【課題】装飾部品の表面にＡｕを含有する硬質膜であり、特にＡｕ固有の光沢と色調とを有して明度の高く耐傷性に富んだことを特徴とした装飾部品を提供すること。
【解決手段】表面に硬化層を有し、硬化層はＴｉ、Ｚｒ、またはＨｆのうちから選ばれる一種類以上の金属からなる窒化物、炭化物または炭窒化物で構成された下地層と、ＡｕまたはＡｕ合金からなる仕上層と、下地層と仕上層との間に設けた硬質透明誘電体層によって構成することにより、Ａｕ固有の光沢と色調とを有して明度が高く傷の目立たない高品位な装飾部品を達成できる。硬質透明誘電体層は積層構造を有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】電子顕微鏡用試料ホルダの電子線窓に、薄くかつ反応性の低い薄膜を形成すること。
【解決手段】本発明は、ＢＮ膜を形成すべき基板を冷却する工程Ｓ１２と、スパッタリング法を用い、前記基板上に非晶質ＢＮ膜を形成する工程Ｓ１４と、を有する薄膜形成方法、前記薄膜を用いた電子顕微鏡用試料ホルダおよびその形成方法である。本発明によれば、非晶質ＢＮ膜を均一に形成することができる。よって、反応性の低いＢＮ膜を薄く形成することができる。 （もっと読む）

【課題】相変化光ディスクの記録層と保護層との間中間層として、リアクティブスパッタリングによって成膜されるＧｅＣｒＮ系層の成膜速度及び膜組成のばらつきを抑制し、製品歩留まりを上げることができるＧｅ−Ｃｒ合金スパッタリングターゲット及びその製造方法を提供する。
【解決手段】Ｃｒ５〜５０ａｔ％を含有するＧｅ−Ｃｒ合金スパッタリングターゲットにおいて、相対密度が９５％以上であることを特徴とするＧｅ−Ｃｒ合金スパッタリングターゲット及び平ふるい下７５μｍ以下のＣｒ粉と、ふるい下２５０μｍ以下でありかつＢＥＴ比表面積０．４ｍ^２／ｇ以下であるＧｅ粉を均一に分散混合させた後、焼結することを特徴とするＧｅ−Ｃｒ合金スパッタリングターゲットの製造方法。 （もっと読む）

【課題】SiO蒸着材料を用いる透明ガスバリア性フィルムの製造方法において、SiOx蒸着フィルムが黄色味を帯びずに高い透明性を備えながら、優れたガスバリア性も付与できる前記製造方法を提供する。
【解決手段】基材フィルムの少なくとも一方の面に、ＳｉＯ蒸着材料を用い、反応ガスを導入しない雰囲気下でエレクトロンビーム（ＥＢ）蒸着方法によりＳｉＯｘ膜を形成する透明ガスバリア性フィルムの製造方法であって、前記ＳｉＯ蒸着材料は、少なくとも金属ケイ素とその酸化物とシリカゾルを含み、かつ、固形分比が４０％以上７０％以下であるスラリーを乾燥、焼結したものであり、前記ＳｉＯ蒸着材料のＯ／Ｓｉ比は１．４以上１．６以下であり、前記ＳｉＯ蒸着材料の嵩密度は６０％以上８０％以下であることを特徴とする透明ガスバリア性フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】バリア性能が向上したバリア性積層体を提供する。
【解決手段】少なくとも１層の有機層と、少なくとも１層の無機層とを有し、前記有機層は、重合性化合物と、１分子中に２以上の重合開始能を有する部位を有する光重合開始剤を含む組成物を光照射して硬化させてなることを特徴とするバリア性積層体。 （もっと読む）

【課題】簡便かつ効率的で、金型や固定治具等の被洗浄部材に対するダメージが少ない、被洗浄部材の洗浄方法等を提供する。
【解決手段】光学素子製造装置から光学材料成分が付着した被洗浄部材４１を取り出す工程と、取り出された被洗浄部材４１を、光学材料成分を除去する洗浄装置４０に設置する工程と、洗浄装置４０にて、設置された被洗浄部材４１の周囲環境に所定のガスを導入する工程と、導入された所定のガスに高周波電圧を印加してプラズマ化し、被洗浄部材４１の表面をプラズマ化されたガスに晒し、光学材料成分をハロゲン化物にして気化させ除去する工程と、を含む被洗浄部材４１の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、低屈折率ガラスにおいて優れた透過率特性を有し、フレアやゴースト等の発生の少なく、かつ優れたヤケ防止効果を有し、耐久性、耐擦性にも優れた反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置を提供する。
【解決手段】基板上に、第１層〜第５層を基板側からこの順に積層してなる反射防止膜であって、波長領域400〜700 nmの光において、基板の屈折率が1.42〜1.55であり、各層は所定の光学膜厚を有し、第１層はアルミナを主成分であり、第２層〜第４層は所定の屈折率を有し、第５層がシリカを主成分とする多孔質層である反射防止膜。 （もっと読む）

【課題】大きな成膜速度で透明で低屈折率の光学膜を成膜できる透明光学膜の成膜方法を提供し、また該透明光学膜の成膜方法により成膜されてなる透明光学膜を提供する。
【解決手段】フッ素を含む化合物のガス７を導入して全圧８Ｐａ以上とした雰囲気下で、Ｍｇ−Ｓｉメタルターゲット４を用いた反応性スパッタリング法により、基板１１上に透明な光学膜を成膜する。 （もっと読む）

【課題】スパッタリング法による成膜時において、電子や酸素イオンが基板に入射することを防ぎ、基板や基板上の膜へのダメージを低減することで、膜特性を向上させることができるスパッタ装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】成膜材料を備えたターゲット２２と、ターゲット２２の表面２２ａと基板Ｗの表面Ｗ１とを略平行に配置しつつ、基板Ｗをターゲット２２に対して相対移動させる搬送手段と、を有し、基板Ｗの表面Ｗ１の長辺方向の長さより、ターゲット２２の表面２２ａの短手方向における長さが短く形成されたスパッタ装置において、ターゲット２２と基板Ｗとの間において、ターゲット２２の短手方向に磁場を印加する永久磁石２６を有し、基板Ｗをターゲット２２の短手方向に沿って搬送させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機層を用いることなく、耐熱性を向上させた反射防止膜を有するプラスチックレンズおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】プラスチックレンズ基材の表面に直接または他の層を介して多層反射防止膜を有するプラスチックレンズ。前記多層反射防止膜は、金属元素が同一であり、かつ酸素含有量が異なる少なくとも２つの金属酸化物層を隣接して有する複合層を含む。上記のプラスチックレンズの製造方法。前記複合層を構成する各金属酸化物層は、同一の蒸発源を用い、かつ隣接する層同士は、反応性酸素ガス分圧が異なる条件下で蒸着することで形成されることを含む。 （もっと読む）

【課題】強度が強くて傷や磨耗が発生しにくいコーティング層が形成された装飾品を提供すること。
【解決手段】装飾品１０は、装飾品本体１１としてのキュービックジルコニア体の上部に透光性のコーティング層１３を形成したものである。コーティング層１３では、窒化シリコン層（Ｓｉ₃Ｎ₄）および酸化シリコン層（ＳｉＯ₂）が交互に６層ずつ形成されており、その最下層において、装飾品本体１１と接する層は窒化シリコン層である。また、コーティング層１３において、最上層は、酸素より窒素を多く含む酸窒化シリコン層になっている。かかる層はいずれも、反応性スパッタ法により形成されている。 （もっと読む）

【課題】基板上に光吸収特性を有する金属膜を蒸着によって成膜する際に光学特性が安定した光学フィルタ及びその成膜方法を提供する。
【解決手段】基板上に金属膜層と誘電体膜層を積層状に形成する光学フィルタにおいて、その金属膜層を蒸着で形成する際に膜厚さが不安定となる蒸着初期及び／又は蒸着終期に蒸着皮膜に反応性ガス（活性ガス；酸素、窒素、フッ素など）を照射して化合物に変化させることを特徴としている。これによって酸化、窒化などで化合物に変化した被膜は透明となり光の透過率に影響を及ぼすことがない。 （もっと読む）

【課題】透光性の宝飾石の輝きを損なうことなく宝飾石を保持することができ、さらに、宝飾石のパビリオンから光を入射させて、これまでにない輝きを発揮することのできる装飾品を提供すること。
【解決手段】装飾品１において、基台３０にはパビリオン１１１の一部のみが挿入される固定穴３１が形成され、固定穴３１の縁部分３１０と、宝飾石１０のパビリオン１１１において縁部分３１０と対向する部分とが接着剤４０により固定されており、パビリオン１１１の一部のみに接着剤４０が塗布されている。この状態において、パビリオン１１１の大部分が開放状態にあるので、光源装置５からパビリオン１１１に光を入射させてクラウン１１２側から出射させる。 （もっと読む）

【課題】
成膜時の蒸発速度、成膜速度が高く、導電性および透明性に優れ、さらには耐湿性に優れた緻密なＺｎＯ膜を形成するＺｎＯ蒸着材とその製造方法を提供する。
【解決手段】
透明導電膜の成膜に用いられるＺｎＯ蒸着材であって、ＣｅおよびＡｌを含み、Ｃｅ含有量がＡｌ含有量より多く、Ｃｅ含有量が０.１〜１４.９質量％の範囲内およびＡｌ含有量が０.１〜１０質量％の範囲内であるＺｎＯ多孔質焼結体を主体とし、該焼結体が３〜５０％の気孔率を有することを特徴とし、好ましくは、ＣｅとＡｌの合計含有量が０.２〜１５質量％、平均気孔径０.１〜５００μｍ、平均結晶粒径１〜５００μｍのＺｎＯ蒸着材であるＺｎＯ多孔質焼結体とその製造方法。 （もっと読む）

基材上に薄膜を形成するための方法およびシステムを提供する。本システムでは、実質的に非吸光性の薄膜を形成するために、基材表面にコーティング材料を堆積して反応させる。単位時間に形成される非吸光性薄膜の体積は、表面積をｘ倍増加させ、コーティング材料の堆積速度を倍数ｘの逆数より大きな倍数だけ増加させ、それによって単位時間当たりの非吸光性薄膜の体積の形成速度を増加することによって増加させることができる。
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【課題】電波透過性および鏡面のような金属調光沢を有し、該金属調光沢が失われにくく、かつ低コストである電波透過性装飾部材を提供する。
【解決手段】該課題は、基体１２と、該基体１２上に設けられた、シリコンまたはゲルマニウムと金属との合金からなる光反射層１４とを有する電波透過性装飾部材１０により解決され、光反射層１４としては、シリコンまたはゲルマニウムと金属との合金の物理的蒸着によって形成された蒸着膜であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ＺｎＳとＳｉＯ_２を含まないＺｎＯベースのスパッタリングターゲットであり、スパッタリングによって膜を形成する際に、基板への加熱等の影響を少なくし、高速成膜ができ、膜厚を薄く調整でき、またスパッタ時に発生するパーティクル（発塵）やノジュールを低減し、品質のばらつきが少なく量産性を向上させることができ、かつ結晶粒が微細であり８０％以上、特に９０％以上の高密度を備えたスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】Ａ、Ｂは其々異なる３価以上の陽性元素であり、その価数を其々Ｋａ、Ｋｂとしたとき、Ａ_ＸＢ_ＹＯ_{（ＫａＸ＋ＫｂＹ）/2}(ＺｎＯ)_ｍ、１＜ｍ、Ｘ≦ｍ、０＜Ｙ≦０．９、Ｘ＋Ｙ＝２を満たす酸化亜鉛を主成分とした化合物を含有し、かつ相対密度が８０％以上であることを特徴とするスパッタリングターゲットに関する。 （もっと読む）

【課題】基材フィルムの表面に形成した蒸着層に型押しを施して凹凸模様を形成する包装用蒸着フィルムにおいて、より鮮やかな模様が得られるようにする。
【解決手段】蒸着フィルム１は、基材フィルム２の表面にプライマー層５を形成し、プライマー層５の表面に蒸着層３を形成したものである。模様原版４で蒸着層に型押しを施し、凹凸模様を形成する。 （もっと読む）

【課題】光透過における写像性に優れた、彩色、および金属光沢を有する光学薄膜積層体およびそれを用いた加飾成形品を提供することを課題とする。
【解決手段】基材上に薄膜積層体を備える光学薄膜積層体であって、該薄膜積層体が高屈折率薄膜層、低屈折率薄膜層を各１層以上交互に積層した薄膜積層体であり、且つ、前記光学薄膜積層体が光透過における写像性を有することを特徴とする光学薄膜積層体とする。また、前記光学薄膜積層体表面に対して鉛直線方向から測定光を前記光学薄膜積層体に入射したときの光透過法による像鮮明度（ＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠）が、光学くし幅０．１２５ｍｍにおいて８５％以上であることを特徴とする請求項１に記載の光学薄膜積層体とする。 （もっと読む）

【課題】SiOを蒸着材料としたガスバリア性フィルムにおいて、反応ガスを導入しなくても、黄色を呈さず高い透明性を備えながら、優れたガスバリア性を有するガスバリア性フィルムおよびその製造方法の提供。
【解決手段】 基材フィルムの少なくとも一方の面に、ＳｉＯｘ蒸着材料を用い、反応ガスを導入しない雰囲気下でエレクトロンビーム蒸着方法によりＳｉＯｘ膜を形成し、前記ＳｉＯｘ蒸着材料が結晶質のＳｉＯ_２の回折パターンを有するものであり、かつ、前記ＳｉＯｘ蒸着材料の真密度に対する嵩密度が７０％以上８０％未満であるガスバリア性フィルムの製造方法。該製造方法を用いて形成したことを特徴とするガスバリア性フィルムであって、前記ＳｉＯｘ膜の膜厚が２００ｎｍ以下であることを特徴とするガスバリア性フィルム。 （もっと読む）