【課題】特に耐筆記性などの耐久性を向上させた透明導電性積層フィルムを提供する。
【解決手段】 透明なプラスチックフィルムからなる基材層（Ａ）上の一方の面に０．２μｍ以上２０μｍ以下のハードコート層（Ｈ）、反対の面に重合可能なアクリル系のモノマーまたはモノマーとオリゴマーとの混合物（ｂ）を硬化してなる厚さ０．１μｍ以上２０μｍ以下の被膜層（Ｂ）、前記被膜層（Ｂ）上に透明導電膜層（Ｃ）が積層されてなり、前記被膜層（Ｂ）を形成する前記重合可能なアクリル系のモノマーまたはモノマーとオリゴマーとの混合物（ｂ）の硬化収縮率が０．２％以上１０％以下であることを特徴とする透明導電性積層フィルム。 （もっと読む）

【課題】 グラデーション濃度分布を有する吸収型多層膜ＮＤフィルターについて、光が透過する位置により平均透過率が変化しても分光透過特性の形状変化を最小限に抑えることができる吸収型多層膜ＮＤフィルターを提供する。
【解決手段】 樹脂フィルム基板の少なくとも片面に酸化物誘電体膜層と金属吸収膜層が交互に積層されてなる吸収型多層膜を具備し、光軸中心から離れるにつれて透過率が徐々に低くなるグラデーション濃度分布を有しており、金属吸収膜層が膜厚分布を有すると同時に、酸化物誘電体膜層は該金属吸収膜層の膜厚分布に対し反対の膜厚分布を有している。 （もっと読む）

【課題】ＺｎＯ系酸化物を含む材料を採用するとともに、隣接する反射層、記録層の劣化が生じ難く、密着性が良好で、尚且つ高速成膜可能であるスパッタリングターゲット及びその製造方法並びに光情報記録媒体用薄膜（特に保護膜としての使用）及びその製造方法を提供し、これによって、光情報記録媒体の特性の向上及び生産性を大幅に改善する。
【解決手段】ZnOを主成分とするホモロガス構造を有する酸化物に、Ta、Yの何れか１種又は２種の元素の酸化物を含有する材料から成ることを特徴とするスパッタリングターゲット。(In₂O₃)(ZnO)_m、m≧1のホモロガス構造を有し、これにTa、Yの何れか１種又は２種の元素の酸化物を含有する材料から成ることを特徴とするスパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】スパッタ法により、より簡便な装置構成で、高いスパッタ速度で十分に酸化された酸化チタン膜が形成できるようにする。
【解決手段】プラズマ生成室１０４内にＥＣＲプラズマ１１１を形成させる。例えばアルゴンガスの供給流量は８sccm，酸素ガスの供給流量は１．４sccmとする。このようにしてＥＣＲプラズマを生成してスパッタ状態にすると共に、ヒータ１０７により基板１０３を例えば６００℃に加熱し、加熱された基板１０３からの輻射熱１７１によりターゲット１０２を加熱する。この状態を所定時間継続することで、加熱されたターゲット１０２よりスパッタされている粒子（Ｔｉ原子）１４１が、ＥＣＲプラズマ中の酸素イオンや酸素ラジカルなどの活性化された酸素により酸化されて基板１０３の上に堆積し、基板１０３の上に酸化チタン膜１１２が形成される。 （もっと読む）

【課題】吸湿性に優れる吸湿層を有するガスバリア性シート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基材２と、基材２の上に設けられた吸湿層３と、を有するガスバリア性シート１Ａであって、吸湿層３がアルカリ金属酸化物又はアルカリ土類金属酸化物を含有し、ガスバリア性シート１Ａの表面の最大高低差（Ｒｍａｘ）を１０００ｎｍ以下とすることにより上記課題を解決する。吸湿層３は、室温（２５℃）よりも低い温度で形成する吸湿層形成工程によって形成される。 （もっと読む）

【課題】洗浄によって基板表面に付着した異物を、薄膜形成前に除去することにより、良好な膜質を有する光学フィルターの製造方法を提供する。
【解決手段】水分を含んだ溶液を用いて基板Ｓを洗浄する洗浄工程Ｐ１と、洗浄工程Ｐ１によって洗浄された基板Ｓの表面を酸素ガスのプラズマによりプラズマ処理する前処理工程Ｐ３と、前処理工程Ｐ３によってプラズマ処理された基板Ｓの表面に薄膜を形成する薄膜形成工程（Ｐ４，Ｐ５）と、を行うことで、基板表面に付着した異物を効果的に除去することができる。また、前処理工程Ｐ３では、プラズマを発生させる領域に酸素ガスのみが導入され、且つ、導入される酸素ガス流量は、薄膜形成工程で導入される酸素ガス流量よりも多くすることで、洗浄工程において基板Ｓの表面にＯＨ基結合を介して付着した異物を、薄膜形成工程（Ｐ４，Ｐ５）の前に効果的に取り除き、膜抜け部の発生を防ぐ。 （もっと読む）

【課題】光学機能および導電機能に優れた機能性フィルムを、機械強度を低下させることなく、作製し、提供する。
【解決手段】樹脂基板１１の少なくとも一方の面上に、樹脂基板１１とは屈折率の異なる光学膜を有し、光学膜は、樹脂基板１１と接する側から、屈折率ｎ１が１．５０〜２．００、膜厚ｄ１が１〜１０ｎｍの第１の薄膜層１３、屈折率ｎ２が１．９０〜２．５０、膜厚ｄ２が１０〜３５ｎｍの第２の薄膜層１４、屈折率ｎ３が１．３５〜１．５０、膜厚ｄ３が３５〜８０ｎｍの第３の薄膜層１５、屈折率ｎ４が１．９０〜２．２０、膜厚ｄ４が１０〜３０ｎｍ、表面抵抗値が１５０Ω／□〜８００Ω／□の第４の薄膜層１６を積層し、ｎ２＞ｎ４＞ｎ１＞ｎ３であり、機能性フィルムのＬ＊ａ＊ｂ＊表色系で表したときのｂ＊の値が−１．０以上２．０以下である機能性フィルム１０。 （もっと読む）

【課題】帯電防止性、反射防止性および耐久性に優れ、むくみの発生しない光学物品およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】眼鏡レンズは、レンズ基材１１０と、このレンズ基材１１０の表面に設けられたハードコート層１２０と、このハードコート層１２０の上に設けられた反射防止層１３０とを備えて構成されている。反射防止層１３０は、屈折率が１．３〜１．５である低屈折率層と、屈折率が１．８〜２．４５である高屈折率層とを順に積層したものである。この反射防止層１３０は、レンズ基材１１０側から外側に向けて順に配置された第１層１３１、第２層１３２、第３層１３３、第４層１３４、第５層１３５、第６層１３６、第７層である透明導電層１３７及び第８層１３８から構成される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、内部応力が小さい酸化亜鉛薄膜を提供することを課題とする。
【解決手段】透明基材上に蒸着プロセスを経て形成される酸化亜鉛薄膜であり、該薄膜はＣｕＫα線を用いたＸ線回折法により酸化亜鉛の（００２）面からの回折線が得られ、最大ピーク強度Ｉｆ（ｃｐｓ：酸化亜鉛）を膜厚（ｎｍ）と透明基材が示すハローの最大ピーク強度Ｉｓ（ｃｐｓ：透明基材）とで除した数が０．１５以下とすることとし、さらに該薄膜の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．９８以下とすること。 （もっと読む）

【課題】酸化亜鉛透明導電酸化物層上に低屈折率のカーボン膜を形成することで、光線透過率は向上するが、水分や空気に対する耐久性は向上しない。また、有機珪素化合物層を酸化亜鉛透明導電酸化物層上に直接形成しようとしても、大面積では均一に形成することが困難であったが，それを解決する透明導電膜の製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板１上に透明導電酸化物層２／カーボン層３のさらにその上に、有機珪素化合物層４を形成することで、水分や空気に対する耐久性の向上が可能となり、さらに大面積にした場合も均一に作製することができる。 （もっと読む）

【課題】基材フィルムの少なくとも一方の面にアンカーコート層、無機酸化物層を順次形成してなる透明ガスバリアフィルム、及びそれを用いた透明包装材料において、無機酸化物層の厚さを増大させることなくガスバリア性を確保するフィルムの提供。
【解決手段】アンカーコート層と無機酸化物層との界面について、連続傾斜ＴＥＭ像（−６０°〜＋６０°、１°ステップ）を撮影した後、Ｆｉｄｕｃｉａｌ Ｍａｒｋｅｒ法による画像位置補正を行うことで３次元再構成像を得た際の界面における表面粗さＲｍｓが１．０ｎｍ以下である透明ガスバリアフィルム。 （もっと読む）

【課題】安定した一定量の酸素欠陥を導入することができ、光透過率が良好であり、低い電気抵抗及び良好な導電性を有する透明導電膜を形成するスパッタリング複合ターゲット、これを用いた透明導電膜の製造方法及び透明導電膜付基材を提供する。
【解決手段】スパッタリング複合ターゲット１は、酸化インジウムを含む酸化物系成分２と、炭素系成分３ａ〜３ｄとを有し、酸化物系成分２と炭素系成分３ａ〜３ｄが各々別体の場合は、酸化物系成分２の表面の少なくとも一部に炭素系成分３ａ〜３ｄを積層して用いる。透明導電膜の製造方法は、酸化インジウムを含む酸化物系成分と、炭素系成分とを有するスパッタリング複合ターゲットを用いて、基板上に透明導電膜を形成する。透明導電膜付基材はプラスチックのシート又はフィルムに透明導電膜を形成して成る。 （もっと読む）

【課題】純イットリア耐食膜を基材上に速い成膜速度で形成できる量産性に優れた直流反応性対向ターゲット方式スパッタリング成膜方法を提供する。
【解決手段】真空チャンバ１内のターゲット配置領域２内に一対のイットリウム金属からなるターゲット５，５を互いに対向させて配置し、成膜領域３内には基材７を配置する。そのターゲット５，５に直流電圧を印加してターゲット５，５間に発生させたプラズマＰを磁界によってターゲット５，５間に拘束すると共に、その磁場空間にアルゴンガス等の不活性ガスを供給する。一方、基材７に向けて酸素ガス等の反応性ガスを供給しつつ、真空チャンバ１内の不活性ガスの圧力を0.01〜1.0Paに設定し、プラズマＰ中に反応性ガスを実質的に侵入させることなく基材７の表面でイットリウム金属原子と反応性ガスを結合させて純イットリア耐食膜を基材７上に形成する。 （もっと読む）

【課題】透明基材表面の微細な凹凸を平滑化し、平滑な面上に無機酸化物層を形成することで、高い透明性を保持しつつ、高いガスバリア性を有し耐久性もあるガスバリア積層フィルムを提供する。
【解決手段】透明基材の少なくとも一方の面上に、バリア層を積層してなる透明ガスバリア積層フィルムにおいて、前記バリア層は、１層以上の有機化合物膜からなる有機化合物層３と、１層以上の無機化合物膜からなる無機化合物層４と、を順次積層してなり、前記無機化合物層４と接している有機化合物膜は、Ｓｉ原子もしくはＦ原子を含有する化合物を１種類以上含んでおり、前記有機化合物層３の膜厚は、１０ｎｍ以上１μｍ以下であり、前記無機酸化物層４の膜厚は、５ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることを特徴とするガスバリア性積層フィルム１。 （もっと読む）

【課題】 太陽電池の発電効率を高めるために光吸収膜の上にスパッタリング法で製膜される透明導電膜の近赤外波長域に至るまでの光透過率を高めることが可能なスパッタリングターゲットを提供すること。
【解決手段】 亜鉛に対して０．１ａｔ％から２０ａｔ％の正三価以上の元素の一種または二種以上を加えて第一の焼結をした酸化物１００重量部に対して５〜２０重量部の金属亜鉛を加えて、７００〜１１００℃の温度範囲で第二の焼結を行い、所定の加工を施してスパッタリングターゲットを得る。該スパッタリングターゲットは金属亜鉛が酸化物相に固溶していない混晶組織からなり、該スパッタリングターゲットを用いてスパッタリングすることにより単一酸化物相の透明導電膜が得られ、６００ｎｍ以上の波長域で光透過率を高めることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】アーキングの抑制とクリーニング頻度の低減により、欠点の少ない膜を生産性よく製造する。
【解決手段】陽極部(30)の内部又はその近傍に補正磁気回路(32)を設け、ターゲット(18)を貫通する磁力線の一部が防着板(27)を迂回して陽極部(30)の一部を貫通する磁界を形成する。防着板(27)は、補正磁気回路(32)単独の磁力線が陽極部(30)表面の法線と最も平行に近くなる点のうち、該法線方向の前記陽極の一部を貫通する磁界の貫通位置に近い方の点における法線の方向(48)とのなす角度が１０度以下の着膜側表面(27Ａ)を有する。 （もっと読む）

本発明は、基板上の透明バリア層システムに関しており、このバリア層システムには一連の個別層が含まれており、これらの個別層は層Ａおよび層Ｂから交互に構成されており、層Ａと層Ｂとは、水蒸気が透過する際の活性化エネルギが少なくとも1.5kJ/molの差分だけ異なる。
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【課題】長尺の基材フィルムを一度に投入でき、かつ連続成膜した導電性薄膜の抵抗値分布を保証し制御することができるとともに均一な膜質の導電性薄膜を連続して形成できる真空成膜装置を提供する。
【解決手段】ロール・トゥ・ロール方式真空成膜装置５０において、導電性フィルム５８の表面抵抗値を測定する非接触式の抵抗測定手段５６に加えて、成膜手段５５ｂと巻取り手段５４との間に導電性フィルム５８の光線透過率及び／または光線反射率を連続して計測する光線測定手段６０と、抵抗測定手段５６で測定された表面抵抗値及び光線測定手段６０で計測された光線透過率及び／または光線反射率に基づいて導電性薄膜の膜特性が均一になるように成膜手段５５ａ，５５ｂの成膜条件を調整する制御手段６５を備える構成にした。 （もっと読む）

【課題】カルーセルのような回転ドラムを使用した成膜において、カルーセルの回転軸と装置本体の軸受けの非常に微小な偏芯が製品の特性バラツキに影響を及ぼす。
【解決手段】チャンバーであるチャンバー３内に円筒状または多角形状のドラムが回転可能に設けられ、該ドラムの外周面上に基板１０が格納される基板ホルダ９が取り付けられ、該ドラムが垂直な回転軸の周りを回転しながら基板１０に成膜するカルーセル型のスパッタ成膜装置において、チャンバーであるチャンバー３内壁に設けられ基板１０に成膜するターゲット７，８と、基板ホルダ９がターゲット７、８と正面に対向した位置のターゲットと基板１０との距離を測定して回転ドラムの偏芯量を測定する偏芯測定装置１３と、を備え、偏芯測定装置１３からの出力により、各基板ターゲットに対応してターゲット電力を修正する。 （もっと読む）

【課題】透明基板上に透明導電酸化物層を有する透明導電膜において、導電性を低下させずに光線透過率が向上する透明導電膜を提供する。
【解決手段】少なくとも１層からなる透明導電酸化物層１上に、該透明導電酸化物の片面または両面にはカーボン層２が形成され、該カーボン層が、メタン・二酸化炭素・水素のうちから選択した１種類以上のガスを用いて高周波プラズマＣＶＤ法により製膜され、且つ各ガスの体積が下式のいずれか１つを満たすことを特徴とする透明導電膜の製造方法。
０．７≦メタン／（メタン＋水素）≦１．０
０．６≦メタン／（メタン＋二酸化炭素）≦１．０
０．０４≦二酸化炭素／（水素＋二酸化炭素）≦０．１０ （もっと読む）