【課題】従来よりも高速で成膜でき、かつバッチ処理プロセスなしで透明薄膜を得ることができるスパッタ成膜方法を提供し、該スパッタ成膜方法により得られる反射防止膜を提供する。
【解決手段】ＣＯ_２及び／又はＣＯの反応性ガスの存在下で金属ターゲットをスパッタガスによりスパッタリングし、当該スパッタリング中の反応モードを酸化モードとして基板上に前記金属の酸化物からなる透明薄膜を成膜する。 （もっと読む）

【課題】 可視光透過半導体膜の形成の際に、堆積中の膜に光放出装置からの光を照射しながら半導体膜を形成することにより、各種の可視光透過半導体膜を耐熱性の低い透明基板上に形成することを可能にした可視光透過半導体素子を提供することにある。
【解決手段】 透明基板8と、透明基板8への半導体の組成を含む材料の堆積中に光放出装置9bからの光を照射しながら形成される半導体膜とからなることを特徴とする可視光透過半導体素子である。 （もっと読む）

【課題】 ガスバリア性に優れた透明ガスバリア性フィルムを効率良く製造することが可能な透明ガスバリア性フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】 同一の真空槽１２を用いて、透明基材フィルム１８の片面または両面にガスバリア性有機薄膜層およびガスバリア性無機薄膜層を形成する透明ガスバリア性フィルムの製造方法において、前記ガスバリア性有機薄膜層の形成は、前記ガスバリア性有機薄膜層形成材料を気化して発生した蒸気を前記透明基材フィルム１に接触させて塗膜を形成し、前記塗膜を硬化して前記透明ガスバリア性有機薄膜層を形成することで実施され、前記塗膜形成を真空槽１２内で実施し、前記塗膜形成において、前記真空槽１２内の圧力よりも低い雰囲気圧力条件下で前記蒸気を前記透明基材フィルム１８に接触させる。前記真空槽１２内の圧力よりも低い雰囲気条件下は、例えば、真空槽１２の真空引きとは別に設けた真空ポンプ１９により実現する。 （もっと読む）

【課題】
加熱に伴う金属の酸化の抑制には、ガスバリア膜のコーティングが必要である。さらに、金属光沢を保持し、利用者の嗜好を満足させるためには、可視領域における透明性を併せ持つことが求められている。しかし、従来使用されているガスバリア膜は、アルミ蒸着膜やセラミックス膜といった有色のものか、あるいは、高分子膜のような熱に弱いものである。
【解決手段】
ＳｉＯを主成分とするガスバリア膜において、窒素を添加することで可視光透過性を保持したまま、酸素バリア性を向上させた透明酸化抑制膜を提供する。
なし （もっと読む）

本発明は、一般的なレベルで、大きい表面積を備える金属製品をコーティングするための方法に関する。本発明はまた、この方法により製造された、コーティングされた金属製品にも関する。このコーティングは、レーザー光線を反射するための少なくとも１つのミラーを備える回転光学スキャナを用いてパルス状レーザー光線が走査される超短パルスレーザー堆積を用いて実施される。本発明は、いくつかの工業的にかつ品質的に有利な効果（例えば、高コーティング生産速度、優れたコーティング特性および全体的な低製造コスト）を有する。 （もっと読む）

【課題】大きなガラスの表面の均一な塗装を実現すること
【解決手段】本発明は、一般水準で大きな表面領域を有するガラス製品の塗装方法に関する。本発明はまた、前記方法で製造され、塗装されたガラス製品に関する。塗装は、超短パルスレーザー蒸着によって行われ、パルスレーザー光は回転する該レーザー光を反射する少なくとも一つのミラーを備える光学的スキャナでスキャンされる。本発明は、産業的にも品質的にも有利な効果を有し、低い製造温度でガラス製品を塗装することを達成し、高い生産率で、高い塗装の品質及び全体的に低い製造コストを実現する。 （もっと読む）

【課題】高屈折率透明薄膜の成膜において、異常放電の発生回数を少なく抑え、安定して成膜することを可能とするＺｎ−Ｎｂ−Ｇａ酸化物焼結体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】酸化Ｇａ粉末、酸化Ｎｂ粉末を含むスラリーを、粉末の平均粒径が０．５μｍ以下になるまで湿式粉砕し、得られた混合粉末と酸化Ｚｎ粉末を含むスラリーを、粉末の平均粒径が０．５μｍ以下になるまで湿式粉砕して、得られた造粒粉を加圧成形し、成形体を１２００℃以上の温度で焼成することにより、焼結体密度が５．３ｇ／ｃｍ³以上であり、ＥＰＭＡにて観察したＧａ原子とＮｂ原子の凝集体の径が５μｍ以下であるＺｎ−Ｎｂ−Ｇａ酸化物焼結体を得る。 （もっと読む）

【課題】優れた透明性と高いバリア性を有する透明バリアフィルムを提供する。
【解決手段】可撓性プラスチック基材２と、該可撓性プラスチック基材２の少なくとも一方の面に設けた酸化アルミニウムの薄膜バリア層３、およびガスバリア性の保護層４とからなり、該保護層４は１８０℃以上２００℃以下での高温乾燥処理により形成されたものであることを特徴とする透明バリアフィルム１。 （もっと読む）

【課題】 透明樹脂成形体表面に形成された無機化合物膜の密着性に優れ、且つ高温下にさらしてもクラックが入らない光学部品を提供すること。
【解決手段】 脂環構造含有重合体からなる成形体の表面にに、基材と第一層との界面に形成される混合層の厚さが１５ｎｍ以下になるように、五酸化タンタルなどの無機化合物層（第一層）を蒸着速度０．１〜３．０Å／秒でイオンビームアシスト蒸着し、さらにその上に別の無機化合物、例えば、酸化ケイ素層（第二層）、五酸化タンタル層（第三層）、酸化ケイ素層（第四層）などを蒸着して、複数層からなる蒸着膜が形成された光学部品を得る。 （もっと読む）

【課題】優れた初期特性が長期間維持された発光素子、例えば有機ＥＬ発光素子、を得ることができる導電性基板を提供する。
【解決手段】透明基材と少なくとも１層のＩＴＯ層とからなる導電性基板であって、その体積抵抗が８×１０^−４Ωcm以下であり、全光線透過率が７５％以上であり、かつＩＴＯ層中の錫の含有量１５〜４０％であることを特徴する、導電性基板。 （もっと読む）

【課題】３個以上のリングハースに対しても均等に成膜材料を供給することができること。
【解決手段】長期間の連続運転に耐える多量の成膜材料を収容する成膜材料供給室から供給される成膜材料を成膜室内のリングハース上で蒸発させて上方を移送される基板に膜を形成させる真空蒸着装置において、前記リングハースは前記移送される基板の幅方向に３個以上並設されていて、少なくとも両端のリングハースを除く中間のリングハースには、前記成膜材料の供給量を調節可能な電磁振動フィーダにより供給することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】熱による微量の遊離ハロゲンとの反応による反射率の低下を抑制し且つ耐熱性を改善しつつ、高い反射率および低い電気抵抗を有し、しかも熱や湿度に対しても高い安定性を有する反射膜、配線用または電極用薄膜及び半反射型半透過膜、ならびにかかる膜の製造に有用なスパッタリングターゲット材および蒸着材料を提供すること。
【解決手段】Ａｇに、特定少量のＣｕとＴｅ、Ｓｅ、Ｐの少なくとも１種とＭｎを添加し、さらに必要に応じてＩｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、ＲｕおよびＩｒの少なくとも１種および／またはＮｉ、Ｆｅ、ＢｉおよびＣｒの少なくとも１種を少量追加添加してなるＡｇ基合金から構成された、スパッタリングターゲット材または蒸着材料ならびに反射膜、配線用膜、電極用膜または半反射型半透過膜。 （もっと読む）

【課題】量産性向上と経時変化改善の両立が可能となるプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）およびその製造方法を提供する。
【解決手段】走査電極と維持電極とからなる複数の表示電極および誘電体層が順次形成されるとともに、誘電体層が保護膜で被覆された第１の基板ＰＡ１と、第１の基板ＰＡ１との間に放電空間が形成されるように対向配置されかつ表示電極と直交する方向に形成されたアドレス電極を有するとともに放電空間を区画する隔壁間に蛍光体層を形成した第２の基板とを備えたプラズマディスプレイパネルにおいて、保護膜が厚み方向に変化する屈折率を有し、かつ保護膜の誘電体層に近い下層側の屈折率が上層側の屈折率よりも小さい構成とする。 （もっと読む）

【課題】安定した光学特性とを有し、且つ耐久性に富む光学多層膜と、その製造方法とを提供する。
【解決手段】高屈折率誘電体膜３１の一部もしくは全部がアナターゼ結晶構造を有する二酸化チタン製とする。 （もっと読む）

【課題】 製造が容易で、しかもウェハに反りが生じることなく、要求される分光特性を満足するＵＶＩＲカットフィルタを提供する。
【解決手段】 水晶やガラス等からなる基板（ウェハ）１の出射面側に１層から５２層の光学薄膜から成るＵＶＩＲコート２を形成するようにした。そしてウェハ１に成膜した５２層のＵＶＩＲコート２のうち、１〜２８層までは耐候性を挙げるためにイオンアシスト成膜により薄膜を成膜し、２９層〜５２層まではウェハ１に応力が生じないように、上記イオンアシスト成膜よりイオン化エネルギーは極めて低くした弱イオンアシスト成膜により、或いは一般的な加熱蒸着により薄膜を成膜するようにした。 （もっと読む）

【課題】 基板上に形成される光学薄膜の内部応力による基板の反りの発生を防ぐと共に、膜剥がれの発生等を防止した光学薄膜を形成することができるフレーム治具、及びそれを用いた光学薄膜の形成方法を提供する。
【解決手段】
ガラス基板２と、断面がコの字形を有する棒状のステンレスからなり、断面の上面１０ｂが凹にそり幅α反ったフレーム治具１０を、オーブン１１に投入して加熱する加熱工程と、フレーム治具１０のコの字形の溝部（溝１０ａ）にガラス基板２の外周部を保持する保持工程と、フレーム治具１０に外周部が保持されたガラス基板２を冷却する冷却工程と、ガラス基板２の成膜面２ａに真空蒸着法を用いて高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に成膜して誘電体多層膜３を形成する成膜工程とから、ガラス基板２上に光学薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】オレフィン系プラスチック基板と樹脂層との密着性を向上させることができる積層方法及びその積層方法を用いて作製された光学部品を提供する。
【解決手段】オレフィン系プラスチック基板１０の表面にイオンビームアシスト蒸着法によってＴｉＯ₂ 層２０とＳｉＯ₂ 層３０とをこの順序で積層する。次に、ＳｉＯ₂ 層３０の表面にシランカップリング処理を行なう。その後、ＳｉＯ₂ 層３０の表面に紫外線硬化型樹脂層５０を形成する。 （もっと読む）

【課題】 高いバリア性と透明性とを有し、且つバリア性能の経時安定性に優れるという特性を併せ持つガスバリアフィルムおよびこれを用いた有機デバイスを提供する。
【解決手段】 透明可撓性支持体基板２と、無機薄膜からなる最外ガスバリア層３と、金属窒化物または金属炭化物からなる無機薄膜保護層６とをこの順で有し、且つ、透明可撓性支持体基板２と最外ガスバリア層３との間に、中間層４Ａおよび４Ｂと、無機薄膜からなる中間ガスバリア層５と、を有するガスバリアフィルム１であって、無機薄膜保護層６が最外ガスバリア層３の表面に接するように設けられており、且つ、無機薄膜保護層６の水素および酸素の含有量が、無機薄膜保護層６を構成する前記金属窒化物または金属炭化物の金属原子に対してそれぞれ２０原子％以下であることを特徴とするガスバリアフィルム。 （もっと読む）

【課題】高強度が要求される水分含有食品等の内容物へ適用しても破袋やデラミネーションの問題が発生しない透明ガスバリア性ポリアミド系フィルム及びそれを用いた透明ガスバリア性積層体が望まれていた。
【解決手段】プラズマＲＩＥ処理面を有するポリアミド系フィルム基材、その処理面上に無機酸化物からなる透明蒸着薄膜層、さらにガスバリア性被膜層を順次積層している透明ガスバリア性ポリアミド系フィルムにおいて、ポリアミド系フィルム基材がポリアミド系樹脂フィルムの少なくとも一方の面にポリエステル系樹脂フィルムを設けて、その表面がＲＩＥ処理面である技術を提供するものである。 （もっと読む）

【課題】 蒸着材料を入れたルツボ６の蓋１１を真空雰囲気でも開閉することを可能とし、放熱ロスを抑制することを可能とする。
【解決手段】 被蒸着フィルム３を支持して走行させるコーティングローラ４の直下に置かれるルツボ６を、蒸着のための作動位置と清掃等のための退避位置に容器移動手段によって移動させる構成とし、そのルツボ６の移動に連動して且つルツボ６の移動を駆動源として蓋１１を開閉させる蓋開閉手段１２を設け、ルツボ６が作動位置にある時は蓋１１を開位置とし、退避位置に移動した時には閉位置となるようにする。 （もっと読む）