【課題】本発明は、セラミック基板の焼成装置及びこれを用いたセラミック基板の焼成方法に関し、より詳細には、大型のセラミック基板の脱バインダーを円滑に行うことができるセラミック基板の焼成装置及びこれを用いたセラミック基板の焼成方法に関する。
【解決手段】本発明は、焼成セッターと、上記焼成セッターの周りに配置され当該焼成セッターの厚さよりも大きい厚さを有する未焼成セラミック支柱と、上記焼成セッターと一定の間隔を置いて上記未焼成セラミック支柱上に配置されるセラミック基板と、を含むセラミック基板の焼成装置及びこれを用いたセラミック基板の焼成方法を提供する。本発明によると、セラミック基板よりも収縮率が大きいセラミック支柱と焼成加圧板を用いて大型のセラミック基板を加圧焼成することにより、基板の反りを抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】焼成後に、得られたアルミナ質セラミックスに固着することなく、更に、得られたアルミナ質セラミックスの強度を低下させることのないアルミナ質セラミックス焼成用支持具を提供する。
【解決手段】スピネルを主成分とし、スピネル１モルに対して、マグネシア０．０２〜０．３０モルを含有するスピネル−マグネシア複合セラミックスを材質とするアルミナ質セラミックス焼成用支持部、を備え、好ましくは、スピネルの平均粒子径が１０μｍ以上であり、好ましくは、アルミナ質セラミックス焼成用支持部の気孔率が１０％以上であるアルミナ質セラミックス焼成用支持具。 （もっと読む）

【課題】炉内温度の上昇を抑制しながら、分子間の水素結合を切断する能力に優れる近赤外線を集中的に放射し、水または樹脂バインダーを含有する未焼成セラミックを効率よく乾燥することができるセラミック乾燥炉を提供する。
【解決手段】本発明のセラミック乾燥炉は、３．５μｍ以下の電磁波の吸収スペクトルを持ち、水素結合を有する水または樹脂バインダーを含有する未焼成セラミックを乾燥させるための炉である。炉体１０の内部に未焼成セラミックの搬送手段１１と赤外線ヒーター１２とを備える。赤外線ヒーター１２は、フィラメント１５の外周が３．５μｍ以上の赤外線を吸収する複数の管によって覆われ、これらの複数の管の間に赤外線ヒーターの表面温度の上昇を抑制する冷却用流体の流路を形成した構造を有する。 （もっと読む）

【課題】供給する雰囲気ガスのほぼ全量を効率よく被処理物と接触させることができる熱処理装置を提供すること。
【解決手段】熱処理される被処理物５０が収容される通気性セッター１０と、通気性セッター１０を加熱室２０の内部で搬送方向Ａ１に移動自在に保持する一対のセッター受け部３０と、を有する熱処理装置である。通気性セッター１０は、被処理物５０が収容される収容領域が通気性を有し、セッター受け部３０と通気性セッター１０とにより、加熱室２０の横断面を、ガス供給室２０ａとガス排気室２０ｂとに二分割し、これらのガス供給室２０ａとガス排気室２０ｂとは、通気性セッター１０の両側ではガスの流通が困難で、通気性セッター１０の収容部２０ｃを介して主としてガスの流通が可能となるように、一対のセッター受け部３０は、通気性セッター１０の両側に具備してある非通気部分である枠部材１４を保持している。 （もっと読む）

【課題】本発明は、焼成工程が常圧または低圧の窒素雰囲気下で行う場合であっても、変形および重量損失の抑制される改善された窒化珪素質セラミックス焼結体の製造方法および焼成容器を提供する。
【解決手段】窒化珪素粉末と焼結助剤粉末とを混合した原料粉を成形した成形体を脱脂し脱脂体を形成する脱脂工程と、脱脂工程後に、外気が流通可能な収納容器の収納室に脱脂体を収納する第１の収納工程と、外気が流通可能な通気路を有する焼成容器の収納部に、収納容器を収納する第２の収納工程と、第２の収納工程の後に、焼成容器を加熱炉中に置き、窒素雰囲気中で脱脂体を焼成する焼成工程を有し、前記焼成容器は、その収納部に収納された収納容器と、その内壁面との間に形成された隔壁を有し、前記隔壁と前記焼成容器との間に、窒化珪素粉末および焼結助剤粉末を混合した詰め粉を配置する詰め粉配置工程を含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、電解質グリーンシート中の有機成分分解ガスが均一放散できる孔を有しつつ、スペーサー用のセラミックシートとして当該グリーンシートの焼成前工程の機械化にも対応できる強度を有し、粘着テープによる積層体の固定が確実にでき、しかも焼成工程中に周縁部がたれる現象を緩和でき、且つ上記有機成分分解ガスが均一放散できる有孔性のスペーサーシートおよびその製造方法を提供することにある。
【解決手段】本発明に係わるセラミックシートは、固体酸化物形燃料電池用の電解質グリーンシートを焼成する工程でスペーサーとして用いるセラミックシートであって、当該セラミックシート基体の相対密度が９５％以上であり、上記電解質グリーンシートとの接触面に複数の略円状の貫通孔を有し、当該貫通孔の平均断面積が０．００００５ｍｍ^２以上２．０ｍｍ^２以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】成膜精度に悪影響を及ぼさず、かつ高温に耐え得るウェーハの積層構造を有する基板処理装置を提供する。
【解決手段】ウェーハ１４を内周側で保持するホルダベース１１０と、ホルダベース１１０の外周側を保持するホルダ保持部ＨＳを有する各ボート柱３１ａ〜３１ｃとを備え、ホルダベース１１０の外径寸法をウェーハ１４の外径寸法よりも大きくし、かつホルダベース１１０をホルダ保持部ＨＳから取り外せるようにした。ホルダベース１１０と各ボート柱３１ａ〜３１ｃとを溶接等により固着しなくて済み、ホルダベース１１０および各ボート柱３１ａ〜３１ｃをＳｉＣ等で形成して、容易に高温に耐え得るウェーハの積層構造を実現できる。また、ホルダベース１１０によって、各ボート柱３１ａ〜３１ｃからウェーハ１４を離間させることができるので、成膜精度に悪影響を及ぼすのを抑制できる。 （もっと読む）

【課題】焼成体の反りを防止することができるセッター及びセラミック電子部品の製造方法を提供する。
【解決手段】セッター１は、ＰＺＴを含む材料からなり且つ厚さ２００μｍ以下であるセラミックグリーン体１０を焼成してセラミック焼成体を形成する際に、セラミックグリーン体１０が載置される載置面２を有しており、この載置面２は、表面に凹凸３ａを有する研磨面３と、研磨面３よりも緻密な自然面４とが混在してなる面である。 （もっと読む）

【課題】 セラミック基板からなる電子部品において、焼成時の雰囲気ガスや温度のばらつきによって、バインダー除去状態のばらつきが生じ、焼結の不均一が起きていた。この結果、セラミック基板の反りや割れが発生していた。
【解決手段】 セラミック基板を焼成する際に載せるセッターの貫通孔の開口面積の比率を、周縁部よりも中央部を高くし、雰囲気ガスや温度の分布を、焼結が均一に進むように調節し、セラミック基板の反り、割れを低減する。 （もっと読む）

【課題】生産性を確保し得る複数の被脱脂体についての脱脂を均一性よく良好に行うことができるようにする。
【解決手段】複数の積層体６について、接触面積が少なくなるように脱脂用治具１０によって少なくとも２箇所で部分的に支持するとともに、それぞれの長手方向に沿って流路抵抗分布が均一で一端側から他端側に貫通するように隣接空間７を脱脂ガスが流れるようにしたので、還元雰囲気中であっても、各積層体６に対して脱脂ガスが満遍なく均一に行き渡り、生産性を確保し得る多数本の積層体６についての脱脂を均一性よく良好に行えるようにした。 （もっと読む）

【課題】高密度でバルク均一性が高く、製造時のみならずスパッタリング時にも、クラック、割れ、変形などが発生しない、円筒形スパッタリングターゲット用酸化物焼結体を得る。
【解決手段】２枚のメッシュ状の敷板(2)を隙間(9)を介して配置し、その上に、中空部分(8)の下方を隙間(9)が通過するように、成形体(1)を載置し、配管(3-1)を、配管出口の高さが成形体(1)の高さ方向の下部付近となるように、配管(3-3)を、配管出口の高さが成形体(1)の高さ方向の上部付近となるように、配管(3-2)を、敷板(2)の隙間(9)を介して成形体(1)の中空部分(8)に雰囲気ガスが流れるように、それぞれ配管の長さを調整して、雰囲気ガスを炉内に流通させて焼成を行う。得られる酸化物焼結体のバルクの各点での、密度の相対標準偏差は１％以下、比抵抗値の相対標準偏差は10％以下、平均結晶粒径の相対標準偏差は５％以下、密度は理論密度の90％以上である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、セラミック基板焼成装置及びこれを利用したセラミック基板焼成方法に関する。
【解決手段】本発明によると、セラミック基板を装着するための焼成セッターと、上記セラミック基板の上部に位置する焼成加圧板と、上記焼成加圧板と上記セラミック基板との間に一定間隔を置くように上記焼成セッターと上記焼成加圧板との間に配置され、上記セラミック基板より焼成時の厚さ収縮率が大きいセラミック支柱と、を含むセラミック基板焼成装置が提供される。本発明によると、セラミック基板より収縮率が大きいセラミック支柱と焼成加圧板を用いて大型セラミック基板を加圧焼成することにより、反りを生じさせることなく焼成することができる。 （もっと読む）

【課題】シリコンウェハの表裏に電極を設ける際の焼成工程に利用される熱処理装置を改良するものであり、焼成に際して理想的な温度プロファイルを実現する。
【解決手段】熱処理部を有しており、熱処理部は、断熱筐体内に棚状部材（設置部及び熱源部）１１が設けられたものである。棚状部材１１は、７段の棚部材１６ａ〜１６ｇを有し、棚部材１６ｂの内部は、上下のユニット室２５，２６に仕切られている。上下のユニット室２５，２６には、それぞれ９本の横列用ハロゲンランプ２７と、３６本の縦列用ハロゲンランプ２８が縦横格子状に配列されていて熱源ユニット３５が構成されている。各熱源ユニット３５の照度は、個々に制御され、上下の熱源ユニット群４７の照度を異ならせたり、一つの段の上側の熱源ユニット３５と、他の段の上側の熱源ユニット３５の照度に変化を付けることもできる。また点灯中に照度を変えることもできる。 （もっと読む）

【課題】ＳｉＣ基材に対する密着性に優れ、より高い酸化防止効果を付与することができる被膜を備え、かつ、優れた耐熱衝撃性を有するＳｉＣ焼成用道具材を提供する。
【解決手段】多孔質ＳｉＣ基材と、前記基材のＳｉＣ結晶表面に形成される酸化物膜とからなるＳｉＣ焼成用道具材において、前記酸化物膜の組成を、ＳｉＯ₂が６５重量％以上９０重量％以下、残部がＡｌ₂Ｏ₃及びＹ₂Ｏ₃とし、かつ、前記Ａｌ₂Ｏ₃及びＹ₂Ｏ₃の重量組成比を２０：８０〜６０：４０とする。 （もっと読む）

【課題】耐熱性や機械的強度の他に、焼成するセラミック電子部品と反応しない特性を備えた上で、更に、エネルギー効率や窯効率に優れたセッターを提供すること。
【解決手段】基材と、その上層に表面コート層を有し、該基材が、ＳｉＣを７０〜９９質量％、Ｓｉを１〜３０質量％含有する。 （もっと読む）

【課題】焼成後にセラミクスハニカム焼成体と焼成した焼成台とを引き剥がすことを容易とする。
【解決手段】焼成台５上にグリーン成形体１を載置する工程と、焼成台５及びグリーン成形体１を焼成する工程と、を備える。焼成台５及びグリーン成形体１は、それぞれ、セラミクス原料を含みかつ複数の流路を形成する隔壁を有する柱体であり、二つの隔壁の端面のパターンは流路の延びる方向から見て互いに同一であり、載置する工程では、グリーン成形体１の隔壁３の下側端面の一部のみが焼成台５の隔壁３の上側端面と接触するように、グリーン成形体１の隔壁３の下側端面の全部が焼成台５の隔壁３の上側端面と接触する状態を基準位置として、グリーン成形体１を、水平方向に所定距離ずらした状態で焼成台５に載置する。 （もっと読む）

【課題】基板上に形成された塗布膜の焼成ムラの発生を低減できる熱処理装置を提供する。
【解決手段】熱処理装置２０は、焼成炉２９と、被熱処理基板である前面基板２２を載置し、結晶化ガラス板２１ａと金属層２１ｂとを有するセッター２１とを備える。さらに熱処理装置２０は、焼成炉２９の内部に配置されるセッター２１の搬送機構である搬送ローラー２８と、金属層２１ｂを電磁誘導加熱することによりセッター２１を加熱する電磁誘導コイル２５と、を備える。 （もっと読む）

【課題】優れた機械的強度を有し、かつ、基材と溶射層との密着性が高い焼成用道具材を提供する。
【解決手段】アルミナ−シリカ質の基材の表面に、アルミナからなる溶射層Ｘを有する焼成用道具材であって、下記式（１）及び（２）を満足し、かつ曲げ強さが２５ＭＰａ以上であることを特徴とする焼成用道具材。
ｄｐ≧９００ （１）
ｖｐ≧０．００７ （２）
ここで、ｄｐは、水銀圧入法により測定された前記基材の細孔径分布におけるピーク細孔径（ｎｍ）であり、ｖｐは、ピーク細孔径ｄｐにおける差分細孔容積（ｍｌ／ｇ）である。 （もっと読む）

【課題】全ての被焼成物に雰囲気ガスを均一に接触させることができ、被焼成物を良好に焼成することができるバッチ炉を提供する。
【解決手段】炉床３が開口部２ｂに挿入され炉体２にセットされた状態で、ガス供給管５は、積層セッター４の貫通孔に挿入されるように構成されており、駆動モータ８の駆動力は、出力軸８Ａ、ベルト１２、回転部材１１Ｂ、およびロータリージョイント１１を介して、ガス供給管５に伝達され、これによりガス供給管５は回転し、さらに、セラミック成型体の脱脂・焼成時には、ガス供給管５は、駆動モータ８の駆動力を受けて回転すると共に、ガス供給源から供給される雰囲気ガスをガス供給口からセラミック成型体に向けて供給する。 （もっと読む）

【課題】焼成後にセラミクスハニカム焼成体と焼成した焼成台とを引き剥がすことを容易とする。
【解決手段】焼成台５上にグリーン成形体１を載置する工程と、焼成台５及びグリーン成形体１を焼成する工程と、を備える。焼成台５及びグリーン成形体１は、それぞれ、セラミクス原料を含みかつ複数の流路を形成する隔壁を有する柱体であり、二つの隔壁の端面のパターンは流路の延びる方向から見て互いに同一であり、載置する工程では、グリーン成形体１の隔壁３の下側端面の一部のみが焼成台５の隔壁３の上側端面と接触するように、グリーン成形体１の隔壁３の下側端面の全部が焼成台５の隔壁３の上側端面と接触する状態を基準位置として、グリーン成形体１を、水平方向に所定距離ずらした状態で、または、グリーン成形体１の鉛直軸Ｖ周りに所定角度θ回転した状態で焼成台５に載置する。 （もっと読む）