【課題】ダクタイル鋳鉄などのフェライト相が多く析出した被削材の高速連続切削加工および断続切削加工で、すぐれた耐摩耗性、耐欠損性、耐溶着性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】ｃＢＮ基超高圧焼結材料製工具基体の表面に、平均層厚０．１〜０．３μｍの非晶質ＢＮからなる下部層、平均層厚０．１〜０．３μｍのＴｉＢＮからなる中間層、平均層厚１．０〜２．０μｍのＴｉＡｌＮからなる上部層を順次蒸着形成し、すくい面とホーニング面の上部層を除去することによって、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】鋼、鋳鉄等の鉄系材料の切削加工において、すぐれた密着性、付着強度、靭性、耐熱衝撃性、耐摩耗性を発揮する複合硬質膜を被覆形成した表面被覆切削工具を提供すること。
【解決手段】 工具基体の表面に、ＷＣとＴｉＮの複合硬質膜からなる中間層およびＴｉＮとｃＢＮの複合硬質膜からなる上部層を被覆形成した表面被覆切削工具において、中間層の工具基体側ではＷＣ含有比率が高く（好ましくは、ＷＣ／（ＷＣ＋ＴｉＮ）＝０．６〜０．９。但し、体積比）、上部層側ではＴｉＮ含有比率が高くなる（好ましくは、ＴｉＮ／（ＷＣ＋ＴｉＮ）＝０．７〜０．９。但し、体積比）組成傾斜構造を備え、また、上部層の中間層側ではＴｉＮ含有比率が高く、表層側ではｃＢＮ含有比率が高くなる組成傾斜構造を備える。 （もっと読む）

【課題】焼入鋼等の高硬度鋼の高速切削加工で、すぐれた耐チッピング性、耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供すること。
【解決手段】ＷＣ基超硬合金からなる工具基体の表面に、ｃＢＮ、ｈＢＮおよびａＢＮの混合相からなる複合硬質層が形成された表面被覆切削工具において、工具基体と複合硬質層との間に、ｃＢＮとＷＣの混合相からなる複合中間層が形成されており、該複合中間層は、好ましくは、工具基体側から複合硬質層側へ向うにしたがって、ＷＣ含有比率が減少し、ｃＢＮ含有比率が増加する組成傾斜構造を備えている。 （もっと読む）

【課題】密着性が良好でｃ−ＢＮ相を高い割合で有する極めて実用性に秀れた窒化ホウ素皮膜の提供。
【解決手段】ｃ−ＢＮ相を含む窒化ホウ素皮膜であって、ｃ−ＢＮ相の平均結晶粒径が５〜１００ｎｍであり、各々の結晶の周りが厚さ１〜２０ｎｍのｓｐ^２結合相で囲まれた組織を有する窒化ホウ素皮膜。 （もっと読む）

【課題】 過酷化する鍛造、ダイカスト等の環境下においても、潤滑剤付着性および耐久性に優れた被覆金型と、その製造方法を提供する。
【解決手段】 金型基材の表面にスパッタリング法によって皮膜を被覆した被覆金型であって、該皮膜は、窒化物、炭化物、炭窒化物のうちの１種以上でなる硬質膜と、その直上に被覆された窒化物、炭化物、炭窒化物のうちの１種以上でなる潤滑膜からなり、該潤滑膜は、表面粗さが算術平均粗さＲａ：０．０８μｍ以上、最大高さＲｚ：０．８４μｍ以上であり、金型基材の表面に対して略垂直方向に界面を有する針状粒子の集合体でなる、被覆金型である。
本発明に係る上記の皮膜は、そのスパッタリング時の成膜条件を制御することで達成できる。例えば、潤滑膜は、被覆時の基材バイアス電圧を−０Ｖ〜−６０Ｖとする。硬質膜は、基材バイアス電圧を−６０Ｖ超〜−１６０Ｖとすることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】耐チッピング性、耐摩耗性に優れ、被削材の仕上げ面精度にも優れ、高硬度鋼切削用として好適な、長期の使用にわたって優れた切削性能を発揮する表面被覆切削工具を提供すること。
【解決手段】立方晶窒化ほう素粒子を４０〜７０体積％含有し、残部は硬質分散相と結合相とからなる立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製工具基体の表面に、０．５〜５．０μｍの平均膜厚で、柱状に成長した立方晶窒化ほう素の含有割合が３０〜６０面積％である窒化ほう素膜を蒸着してなる表面被覆切削工具。 （もっと読む）

【課題】 従来よりも高温に耐え得るｃＢＮ膜を含む高硬度被膜を提供する。
【解決手段】 本発明に係る高硬度被膜は、母材１０としての超硬合金の上に形成された中間層３０と、この中間層３０の上に形成されたｃＢＮ膜５０と、を具備する。中間層３０は、その本体としてのＣｒＮ層３４と、これを挟んで形成された接着層としてのＣｒ層３２および３６と、から成る。ｃＢＮ膜５０は、その本体としてのｃＢＮ層５４と、このｃＢＮ層５４の下層側に形成された接着層としてのＢ膜と、から成る。ここで、ＣｒＮ層３４の熱膨張率は、７．５［×１０^−６／℃］であり、ｃＢＮ層５４の熱膨張率（＝６．０［×１０^−６／℃］）に近い。従って、ＣｒＮ層３４を含む中間層３０と、ｃＢＮ層５４を含むｃＢＮ膜５０と、の間における熱膨張差が抑制され、熱応力によるｃＢＮ膜５０の剥離が防止される。つまり、ｃＢＮ膜５０を含む母材１０全体の耐熱性が向上する。 （もっと読む）

【課題】スパッタリング法やアークイオンプレーティング法等のＰＶＤ法を用いた場合でも密着性が良好でｃ−ＢＮを高い割合で有する極めて実用性に秀れた窒化ホウ素膜の提供。
【解決手段】基材に、不活性ガスを含む雰囲気中でホウ素を含むターゲット材料を用いた物理蒸着法でｃ−ＢＮの含有率が５０％以上である窒化ホウ素膜を成膜する際、少なくともＡｒとＨｅの２種が混合された混合ガス雰囲気中で成膜を行う。 （もっと読む）

【課題】 真空槽内で被処理物を移動させるための移動手段と、この移動手段を覆う防着カバーと、を備え、移動手段を介して被処理物にバイアス電力が供給されると共に、このバイアス電力の電圧成分が所定の範囲内で任意に調整可能な成膜装置において、防着カバーと移動手段との間に放電現象が生じるのを防止しつつ、当該防着カバーによる防着機能が確実に維持されるようにする。
【解決手段】 移動手段としての自公転ユニット３０は、防着カバーとしての防着板６６および防着壁６８によって覆われている。特に、自公転ユニット３０内の公転板７２と防着板６６との間隔ｄは小さい。従って、これら両者間に不本意な放電現象が生じることが懸念される。本発明では、この間隔ｄが３［ｍｍ］〜１０［ｍｍ］とされる。これにより、当該放電現象の発生が防止される。併せて、防着板６６による防着機能も維持される。 （もっと読む）

【課題】 絶縁性膜の生成時において、当該絶縁性膜が陽極の表面に付着するのを防止し、ひいてはプラズマの安定化を図る。
【解決手段】 本発明に係るイオンプレーティング方式の成膜装置１０によれば、陰極としてのフィラメント４０と陽極としてのアノード４２との間にプラズマが発生する。そして、このプラズマによって、膜材料をイオン化し、イオン化された膜材料を被処理物２８，２８，…の表面に照射することで、当該被処理物２８，２８，…の表面にｃＢＮ膜等の絶縁性膜を形成する。このとき、フィラメント４０については、積極的に加熱されるので、当該フィラメント４０の表面には絶縁性膜は付着しない。一方、アノード４２についても、その表面に当該絶縁性膜が付着するのを防止し得る程度に、自己加熱させる。これにより、これら両者間に発生するプラズマの安定化が図られる。 （もっと読む）

基材と酸素化ガスが注入された被覆層とを有する物体が開示される。本発明の被覆層によって、従来の被覆と比較して改善された物理的耐久性、耐薬品性、光透過性、およびアブレーション性が得られる。
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【課題】共有結合やイオン結合によって構成されている硬質被膜に、生産性や被膜性能を大きく損なうことなく所定の導電性を持たせて、通電センサ等によって通電の有無を検出する場合にも使用できるようにする。
【解決手段】共有結合またはイオン結合によって構成されている機能層３４の上に、機能層３４と同じ組成であるが非金属元素の割合が機能層３４よりも低い導電層３６を設け、所定の導電性が得られるようにする。すなわち、非金属元素の割合が減ることで共有結合或いはイオン結合の割合が減少し、その分だけ金属結合の割合が増加して導電性が高くなる。これにより、通電センサ等によって検出される通電の有無などで位置を検出したり異常を検知したりする場合にも用いることができる。しかも、導電層３６は、機能層３４と同じ組成で非金属元素の割合を低くしただけであるため、被膜性能や生産性の低下を最小限に抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】ＷＣ基超硬合金を基材とする被覆工具において、皮膜と基材の密着強度を改善し、実用環境下において皮膜剥離を格段に低減し、耐摩耗性に優れた被覆工具、及び被覆工具の製造方法を提供することである。
【解決手段】ＷＣ基超硬合金を基材とする工具に硬質皮膜を被覆した被覆工具において、該基材の表面の結晶構造がｂｃｃ構造からなるＷ改質相であり、該Ｗ改質相の直上に炭化物相、該炭化物相の直上に硬質皮膜を有することを特徴とする被覆工具及びその製造方法である。 （もっと読む）

【課題】電子顕微鏡用試料ホルダの電子線窓に、薄くかつ反応性の低い薄膜を形成すること。
【解決手段】本発明は、ＢＮ膜を形成すべき基板を冷却する工程Ｓ１２と、スパッタリング法を用い、前記基板上に非晶質ＢＮ膜を形成する工程Ｓ１４と、を有する薄膜形成方法、前記薄膜を用いた電子顕微鏡用試料ホルダおよびその形成方法である。本発明によれば、非晶質ＢＮ膜を均一に形成することができる。よって、反応性の低いＢＮ膜を薄く形成することができる。 （もっと読む）

【課題】マグネトロンスパッタリング法により、立方晶窒化硼素含有皮膜を形成するにあたり、基板に与えるバイアス電圧を従来よりも低減して、残留応力の小さい立方晶窒化硼素含有皮膜を形成する。
【解決手段】Ｂ_４Ｃ（炭化四硼素）含有ターゲットを用い、マグネトロンスパッタリング法により、前記ターゲットを構成する硼素と窒素含有ガス中の窒素を反応させて立方晶窒化硼素含有皮膜を形成するにあたり、下記条件（ａ）（ｂ）および（ｃ）を満たすようにして前記ターゲットを構成する硼素のイオン化を促進させつつ、上記皮膜を形成する。
（ａ）電力投入方法：パルス状、（ｂ）投入電力パルス幅：１００μｓ以下、（ｃ）前記ターゲットのエロージョンエリアにおける最大投入電力密度：０．３３ｋＷ／ｃｍ^２以上 （もっと読む）

【課題】耐熱合金の高速断続切削加工で硬質被覆層がすぐれた潤滑性、耐チッピング性、耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体表面に、下部層として、（Ａｌ_１−ＸＴｉ_Ｘ）Ｎあるいは（Ａｌ_{１−Ｘ−Ｚ}Ｔｉ_ＸＭ_Ｚ）層（但し、０．３≦Ｘ≦０．５、０．００１≦Ｚ≦０．１、かつ、Ｍは、Ｚｒ、Ｙ、Ｖ、Ｗ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｃｒ、ＳｉまたはＢから選ばれる１種または２種以上の元素）を形成し、上部層として、（Ｃｒ_１−ａＢ_ａ）Ｎ_ｂ相（但し、０．４≦ａ≦０．７、０．１５≦ｂ≦０．５５）素地に、下部層との界面から上部層最表面へ向かうにしたがって、ＢＮ相の分散分布面積割合が次第に増加するＢＮ分散ＣｒＢＮ層を形成する。 （もっと読む）

本発明は、ｃＢＮ、亜酸化ホウ素及び／又は炭化ホウ素の超硬質研磨材料の基材と、金属が、好ましくはＴｉであり、好ましくは実質的に、炭化物、窒化物又はホウ化物の形である、炭化物／窒化物／ホウ化物を形成する金属の第１の層と、Ｗ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｔａ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、及びそれらの合金から選択される高融点金属の第２の層と、第２の層の金属が、オーバーコーティングの金属と異なり、Ａｇ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｒｅ、並びに青銅（Ｃｕ／Ｓｎ）、銀／青銅、及び銀／錫等のその任意の組み合わせ及び合金のオーバーコーティングを含む、ｃＢＮ、亜酸化ホウ素及び炭化ホウ素から選択される、ホウ素又は窒素を含有するコーティングされた超硬質研磨材料に関する。本発明は、さらに、このような材料の製造方法と、このような材料の工具における使用と、このような材料を含む工具とに関する。 （もっと読む）

【課題】プラズマやアーク放電などで加熱しても微粒子となり難い物質を成膜させる物理蒸着装置および物理蒸着方法を提供する。
【解決手段】内部に蒸発源材料１５と蒸発源材料１５を加熱させる加熱部１６とを備える蒸発チャンバー１０と、内部に粉体を備える粉体供給源２０と、成膜チャンバー３０とを有し、蒸発源材料１５を加熱部１６により加熱し、微粒子（ナノ粒子）を発生させ、微粒子と粉体とを超音速ノズル３５から噴出させ超音速ガス流に乗せ、成膜対象基板３３に物理蒸着させる。 （もっと読む）

【課題】 従来よりも大型の被処理物に対応することができ、そのような被処理物に対しても期待通りの表面処理を施すことができる。
【解決手段】 この発明に係る表面処理装置は、熱電子を放出する直線状のフィラメント４０と、当該熱電子を加速させて気体粒子に衝突させることによってプラズマを発生させるアノード４２と、を備えている。このうち、フィラメント４０は、積極的に加熱されるために、熱膨張を生じる。しかし、フィラメント４０には、その一端を支持する可動式支持部２００（張力付与機構２１０）によって張力が付与されているので、当該フィラメント４０は熱膨張しても、変形しない。従って、このフィラメント４０とアノード４２との間に発生するプラズマは、安定化される。また、フィラメント４０の長さ寸法を適宜設定することで、様々な寸法の被処理物に柔軟に対応することができる。 （もっと読む）

【課題】窒化硼素皮膜の耐摩耗性を維持した状態において、残留圧縮応力を低減させ、更に被覆部材の耐剥離性を改善することが可能な被覆部材を提供する。
【解決手段】基材表面に硼素、窒素、酸素からなる化合物皮膜を被覆した部材であり、該化合物皮膜は、非晶質窒化硼素内に結晶質窒化硼素が分散した組織構造を有し、硼素と酸素との結合を有し、且つ、該化合物皮膜の断面における結晶質窒化硼素の粒子の面積を、円の面積として置き換えた場合の直径である等価円直径として求めた場合、１０ｎｍ未満であり、を特徴とする被覆部材である。 （もっと読む）