【課題】酸化イットリウム溶射皮膜の表面に、外観色が白色で、緻密かつ平滑で耐プラズマ・エロージョン性にも優れた白色二次再結晶層を生成させる技術を提案する。
【解決手段】大気プラズマ溶射法によって形成された白色の酸化イットリウム溶射皮膜の表面を、活性酸素、オゾン、亜酸化窒素のうちから選ばれるいずれか１種以上の強酸化性ガス雰囲気中でレーザビーム処理することによって、外観色が白色の二次再結晶層を形成する方法、およびその白色二次再結晶層を表面にもつＹ_２Ｏ_３溶射皮膜被覆部材。 （もっと読む）

【課題】構成部材の摩耗や当接による消耗を有意に抑制することが可能なスクリューの製造方法。
【解決手段】（ｉ）重量比で、５〜９％のＢ（ホウ素）、９〜１１％のＣｒ（クロム）、４〜５％のＳｉ（ケイ素）、およびＮｉ（ニッケル）を含む第１の粉末を準備する工程と、（ｉｉ）金属元素Ｍを含む第２の粉末を準備する工程であって、第２の粉末は、Ｗ（タングステン）および／またはＭｏ（モリブデン）である、工程と、（ｉｉｉ）前記第１および第２の粉末を混合して、溶射粉末を得る工程であって、前記第２の粉末は、前記第１の粉末に対して、Ｍ：Ｂ（ホウ素）がモル比で、０．７５：１〜１：１となるように混合される、工程と、（ｉｖ）構成部材の表面に溶射膜を形成する工程と、（ｖ）前記溶射膜を熱処理して、ホウ化物Ｎｉ（Ｍ_ｘＢ_ｙ）を形成する工程と、を有することを特徴とするスクリューの製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明では、良好な耐摩耗性を有するとともに、さらに良好なじん性を有する溶射合金を提供することを目的とする。
【解決手段】Ｎｉ（ニッケル）−Ｂ（ホウ素）系合金と、金属元素Ｍとを有する溶射合金であって、前記Ｎｉ−Ｂ系合金は、重量比で、５〜７％のＢ（ホウ素）、９〜１１％のＣｒ（クロム）、および４〜５％のＳｉ（ケイ素）を含み、前記金属元素Ｍは、Ｍ：Ｂ（ホウ素）がモル比で、０．７５：１〜１：１となるように含まれ、前記金属元素Ｍは、Ｗ（タングステン）および／またはＭｏ（モリブデン）であることを特徴とする溶射合金。 （もっと読む）

【課題】 高硬度で耐摩耗性、耐食性、耐熱性に優れ、耐熱衝撃性および靭性よりも、メッキ浴として使用される亜鉛やアルミニウム等の溶融金属に対する耐食性をさらに向上させたサーメット溶射被膜を形成しうる溶射用粉末を提供する。
【解決手段】 重量比にて、Ｂ：８．０〜１０．０％、Ｃｏ：８．０〜１２．０％、Ｃｒ：２．０〜１０．０％、Ｗ：０．５〜７．０％を含み、残部Ｍｏと不可避的不純物から構成され、かつ、ＭｏとＢとの合計量が重量比にて７５．０〜８５．０％、ＣｏとＣｒとＷとの合計量が重量比にて１０.５〜２５．０％である複合粉末組成物からなることを特徴とする硼化物系サーメット溶射用粉末。 （もっと読む）

【課題】
上記のような課題を解決するためになされたものであり、比較的コストを低く抑えて溶射することが可能であり、金属の酸化や金属酸化物の変質を抑え、基材との密着性に優れた、緻密な溶射皮膜を形成することができるＨＶＡＦ溶射装置を提供することを目的とする。
【解決手段】
金属、セラミックス又は樹脂が不活性ガス及び圧縮空気とともに粉末供給路に供給されると、ラバルノズルを通過する燃焼ガスの流路の略中心軸上に排出される。金属、セラミックス又は樹脂は比較的低温で、超音速でバレルを通過することにより、酸化や変質が抑えられ、緻密な溶射皮膜が形成される。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１つのモリブデン系化合物を含む公称厚さのターゲットであって、ラメラ微細構造、１０００ｐｐｍ未満、好ましくは６００ｐｐｍ未満、特に好ましくは４５０ｐｐｍ未満の酸素量、及び前記化合物の理論電気抵抗率の５倍未満、好ましくは３倍未満、特に好ましくは２倍未満の電気抵抗率を有することを特徴とするターゲットに関する。 （もっと読む）

本発明は、耐火金属、抵抗性酸化物及び揮発性酸化物から選択される少なくとも１つの化合物を含むターゲットを、溶射、特にはプラズマ溶射によって製造するための方法に関する。当該方法は、粉末組成物の形態の前記化合物の少なくとも一部が、制御された雰囲気中で溶射によって前記ターゲットの表面の少なくとも一部に噴射され、及びその構築の際に前記ターゲットに向けられる強力な極低温の冷却ジェットが使用されることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】白色のＹ_２Ｏ_３溶射粉末材料を用いて、黒色の酸化イットリウム溶射皮膜を形成するための技術を提案する。
【解決手段】白色の溶射用Ｙ_２Ｏ_３粉末材料を用い、プラズマ・ジェット発生用作動ガスとして、Ａｒ、Ｈｅなどの不活性ガス中に水素ガスを添加した混合ガスによるプラズマ溶射法によって、プラズマ熱源中に含まれる原子状の水素が有する強い還元作用で、Ｙ_２Ｏ_３粉末の酸素の一部が消失したＹ_２Ｏ_３−ｘの黒色粒子に変化させて、基材表面に、黒色酸化イットリウム溶射皮膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】従来のオイラー法では容易に解析できなかった溶射粒子の偏平・凝固現象を解析し、これまでに解析が不可能であった多相材料の変形挙動や、周囲のガス相の取り込みによる気孔の形成過程までを取り扱うことができる溶射プロセスの解析装置を提供する。
【解決手段】溶射粒子に熱・運動エネルギーを付与して基材上に成膜を行うプロセスの解析装置であって、溶射粒子の物性、基材衝突前の溶射粒子の形状、速度を入力する入力部と、溶射粒子を質量の総和が前記溶射粒子と等しい複数のモデル粒子に置き換えるモデル作成部と、これら個々のモデル粒子の運動をモデル粒子に固定した座標系によって記述した運動方程式を解く演算部と、得られた個々のモデル粒子の速度、圧力等のデータから溶射粒子の変形挙動を表わす出力部とを具備する。 （もっと読む）

【課題】溶射前に基材表面を特定の処理手段を組み合わせた粗面化と清浄化により、基材と得られる溶射皮膜とが過酷な条件下であっても密着可能な密着性を有する溶射方法を提供する。
【解決手段】金属基材表面をブラスト処理し、次いで該金属基材表面に法線方向から外力を作用させた状態で減圧アーククリーニング処理を行った後、溶射処理をする金属基材表面に密着性に優れた溶射皮膜を形成する溶射方法。 （もっと読む）

【課題】強腐食性ガスを発生する樹脂との接触する金属部材表面に耐食耐摩耗性を有する溶射層を形成した耐食耐摩耗部材及び溶射粉末を提供する。
【解決手段】金属母材上に金属粉末を溶射することによって金属母材表面に溶射層を形成させた耐食耐摩耗部材であって、溶射層が正方晶Ｍｏ_２（Ｎｉ，Ｃｒ）Ｂ_２系、正方晶Ｍｏ_２（Ｎｉ，Ｃｒ，Ｖ）Ｂ_２系の複ホウ化物サーメットであることを特徴とする溶射層形成高耐食耐摩耗部材。また、正方晶Ｍｏ_２（Ｎｉ，Ｃｒ）Ｂ_２系の複ホウ化物サーメットからなり、Ｂ：４．０〜６．５質量％、Ｍｏ：３９．０〜６４．０質量％、Ｃｒ：７．５〜２０．０質量％、残：５質量％以上のＮｉ及び不可避的元素からなる溶射層形成用粉末。 （もっと読む）

【課題】被削性に優れ、かつ、ホーニング加工後の形状精度の高い溶射被膜を形成することのできる溶射被膜の加工方法を提供する。
【解決手段】ボアＣ１面に形成された溶射被膜Ｗ３を加工する溶射被膜の加工方法であり、この加工方法は、乾式加工であり、かつ、ＣＢＮ（立法晶窒化ホウ素）を６０〜８０重量％含有する切削チップを備えた切削工具を使用する場合は該切削工具を４００〜８００ｍ／分の回転速度で回転させ、ＣＢＮ（立法晶窒化ホウ素）を８０〜９０重量％含有する切削チップを備えた切削工具を使用する場合は該切削工具を４００〜９００ｍ／分の回転速度で回転させ、ボア内を所定の送り量で移動させながら溶射被膜Ｗ３の加工予定量の一部をボーリング加工する第１の工程と、砥石を備えた研削工具を使用し、溶射被膜Ｗ３の加工予定量の残部をホーニング加工する第２の工程と、からなる。 （もっと読む）

【課題】貫通気孔や開気孔を通して、海水成分、酸、アルカリなどが内部へ浸入し、基材を腐食させて皮膜を剥離が起きやすいとい溶射皮膜の欠点を解消できる技術を提案する。
【解決手段】溶射皮膜の開気孔部が、１０〜４５原子％の水素を含有するアモルファス状炭素水素固形物によって充填され、かつ該溶射皮膜表面には０．５〜８０μｍの膜厚のアモルファス状炭素水素固形物膜が被覆されてなる耐食性溶射皮膜と、高水素含有アモルファス状炭素水素固形物によって、該溶射皮膜の気孔を封孔し、その皮膜表面への膜形成を行う。 （もっと読む）

【課題】自己の耐焼付性・耐摩耗性に優れると共に相手攻撃性が低く、低コストなピストンリング用溶射皮膜を提供する。
【解決手段】MoとNiCr合金と炭化クロムからなる造粒焼結粉とMo造粒焼結粉とNiCr合金粉を混合し、溶射原料粉として形成した溶射皮膜はMoとNiCr合金からなる領域AとMoとNiCr合金と炭化クロムからなるサーメット領域Bが混在した組織でなるHVOF溶射皮膜は耐焼付性及び自己耐摩耗性に優れると共に相手材を摩耗させることが少ない。この溶射皮膜を外周摺動面に有するピストンリングも同様な摺動特性を得ることが出来る。 （もっと読む）

【課題】従来のＹ_２Ｏ₃溶射皮膜はその全てが白色に限定されていることに鑑み、この現実を打破して、基材表面に、酸化イットリウムの黒色溶射皮膜を形成すること。
【解決手段】基材の表面が、化合物の形態でＹ_２Ｏ_3-xである酸化イットリウムからなる黒色溶射皮膜によって被覆されていることを特徴とする熱放射性および耐損傷性に優れる酸化イットリウム溶射皮膜被覆部材。 （もっと読む）

【課題】ベアリング面に対して使用される減摩コーティングを提供する。
【解決手段】ベアリングコーティングの形成方法は、基材の上に多孔質層２６を堆積するステップと、多孔質層の細孔内に潤滑材料を堆積するステップと、を含む。多孔質層２６および潤滑材料２８は、基材の上にベアリングコーティング２４を形成する。一実施例においては、ベアリングコーティング２４は、約１〜２０体積％の潤滑材料を含み、残りは多孔質層である。 （もっと読む）

【課題】半導体やフラットパネルディスプレイ等の基板への成膜に用いる真空装置の部材において、成膜操作中にターゲット上に付着した膜が剥がれてその周辺に再付着するような、付着性が非常に弱い膜状物質に対しても有効な保持力を有し、パーティクルや異常放電の発生がなく、長時間の連続使用が可能な部材を提供する。
【解決手段】基材上に、構成するスプラットが傾斜して積み重なった塊状突起とスプラットがほとんど積み重なっていない谷の部分が交互に存在するひだ状の溶射膜を設け、塊状突起の幅としては５０〜５００μｍ、谷の幅としては１００〜５００μｍ、谷の深さとしては１００〜１０００μｍ、塊状突起の積み重なる方向が基材に対し、３０〜８０度であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】強い腐食性環境下で、プラズマエッチング加工が行われる半導体加工用装置などの容器内配設部材の耐久性の向上を図ること。
【解決手段】金属製または非金属製基材の表面に、直接またはアンダーコート層を介して、周期律表ＩＩＩａ族の酸化物を溶射することによって多孔質層からなる層を形成し、そしてその上に、電子ビームやレーザービームなどの高エネルギーを照射処理を施すことによって、二次再結晶層を形成することにより、半導体加工装置用セラミック被覆部材を製造する。 （もっと読む）

【課題】医療用インプラント部品を製造する方法。
【解決手段】本方法は、第１の材料から、ベアリング部分を有する基質を形成するステップと、所定の溶射技術にしたがって第２の材料からなる粒子を基質のベアリング部分に対して吹き付けて、前記ベアリング部分上にコーティングを設けるステップと、コーティングされたベアリング部分を熱間等静圧圧縮成形プロセス、真空焼結プロセス、又は、大気を制御した焼結プロセスに晒すステップとを含んでもよい。第１の材料は、第２の材料と同じであってもよく或いは異なっていてもよい。所定の溶射技術は、プラズマ溶射プロセス又は高速酸素燃料溶射プロセスなどの熱型の溶射プロセスであってもよい。 （もっと読む）

【課題】斜板式コンプレッサの金属基材３ａで形成された斜板３を、炭酸ガスを冷媒に用いる斜板式コンプレッサにも耐用可能なものとすることである。
【解決手段】シューが摺動する金属基材３ａの斜板３の摺動面にＭｏ溶射層１０を形成し、このＭｏ溶射層１０の上にフッ素樹脂を含有する樹脂被覆層１１を形成することにより、耐焼付き性の優れたフッ素樹脂を含有する樹脂被覆層１１の密着性を十分に確保して、炭酸ガスを冷媒に用いる斜板式コンプレッサにも耐用可能なものとした。 （もっと読む）