〜4、Rはメチル、フェニル、ヒドリド、ヒドロキシ、アルコキシ又はこれらの組み合わせ(ただし、1<x<4)で表されるシリコーン組成物を含む、導電性基板上に用いられる誘電被膜である。Rはまた、アルキル又はアリール基、アリールエーテル、アルキルエーテル、アリルアミド、アリールアミド、アルキルアミノ及びアリールアミノラジカルから独立して選ばれた他の1価ラジカルからなる。誘電被膜は網目構造を有する。光起電基板がまた開示され、その表面上に誘電被膜が設けられた導電性材料を含む。
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新規高分子およびそれを用いたナノ多孔性低誘電性高分子複合体の製造方法
【課題】絶縁膜中に規則的で均一なナノ気孔を形成させ得る新規星型高分子物質の提供。
【解決手段】アルコキシシラン末端基を有し、中心部にエーテル基を有する式(I)で表される星型高分子を気孔誘導体として用いると、規則的で均一に分布されたナノ気孔を有する低誘電性シリケート高分子薄膜が得られる。前記星型高分子は、環状モノマーを多価アルコールと開環重合させた後、得られた高分子をアルコキシシラン化合物と反応させることによって製造される。
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