バッチ炉
【課題】全ての被焼成物に雰囲気ガスを均一に接触させることができ、被焼成物を良好に焼成することができるバッチ炉を提供する。
【解決手段】炉床３が開口部２ｂに挿入され炉体２にセットされた状態で、ガス供給管５は、積層セッター４の貫通孔に挿入されるように構成されており、駆動モータ８の駆動力は、出力軸８Ａ、ベルト１２、回転部材１１Ｂ、およびロータリージョイント１１を介して、ガス供給管５に伝達され、これによりガス供給管５は回転し、さらに、セラミック成型体の脱脂・焼成時には、ガス供給管５は、駆動モータ８の駆動力を受けて回転すると共に、ガス供給源から供給される雰囲気ガスをガス供給口からセラミック成型体に向けて供給する。
【解決手段】炉床３が開口部２ｂに挿入され炉体２にセットされた状態で、ガス供給管５は、積層セッター４の貫通孔に挿入されるように構成されており、駆動モータ８の駆動力は、出力軸８Ａ、ベルト１２、回転部材１１Ｂ、およびロータリージョイント１１を介して、ガス供給管５に伝達され、これによりガス供給管５は回転し、さらに、セラミック成型体の脱脂・焼成時には、ガス供給管５は、駆動モータ８の駆動力を受けて回転すると共に、ガス供給源から供給される雰囲気ガスをガス供給口からセラミック成型体に向けて供給する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、バッチ炉に関し、特にセラミック成型体又はセラミック材料を焼成するためのバッチ炉に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来からセラミック成型体を焼成するためのバッチ炉の様々な構成が提案されている。例えば、炉本体と、回転可能な炉床と、炉床上に載置され複数の被焼成物を保持する積層セッターと、積層セッターの貫通孔内に配置されるガス供給管とを備えるバッチ炉が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
そして、特許文献１のバッチ炉では、焼成時に炉床を高速回転させることにより、セッター上の複数の被焼成物に雰囲気ガスを均一に接触させるようにしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−２５０５３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし従来のバッチ炉では、炉床を高速回転させるので、被焼成物に遠心力が働き、被焼成物がセッターの外周側へ偏ってしまい、全ての被焼成物を均一に焼成することはできなかった。一方、炉床を高速回転させない場合には、雰囲気ガスを全ての被焼成物に十分に接触させることができず良好な焼成を実現できなかった。
【０００６】
そこで、本発明は、全ての被焼成物に雰囲気ガスを均一に接触させることができ、被焼成物を良好に焼成可能なバッチ炉を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明は、被焼成物を載置可能な上面をそれぞれ有し複数重ねられたときに積層方向に延びる貫通孔を提供すれる複数のセッターと、積層された複数のセッターが載置される炉床と、複数のセッターの積層方向において隣合うセッター間に向かって、貫通孔を介してガスを供給するガス供給管と、複数のセッターの周りに配置されるガス排気管と、ガス供給管を回転させる回転手段とを備えるバッチ炉を提供している。
【０００８】
かかる構成によれば、ガス供給管がガス供給時に回転するので、ガス供給管からの雰囲気ガスが拡散され、隣合うセッター間のガス雰囲気を均一な流れ状態にすることができる。従って、ガスを全ての被焼成物に対し十分に接触させることができるので、全ての被焼成物を良好に脱脂・焼成することができる。さらに、ガス供給管を回転させることで、雰囲気ガスの供給量を減少させることができる。また、炉床を回転させないので、被焼成物の分布が偏ることはなく、良好に脱脂・焼成することができる。
【０００９】
ここで、ガス供給管は貫通孔内に挿入され、ガス供給管には、隣合うセッターの間に対応するように複数のガス供給口が形成され、ガスは、複数のガス供給口から隣合うセッター間に向かって供給されること好ましい。
【００１０】
かかる構成によれば、各ガス供給口は、隣合うセッター間に対応するように形成されているので、効率よくかつ集中して被焼成物へガスを供給することができ、ガスの供給量を減少させることができる。また、ガス供給管は回転するので、各ガス供給口とガス排出管との位置関係を相対的に変化させることができる。また、複数のセッターに対して、ガス供給口を任意の速度で回転させることができる。
【００１１】
炉床と共に焼成空間を画成する炉本体をさらに備え、ガス供給管は、炉本体から炉床に向かって積層方向に沿って延びる第１ガス供給管と、炉床から炉本体に向かって積層方向に沿って延びる第２ガス供給管とを備え、第１ガス供給管および第２ガス供給管は、貫通孔に挿入されて互いに当接可能に構成され、第１ガス供給管および第２ガス供給管には、隣合うセッターの間に対応するようにガス供給口が形成され、第１ガス供給管を通って供給されるガス、および第２ガス供給管を通って供給されるガスは、ガス供給口から、隣合うセッター間に向かって供給されることが好ましい。
【００１２】
かかる構成によれば、第１ガス供給管を通って供給されるガスと、第２ガス供給管を通って供給される雰囲気ガスとが、第１ガス供給管および第２ガス供給管の当接部付近で衝突する。その後、雰囲気ガスは、ガス供給口を介して、隣合うセッター間の被焼成物に向かって供給される。従って、ガス供給口から供給されるガスの流量を均一にすることができる。すなわち、ガス供給口の上下方向におけるガス流量の偏りを防止することができる。
【００１３】
更に、炉床と共に焼成空間を画成する炉本体をさらに備え、ガス供給管は、炉本体に設けられた第１ガス供給管と、炉床に設けられた第２ガス供給管とを備え、第１ガス供給管は、貫通孔の上側から貫通孔にガスを供給可能に構成され、第２ガス供給管は、貫通孔の下側から貫通孔にガスを供給可能に構成されることが好ましい。
【００１４】
かかる構成によれば、第１ガス供給管および第２ガス供給管から貫通孔にガスが供給されて、貫通孔に溜まったガスが隣合うセッターの間に供給される。従って、各隣合うセッターの間に供給されるガスの流量を均一にすることができる。また、第１ガス供給管および第２ガス供給管は、回転しながら雰囲気ガスを供給するので、貫通孔内の雰囲気ガスを攪拌することができ、各隣合うセッターの間に供給されるガスの流量をより均一にすることができる。
【００１５】
また、第１ガス供給管の下端部には、第１ガス供給管の径方向外方に向かって延び、積層方向において最上位のセッターの上面に対向する鍔部が設けられていることが好ましい。
【００１６】
かかる構成によれば、鍔部は、最上位のセッターの上面に対向しており、複数のセッターは、炉床上に載置されている。よって、雰囲気ガス供給時には、第１供給管、第２供給管、鍔部、および炉床が、貫通孔の蓋の役割を果たすので、脱脂・焼成に必要な雰囲気ガスの供給量をより減少させることができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明のバッチ炉によれば、全ての被焼成物に雰囲気ガスを均一に接触させることができ、被焼成物を良好に焼成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の第１の実施の形態におけるバッチ炉の断面図。
【図２】図１に示したバッチ炉の積層セッター付近を拡大して示した断面図。
【図３】本発明の第２の実施の形態におけるバッチ炉の断面図。
【図４】図３に示したバッチ炉の積層セッター付近を拡大して示した断面図。
【図５】本発明の第３の実施の形態におけるバッチ炉の積層セッター付近を拡大して示した断面図。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本発明のバッチ炉の第１の実施の形態について図１および図２に基づき説明する。図１に示すように、バッチ炉１は、炉本体２と、炉床３と、積層セッター４と、ガス供給管５と、ガス排気管６と、ヒーター７と、駆動モータ８とを備えている。炉本体２は、天井部２Ａを有し、炉本体２の下側には、開口部２ｂが形成されている。よって、炉本体２は、天井部２Ａにより上端が閉じた円筒形状（逆有底円筒形）をなしている。炉本体２の内部側は耐熱材により、外部側は断熱材により構成される。
【００２０】
炉床３は、上下動可能に設けられ、開口部２ｂに挿入可能に構成されている。炉床３が開口部２ｂに挿入されることにより、炉本体２と炉床３とにより焼成空間２Ｃが画成される。また、積層セッター４は、炉床３の上に載置されている。図２に示すように、積層セッター４は、セラミックからなる複数のセッター４Ａを上下方向に沿って積層することにより構成されている。各セッター４Ａは、円盤状をなし、その中央部には円状の開口４ｂが形成されている。各セッター４Ａの開口４ｂは、セッター４Ａの積層方向（図の上下方向）において互いに対向しているため、積層セッター４全体では、上下方向に延びる貫通孔４ｃを提供している。また、貫通孔４ｃの下端は、炉床３によって閉じられている。
【００２１】
また、上下方向において隣合うセッター４Ａ間であって、各セッター４Ａの上面には、被焼成物であるセラミック成型体９が複数配置されている。本実施の形態において、各セラミック部品９の重量は、約６ｍｇである。
【００２２】
ガス供給管５は、セラミックチューブからなり、図１に示すように、天井部２Ａを上下方向に沿って貫通し、図示せぬ軸受により回転可能に設けられている。また、図２に示すように、ガス供給管５は、有底であり、その中心軸は、積層セッター４Ａの貫通孔４ｃの中心と同軸になるように構成されている。また、炉床３が開口部２ｂに挿入され炉体２にセットされた状態で、ガス供給管５は、貫通孔４ｃに挿入されるように構成されている。また、ガス供給管５には、複数のガス供給口５ａが形成されている。各ガス供給口５ａは、ガス供給管５の周方向において所定の長さを有している。各ガス供給口５ａは、ガス供給管５が貫通孔４ｃに挿入された状態で、上下方向において隣合うセッター４Ａ間に対応するように形成されている。ガス供給管５が貫通孔４ｃに挿入された状態で、ガス供給管５および各セッター４Ａ間の距離は、０．１５〜０．２ｍｍとなるように構成されている。
【００２３】
図１に示すように、ガス供給管５には、焼成空間２Ｃと外気との連通を遮断するためのダブルシール１０が装着されている。また、ガス供給管５の上端には、ロータリージョイント１１が設けられている。ロータリージョイント１１は、ガス供給部材１１Ａおよび上下方向に沿って延びる回転部材１１Ｂを備えている。
【００２４】
駆動モータ８は、その駆動力を出力するための出力軸８Ａを備えている。出力軸８Ａの図示せぬプーリ、および回転部材１１Ｂの図示せぬプーリには、ベルト１２が装着されている。当該構成により、駆動モータ８の駆動力は、出力軸８Ａ、ベルト１２、回転部材１１Ｂ、およびロータリージョイント１１を介して、ガス供給管５に伝達され、これによりガス供給管５は出力軸８Ａと一体的に回転する。また、ガス供給管５の回転速度は、変更可能に構成されている。
【００２５】
ガス排気管６は、セラミックチューブからなり、天井部２Ａを上下方向に沿って貫通している。ガス排気管６の下端は、積層セッター４の外周縁部と上下方向において略同位置にある。
【００２６】
ヒータ７は、天井部２Ａから下方に向かって延び、セラミック成型体９の焼成時に焼成空間２Ｃ内を所望の温度に昇温可能である。ガス排気管６は、貫通孔４ｃの中心と同軸な円周方向に沿って、等間隔に複数配置されることが好ましい。
【００２７】
上記の構成において、セラミック成型体９の脱脂・焼成時には、ガス供給管５は、駆動モータ８の駆動力を受けて回転すると共に、図示せぬガス供給源から供給される雰囲気ガスを各ガス供給口５ａからセラミック成型体９に向けて供給する。そして、供給された雰囲気ガスは、図２の矢印に示されるように流れて、脱脂・焼成過程でセラミック成型体９から発生するＣＯ２等のガスをガス排気管６から炉外に排出する。
【００２８】
よって、本実施の形態のバッチ炉１によれば、ガス供給管５がガス供給時に回転するので、ガス供給管５からの雰囲気ガスが拡散され、上下方向において隣合うセッター４Ａ間のガス雰囲気を均一な流れ状態にすることができる。従って、雰囲気ガスを全てのセラミック成型体９に対し十分に接触させることができるので、全てのセラミック成型体９を良好に脱脂・焼成することができる。さらに、ガス供給管５を回転させることで、雰囲気ガスの供給量を減少させることができる。また、炉床３を回転させないので、セラミック成型体９の分布が偏ることはなく、良好に脱脂・焼成することができる。
【００２９】
また、図２に示すように、各ガス供給口５ａは、隣合うセッター４Ａ間に対応するように形成されているので、効率よくかつ集中してセラミック成型体９へ雰囲気ガスを供給することができ、雰囲気ガスの供給量を減少させることができる。また、ガス供給管５は回転するので、各ガス供給口５ａとガス排出管６との位置関係を相対的に変化させることができる。また、積層セッター４に対して、ガス供給口５ａを任意の速度で回転させることができる。
【００３０】
次に、本発明のバッチ炉の第２の実施の形態について図３および図４に基づき説明する。図３および図４において、第１の実施の形態と同一の部材については、同一の番号を付して説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。図３および図４に示されるように、第２の実施の形態のバッチ炉１０１のガス供給管１０５は、第１ガス供給管１０５Ａおよび第２ガス供給管１０５Ｂから構成される。
【００３１】
第１ガス供給管１０５Ａは、セラミックチューブからなり、天井部２Ａから炉床３に向かって上下方向に沿って延びている。また、第１ガス供給管１０５Ａは、第１の実施の形態のガス供給管５と同様に、駆動モータ８、ロータリージョイント１１、ベルト１２等により、回転可能かつガス供給可能に構成されている。また、第１ガス供給管１０５Ａの下端には連通孔１０５ｃが形成されており、第１ガス供給管１０５Ａの下端部には、複数のガス供給口１０５ｄが形成されている。第１ガス供給管１０５Ａの各ガス供給口１０５ｄは、第１ガス供給管１０５Ａが貫通孔４ｃに挿入された状態で、上下方向において隣合うセッター４Ａ間に対応するように形成されている。
【００３２】
第２ガス供給管１０５Ｂは、セラミックチューブからなり、炉床３から天井部２Ａに向かって上下方向に沿って延びている。第２ガス供給管１０５Ｂは、第１ガス供給管１０５Ａと同様の構成（図示せぬ軸受、駆動モータ、ロータリージョイント、ベルト等）により、回転可能かつガス供給可能に構成されている。第２ガス供給管１０５Ｂの上端には連通孔１０５ｅが形成されている。
【００３３】
また、第２ガス供給管１０５Ｂの上端は、炉床３が開口部２ｂに挿入され炉体２にセットされた状態で、第１ガス供給管１０５Ａの下端と当接するように構成されている。これにより、第１ガス供給管１０５Ａの内部空間と、第２ガス供給管１０５Ｂの内部空間とは、連通孔１０５ｃ、１０５ｅを介して互いに連通する。また、第２ガス供給管１０５Ｂの上端部には、複数のガス供給口１０５ｆが形成されている。第２ガス供給管１０５Ｂの各ガス供給口１０５ｆは、第２ガス供給管１０５Ｂが貫通孔４ｃに挿入された状態で、隣合うセッター４Ａ間に対応するように形成されている。
【００３４】
上記の構成において、セラミック成型体９の焼成時には、第１ガス供給管１０５Ａおよび第２ガス供給管１０５Ｂは、互いに当接した状態で、駆動モータ８等の駆動力を受けて回転すると共に、図示せぬガス供給源から供給される雰囲気ガスを各ガス供給口１０５ｄ、１０５ｆからセラミック成型体９に向けて供給する。そして、供給された雰囲気ガスは、図４の矢印に示されるように流れて、脱脂・焼成過程でセラミック成型体９から発生するＣＯ２等のガスをガス排気管６から炉外に排出する。
【００３５】
よって、本実施の形態のバッチ炉１０１によれば、第１ガス供給管１０５Ａを通って上側から供給される雰囲気ガスと、第２ガス供給管１０５Ｂを通って下側から供給される雰囲気ガスとが、第１ガス供給管１０５Ａおよび第２ガス供給管１０５Ｂの当接部付近で衝突する。その後、雰囲気ガスは、各ガス供給口１０５ｄ、１０５ｆを介して、隣合うセッター４Ａ間のセラミック成型体９に向かって供給される。従って、各ガス供給口１０５ｄ、１０５ｆから排出されるガスの流量を均一にすることができる。すなわち、各ガス供給口１０５ｄ、１０５ｆの上下方向におけるガス流量の偏りを防止することができる。なお、第１ガス供給管１０５Ａおよび第２ガス供給管１０５Ｂが回転することによる効果は、第１の実施の形態におけるガス供給管５が回転する効果と同様である。
【００３６】
次に、本発明のバッチ炉の第３の実施の形態について図５に基づき説明する。図５において、第１の実施の形態と同一の部材については、同一の番号を付して説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。図５に示されるように、第３の実施の形態のガス供給管２０５は、第３ガス供給管２０５Ａおよび第４ガス供給管２０５Ｂから構成される。
【００３７】
第３ガス供給管２０５Ａは、セラミックチューブからなり、天井部２Ａから炉床３に向かって上下方向に沿って延びている。また、第３ガス供給管２０５Ａは、第２の実施の形態の第１ガス供給管１０５Ａと同様に、回転可能かつガス供給可能に構成されている。第３ガス供給管２０５Ａの下端には、開口２０５ｃが形成され、貫通孔４ｃに向かって開口している。第３ガス供給管２０５Ａの下端は、貫通孔４ｃの上端付近に位置している。また、第３ガス供給管２０５Ａの下端部には、第３ガス供給管２０５Ａの径方向外方に向かって延びる鍔部２０５Ｄが設けられている。鍔部２０５Ｄは、最上位のセッター４Ａの上面に対向している。
【００３８】
第４ガス供給管２０５Ｂは、セラミックチューブからなり、炉床３に設けられている。また、第４ガス供給管２０５Ｂは、第２の実施の形態の第２ガス供給管１０５Ｂと同様に、回転可能かつガス供給可能に構成されている。第４ガス供給管２０５Ｂの上端には、開口２０５ｅが形成され、貫通孔４ｃに向かって開口している。第４ガス供給管２０５Ｂの上端は、貫通孔４ｃの下端付近に位置している。
【００３９】
上記の構成において、セラミック成型体９の焼成時には、第３ガス供給管２０５Ａおよび第４ガス供給管２０５Ｂは、駆動モータ８等の駆動力を受けて回転すると共に、図示せぬガス供給源から供給される雰囲気ガスを各開口２０５ｃ、２０５ｅから貫通孔４ｃに向かって供給する。すなわち、第３ガス供給管２０５Ａは貫通孔４ｃの上側から、第４ガス供給管２０５Ｂは貫通孔４ｃの下側から、それぞれ貫通孔４ｃへ雰囲気ガスを供給する。そして、貫通孔４ｃに供給された雰囲気ガスは、隣合うセッター４Ａの間のセラミック成型体９に向かって、図５の矢印に示されるように流れて、脱脂・焼成過程でセラミック成型体９から発生するＣＯ２等のガスをガス排気管６から炉外に排出する。
【００４０】
よって、本実施の形態のバッチ炉によれば、第３ガス供給管２０５Ａおよび第４ガス供給管２０５Ｂから貫通孔４ｃに雰囲気ガスが供給されて、貫通孔４ｃに溜まった雰囲気ガスが隣合うセッター４Ａの間に供給される。従って、各隣合うセッター４Ａの間に供給されるガスの流量を均一にすることができる。また、第３ガス供給管２０５Ａおよび第４ガス供給管２０５Ｂは、回転しながら雰囲気ガスを供給するので、貫通孔４ｃ内の雰囲気ガスを攪拌することができ、各隣合うセッター４Ａの間に供給されるガスの流量をより均一にすることができる。
【００４１】
また、第３供給管２０５Ａには、鍔部２０５Ｄが設けられており、鍔部２０５Ｄは、最上位のセッター４Ａの上面に対向しており、最下位のセッター４Ａは、炉床３上に配置されている。よって、雰囲気ガス供給時には、第３供給管２０５Ａ、第４供給管２０５Ｂ、鍔部２０５Ｄ、および炉床３が、貫通孔４ｃの蓋の役割を果たすので、供給されるガスの全てを隣合うセッター４Ａ間に流すことができ、脱脂・焼成に必要な雰囲気ガスの供給量をより減少させることができる。
【００４２】
尚、本発明のバッチ炉は、上述した実施の形態に限定されず、特許請求の範囲に記載した範囲で種々の変形や改良が可能である。例えば、被焼成物は、セラミック成型体９であったが、セラミック材料の粉末であっても良い。また、各セッター４Ａは、開口が形成された円盤状であったが、複数の部材を組合せて開口を提供し、これを積層させて貫通孔を提供する構成であっても良い。また、第１の実施の形態において、ガス供給管５の内部のガス供給口５ａ近傍に、上下方向におけるガスの供給量を均一にするために仕切り板をつけても良い。
【００４３】
また、第１および第２の実施の形態では、ガス供給管５、１０５に複数のガス供給口５ａ、１０５ｅ、１０５ｆを隣合うセッター４Ａ間に対応するように形成したが、ガス供給管５、１０５を多孔質のセラミックチューブにより構成しても良い。この場合、ガス供給管全体からガスが排出可能であるので、隣合うセッター４Ａ間に対応する箇所のみから雰囲気ガスが排出されるように構成する。第３の実施の形態において、第３ガス供給管２０５Ａおよび第４ガス供給管２０５Ｂを回転させたが、回転させなくても良い。当該構成によっても、各隣合うセッター４Ａの間に供給されるガスの流量を均一にすることができ、かつガスの流量を減少させることができる。
【００４４】
また、第３の実施の形態において、第３ガス供給管２０５Ａの下端および第４ガス供給管２０５Ｂの上端は、それぞれ開口４ｂ（貫通孔４ｃ）内に位置していたが、貫通孔４ｃ雰囲気ガスを供給可能であれば、開口４ｂ（貫通孔４ｃ）に入っていなくても良い。また、第３の実施の形態において、第３ガス供給管２０５Ａの下端および第４ガス供給管２０５Ｂの上端の形状を、波形状等にしても良い。当該構成により、貫通孔４ｃ内の雰囲気ガスを攪拌することができ、各隣合うセッター４Ａの間に供給されるガスの流量をさらに均一にすることができる。
【符号の説明】
【００４５】
１、１０１ バッチ炉
２ 炉本体
３ 炉床
４ 積層セッター
４Ａ セッター４
４ｂ 開口
４ｃ 貫通孔
５、１０５、２０５ ガス供給管
５ａ、１０５ｄ、１０５ｆ ガス供給口
６ ガス排気管
８ 駆動モータ
８Ａ 出力軸
９ セラミック成型体
１１ ロータリージョイント
１１Ａ ガス供給部材
１１Ｂ 回転部材
１２ ベルト
１０５Ａ 第１ガス供給管
１０５Ｂ 第２ガス供給管
１０５ｃ、１０５ｅ 連通孔
２０５Ａ 第３ガス供給管
２０５Ｂ 第４ガス供給管
【技術分野】
【０００１】
本発明は、バッチ炉に関し、特にセラミック成型体又はセラミック材料を焼成するためのバッチ炉に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来からセラミック成型体を焼成するためのバッチ炉の様々な構成が提案されている。例えば、炉本体と、回転可能な炉床と、炉床上に載置され複数の被焼成物を保持する積層セッターと、積層セッターの貫通孔内に配置されるガス供給管とを備えるバッチ炉が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
そして、特許文献１のバッチ炉では、焼成時に炉床を高速回転させることにより、セッター上の複数の被焼成物に雰囲気ガスを均一に接触させるようにしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−２５０５３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし従来のバッチ炉では、炉床を高速回転させるので、被焼成物に遠心力が働き、被焼成物がセッターの外周側へ偏ってしまい、全ての被焼成物を均一に焼成することはできなかった。一方、炉床を高速回転させない場合には、雰囲気ガスを全ての被焼成物に十分に接触させることができず良好な焼成を実現できなかった。
【０００６】
そこで、本発明は、全ての被焼成物に雰囲気ガスを均一に接触させることができ、被焼成物を良好に焼成可能なバッチ炉を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明は、被焼成物を載置可能な上面をそれぞれ有し複数重ねられたときに積層方向に延びる貫通孔を提供すれる複数のセッターと、積層された複数のセッターが載置される炉床と、複数のセッターの積層方向において隣合うセッター間に向かって、貫通孔を介してガスを供給するガス供給管と、複数のセッターの周りに配置されるガス排気管と、ガス供給管を回転させる回転手段とを備えるバッチ炉を提供している。
【０００８】
かかる構成によれば、ガス供給管がガス供給時に回転するので、ガス供給管からの雰囲気ガスが拡散され、隣合うセッター間のガス雰囲気を均一な流れ状態にすることができる。従って、ガスを全ての被焼成物に対し十分に接触させることができるので、全ての被焼成物を良好に脱脂・焼成することができる。さらに、ガス供給管を回転させることで、雰囲気ガスの供給量を減少させることができる。また、炉床を回転させないので、被焼成物の分布が偏ることはなく、良好に脱脂・焼成することができる。
【０００９】
ここで、ガス供給管は貫通孔内に挿入され、ガス供給管には、隣合うセッターの間に対応するように複数のガス供給口が形成され、ガスは、複数のガス供給口から隣合うセッター間に向かって供給されること好ましい。
【００１０】
かかる構成によれば、各ガス供給口は、隣合うセッター間に対応するように形成されているので、効率よくかつ集中して被焼成物へガスを供給することができ、ガスの供給量を減少させることができる。また、ガス供給管は回転するので、各ガス供給口とガス排出管との位置関係を相対的に変化させることができる。また、複数のセッターに対して、ガス供給口を任意の速度で回転させることができる。
【００１１】
炉床と共に焼成空間を画成する炉本体をさらに備え、ガス供給管は、炉本体から炉床に向かって積層方向に沿って延びる第１ガス供給管と、炉床から炉本体に向かって積層方向に沿って延びる第２ガス供給管とを備え、第１ガス供給管および第２ガス供給管は、貫通孔に挿入されて互いに当接可能に構成され、第１ガス供給管および第２ガス供給管には、隣合うセッターの間に対応するようにガス供給口が形成され、第１ガス供給管を通って供給されるガス、および第２ガス供給管を通って供給されるガスは、ガス供給口から、隣合うセッター間に向かって供給されることが好ましい。
【００１２】
かかる構成によれば、第１ガス供給管を通って供給されるガスと、第２ガス供給管を通って供給される雰囲気ガスとが、第１ガス供給管および第２ガス供給管の当接部付近で衝突する。その後、雰囲気ガスは、ガス供給口を介して、隣合うセッター間の被焼成物に向かって供給される。従って、ガス供給口から供給されるガスの流量を均一にすることができる。すなわち、ガス供給口の上下方向におけるガス流量の偏りを防止することができる。
【００１３】
更に、炉床と共に焼成空間を画成する炉本体をさらに備え、ガス供給管は、炉本体に設けられた第１ガス供給管と、炉床に設けられた第２ガス供給管とを備え、第１ガス供給管は、貫通孔の上側から貫通孔にガスを供給可能に構成され、第２ガス供給管は、貫通孔の下側から貫通孔にガスを供給可能に構成されることが好ましい。
【００１４】
かかる構成によれば、第１ガス供給管および第２ガス供給管から貫通孔にガスが供給されて、貫通孔に溜まったガスが隣合うセッターの間に供給される。従って、各隣合うセッターの間に供給されるガスの流量を均一にすることができる。また、第１ガス供給管および第２ガス供給管は、回転しながら雰囲気ガスを供給するので、貫通孔内の雰囲気ガスを攪拌することができ、各隣合うセッターの間に供給されるガスの流量をより均一にすることができる。
【００１５】
また、第１ガス供給管の下端部には、第１ガス供給管の径方向外方に向かって延び、積層方向において最上位のセッターの上面に対向する鍔部が設けられていることが好ましい。
【００１６】
かかる構成によれば、鍔部は、最上位のセッターの上面に対向しており、複数のセッターは、炉床上に載置されている。よって、雰囲気ガス供給時には、第１供給管、第２供給管、鍔部、および炉床が、貫通孔の蓋の役割を果たすので、脱脂・焼成に必要な雰囲気ガスの供給量をより減少させることができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明のバッチ炉によれば、全ての被焼成物に雰囲気ガスを均一に接触させることができ、被焼成物を良好に焼成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の第１の実施の形態におけるバッチ炉の断面図。
【図２】図１に示したバッチ炉の積層セッター付近を拡大して示した断面図。
【図３】本発明の第２の実施の形態におけるバッチ炉の断面図。
【図４】図３に示したバッチ炉の積層セッター付近を拡大して示した断面図。
【図５】本発明の第３の実施の形態におけるバッチ炉の積層セッター付近を拡大して示した断面図。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本発明のバッチ炉の第１の実施の形態について図１および図２に基づき説明する。図１に示すように、バッチ炉１は、炉本体２と、炉床３と、積層セッター４と、ガス供給管５と、ガス排気管６と、ヒーター７と、駆動モータ８とを備えている。炉本体２は、天井部２Ａを有し、炉本体２の下側には、開口部２ｂが形成されている。よって、炉本体２は、天井部２Ａにより上端が閉じた円筒形状（逆有底円筒形）をなしている。炉本体２の内部側は耐熱材により、外部側は断熱材により構成される。
【００２０】
炉床３は、上下動可能に設けられ、開口部２ｂに挿入可能に構成されている。炉床３が開口部２ｂに挿入されることにより、炉本体２と炉床３とにより焼成空間２Ｃが画成される。また、積層セッター４は、炉床３の上に載置されている。図２に示すように、積層セッター４は、セラミックからなる複数のセッター４Ａを上下方向に沿って積層することにより構成されている。各セッター４Ａは、円盤状をなし、その中央部には円状の開口４ｂが形成されている。各セッター４Ａの開口４ｂは、セッター４Ａの積層方向（図の上下方向）において互いに対向しているため、積層セッター４全体では、上下方向に延びる貫通孔４ｃを提供している。また、貫通孔４ｃの下端は、炉床３によって閉じられている。
【００２１】
また、上下方向において隣合うセッター４Ａ間であって、各セッター４Ａの上面には、被焼成物であるセラミック成型体９が複数配置されている。本実施の形態において、各セラミック部品９の重量は、約６ｍｇである。
【００２２】
ガス供給管５は、セラミックチューブからなり、図１に示すように、天井部２Ａを上下方向に沿って貫通し、図示せぬ軸受により回転可能に設けられている。また、図２に示すように、ガス供給管５は、有底であり、その中心軸は、積層セッター４Ａの貫通孔４ｃの中心と同軸になるように構成されている。また、炉床３が開口部２ｂに挿入され炉体２にセットされた状態で、ガス供給管５は、貫通孔４ｃに挿入されるように構成されている。また、ガス供給管５には、複数のガス供給口５ａが形成されている。各ガス供給口５ａは、ガス供給管５の周方向において所定の長さを有している。各ガス供給口５ａは、ガス供給管５が貫通孔４ｃに挿入された状態で、上下方向において隣合うセッター４Ａ間に対応するように形成されている。ガス供給管５が貫通孔４ｃに挿入された状態で、ガス供給管５および各セッター４Ａ間の距離は、０．１５〜０．２ｍｍとなるように構成されている。
【００２３】
図１に示すように、ガス供給管５には、焼成空間２Ｃと外気との連通を遮断するためのダブルシール１０が装着されている。また、ガス供給管５の上端には、ロータリージョイント１１が設けられている。ロータリージョイント１１は、ガス供給部材１１Ａおよび上下方向に沿って延びる回転部材１１Ｂを備えている。
【００２４】
駆動モータ８は、その駆動力を出力するための出力軸８Ａを備えている。出力軸８Ａの図示せぬプーリ、および回転部材１１Ｂの図示せぬプーリには、ベルト１２が装着されている。当該構成により、駆動モータ８の駆動力は、出力軸８Ａ、ベルト１２、回転部材１１Ｂ、およびロータリージョイント１１を介して、ガス供給管５に伝達され、これによりガス供給管５は出力軸８Ａと一体的に回転する。また、ガス供給管５の回転速度は、変更可能に構成されている。
【００２５】
ガス排気管６は、セラミックチューブからなり、天井部２Ａを上下方向に沿って貫通している。ガス排気管６の下端は、積層セッター４の外周縁部と上下方向において略同位置にある。
【００２６】
ヒータ７は、天井部２Ａから下方に向かって延び、セラミック成型体９の焼成時に焼成空間２Ｃ内を所望の温度に昇温可能である。ガス排気管６は、貫通孔４ｃの中心と同軸な円周方向に沿って、等間隔に複数配置されることが好ましい。
【００２７】
上記の構成において、セラミック成型体９の脱脂・焼成時には、ガス供給管５は、駆動モータ８の駆動力を受けて回転すると共に、図示せぬガス供給源から供給される雰囲気ガスを各ガス供給口５ａからセラミック成型体９に向けて供給する。そして、供給された雰囲気ガスは、図２の矢印に示されるように流れて、脱脂・焼成過程でセラミック成型体９から発生するＣＯ２等のガスをガス排気管６から炉外に排出する。
【００２８】
よって、本実施の形態のバッチ炉１によれば、ガス供給管５がガス供給時に回転するので、ガス供給管５からの雰囲気ガスが拡散され、上下方向において隣合うセッター４Ａ間のガス雰囲気を均一な流れ状態にすることができる。従って、雰囲気ガスを全てのセラミック成型体９に対し十分に接触させることができるので、全てのセラミック成型体９を良好に脱脂・焼成することができる。さらに、ガス供給管５を回転させることで、雰囲気ガスの供給量を減少させることができる。また、炉床３を回転させないので、セラミック成型体９の分布が偏ることはなく、良好に脱脂・焼成することができる。
【００２９】
また、図２に示すように、各ガス供給口５ａは、隣合うセッター４Ａ間に対応するように形成されているので、効率よくかつ集中してセラミック成型体９へ雰囲気ガスを供給することができ、雰囲気ガスの供給量を減少させることができる。また、ガス供給管５は回転するので、各ガス供給口５ａとガス排出管６との位置関係を相対的に変化させることができる。また、積層セッター４に対して、ガス供給口５ａを任意の速度で回転させることができる。
【００３０】
次に、本発明のバッチ炉の第２の実施の形態について図３および図４に基づき説明する。図３および図４において、第１の実施の形態と同一の部材については、同一の番号を付して説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。図３および図４に示されるように、第２の実施の形態のバッチ炉１０１のガス供給管１０５は、第１ガス供給管１０５Ａおよび第２ガス供給管１０５Ｂから構成される。
【００３１】
第１ガス供給管１０５Ａは、セラミックチューブからなり、天井部２Ａから炉床３に向かって上下方向に沿って延びている。また、第１ガス供給管１０５Ａは、第１の実施の形態のガス供給管５と同様に、駆動モータ８、ロータリージョイント１１、ベルト１２等により、回転可能かつガス供給可能に構成されている。また、第１ガス供給管１０５Ａの下端には連通孔１０５ｃが形成されており、第１ガス供給管１０５Ａの下端部には、複数のガス供給口１０５ｄが形成されている。第１ガス供給管１０５Ａの各ガス供給口１０５ｄは、第１ガス供給管１０５Ａが貫通孔４ｃに挿入された状態で、上下方向において隣合うセッター４Ａ間に対応するように形成されている。
【００３２】
第２ガス供給管１０５Ｂは、セラミックチューブからなり、炉床３から天井部２Ａに向かって上下方向に沿って延びている。第２ガス供給管１０５Ｂは、第１ガス供給管１０５Ａと同様の構成（図示せぬ軸受、駆動モータ、ロータリージョイント、ベルト等）により、回転可能かつガス供給可能に構成されている。第２ガス供給管１０５Ｂの上端には連通孔１０５ｅが形成されている。
【００３３】
また、第２ガス供給管１０５Ｂの上端は、炉床３が開口部２ｂに挿入され炉体２にセットされた状態で、第１ガス供給管１０５Ａの下端と当接するように構成されている。これにより、第１ガス供給管１０５Ａの内部空間と、第２ガス供給管１０５Ｂの内部空間とは、連通孔１０５ｃ、１０５ｅを介して互いに連通する。また、第２ガス供給管１０５Ｂの上端部には、複数のガス供給口１０５ｆが形成されている。第２ガス供給管１０５Ｂの各ガス供給口１０５ｆは、第２ガス供給管１０５Ｂが貫通孔４ｃに挿入された状態で、隣合うセッター４Ａ間に対応するように形成されている。
【００３４】
上記の構成において、セラミック成型体９の焼成時には、第１ガス供給管１０５Ａおよび第２ガス供給管１０５Ｂは、互いに当接した状態で、駆動モータ８等の駆動力を受けて回転すると共に、図示せぬガス供給源から供給される雰囲気ガスを各ガス供給口１０５ｄ、１０５ｆからセラミック成型体９に向けて供給する。そして、供給された雰囲気ガスは、図４の矢印に示されるように流れて、脱脂・焼成過程でセラミック成型体９から発生するＣＯ２等のガスをガス排気管６から炉外に排出する。
【００３５】
よって、本実施の形態のバッチ炉１０１によれば、第１ガス供給管１０５Ａを通って上側から供給される雰囲気ガスと、第２ガス供給管１０５Ｂを通って下側から供給される雰囲気ガスとが、第１ガス供給管１０５Ａおよび第２ガス供給管１０５Ｂの当接部付近で衝突する。その後、雰囲気ガスは、各ガス供給口１０５ｄ、１０５ｆを介して、隣合うセッター４Ａ間のセラミック成型体９に向かって供給される。従って、各ガス供給口１０５ｄ、１０５ｆから排出されるガスの流量を均一にすることができる。すなわち、各ガス供給口１０５ｄ、１０５ｆの上下方向におけるガス流量の偏りを防止することができる。なお、第１ガス供給管１０５Ａおよび第２ガス供給管１０５Ｂが回転することによる効果は、第１の実施の形態におけるガス供給管５が回転する効果と同様である。
【００３６】
次に、本発明のバッチ炉の第３の実施の形態について図５に基づき説明する。図５において、第１の実施の形態と同一の部材については、同一の番号を付して説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。図５に示されるように、第３の実施の形態のガス供給管２０５は、第３ガス供給管２０５Ａおよび第４ガス供給管２０５Ｂから構成される。
【００３７】
第３ガス供給管２０５Ａは、セラミックチューブからなり、天井部２Ａから炉床３に向かって上下方向に沿って延びている。また、第３ガス供給管２０５Ａは、第２の実施の形態の第１ガス供給管１０５Ａと同様に、回転可能かつガス供給可能に構成されている。第３ガス供給管２０５Ａの下端には、開口２０５ｃが形成され、貫通孔４ｃに向かって開口している。第３ガス供給管２０５Ａの下端は、貫通孔４ｃの上端付近に位置している。また、第３ガス供給管２０５Ａの下端部には、第３ガス供給管２０５Ａの径方向外方に向かって延びる鍔部２０５Ｄが設けられている。鍔部２０５Ｄは、最上位のセッター４Ａの上面に対向している。
【００３８】
第４ガス供給管２０５Ｂは、セラミックチューブからなり、炉床３に設けられている。また、第４ガス供給管２０５Ｂは、第２の実施の形態の第２ガス供給管１０５Ｂと同様に、回転可能かつガス供給可能に構成されている。第４ガス供給管２０５Ｂの上端には、開口２０５ｅが形成され、貫通孔４ｃに向かって開口している。第４ガス供給管２０５Ｂの上端は、貫通孔４ｃの下端付近に位置している。
【００３９】
上記の構成において、セラミック成型体９の焼成時には、第３ガス供給管２０５Ａおよび第４ガス供給管２０５Ｂは、駆動モータ８等の駆動力を受けて回転すると共に、図示せぬガス供給源から供給される雰囲気ガスを各開口２０５ｃ、２０５ｅから貫通孔４ｃに向かって供給する。すなわち、第３ガス供給管２０５Ａは貫通孔４ｃの上側から、第４ガス供給管２０５Ｂは貫通孔４ｃの下側から、それぞれ貫通孔４ｃへ雰囲気ガスを供給する。そして、貫通孔４ｃに供給された雰囲気ガスは、隣合うセッター４Ａの間のセラミック成型体９に向かって、図５の矢印に示されるように流れて、脱脂・焼成過程でセラミック成型体９から発生するＣＯ２等のガスをガス排気管６から炉外に排出する。
【００４０】
よって、本実施の形態のバッチ炉によれば、第３ガス供給管２０５Ａおよび第４ガス供給管２０５Ｂから貫通孔４ｃに雰囲気ガスが供給されて、貫通孔４ｃに溜まった雰囲気ガスが隣合うセッター４Ａの間に供給される。従って、各隣合うセッター４Ａの間に供給されるガスの流量を均一にすることができる。また、第３ガス供給管２０５Ａおよび第４ガス供給管２０５Ｂは、回転しながら雰囲気ガスを供給するので、貫通孔４ｃ内の雰囲気ガスを攪拌することができ、各隣合うセッター４Ａの間に供給されるガスの流量をより均一にすることができる。
【００４１】
また、第３供給管２０５Ａには、鍔部２０５Ｄが設けられており、鍔部２０５Ｄは、最上位のセッター４Ａの上面に対向しており、最下位のセッター４Ａは、炉床３上に配置されている。よって、雰囲気ガス供給時には、第３供給管２０５Ａ、第４供給管２０５Ｂ、鍔部２０５Ｄ、および炉床３が、貫通孔４ｃの蓋の役割を果たすので、供給されるガスの全てを隣合うセッター４Ａ間に流すことができ、脱脂・焼成に必要な雰囲気ガスの供給量をより減少させることができる。
【００４２】
尚、本発明のバッチ炉は、上述した実施の形態に限定されず、特許請求の範囲に記載した範囲で種々の変形や改良が可能である。例えば、被焼成物は、セラミック成型体９であったが、セラミック材料の粉末であっても良い。また、各セッター４Ａは、開口が形成された円盤状であったが、複数の部材を組合せて開口を提供し、これを積層させて貫通孔を提供する構成であっても良い。また、第１の実施の形態において、ガス供給管５の内部のガス供給口５ａ近傍に、上下方向におけるガスの供給量を均一にするために仕切り板をつけても良い。
【００４３】
また、第１および第２の実施の形態では、ガス供給管５、１０５に複数のガス供給口５ａ、１０５ｅ、１０５ｆを隣合うセッター４Ａ間に対応するように形成したが、ガス供給管５、１０５を多孔質のセラミックチューブにより構成しても良い。この場合、ガス供給管全体からガスが排出可能であるので、隣合うセッター４Ａ間に対応する箇所のみから雰囲気ガスが排出されるように構成する。第３の実施の形態において、第３ガス供給管２０５Ａおよび第４ガス供給管２０５Ｂを回転させたが、回転させなくても良い。当該構成によっても、各隣合うセッター４Ａの間に供給されるガスの流量を均一にすることができ、かつガスの流量を減少させることができる。
【００４４】
また、第３の実施の形態において、第３ガス供給管２０５Ａの下端および第４ガス供給管２０５Ｂの上端は、それぞれ開口４ｂ（貫通孔４ｃ）内に位置していたが、貫通孔４ｃ雰囲気ガスを供給可能であれば、開口４ｂ（貫通孔４ｃ）に入っていなくても良い。また、第３の実施の形態において、第３ガス供給管２０５Ａの下端および第４ガス供給管２０５Ｂの上端の形状を、波形状等にしても良い。当該構成により、貫通孔４ｃ内の雰囲気ガスを攪拌することができ、各隣合うセッター４Ａの間に供給されるガスの流量をさらに均一にすることができる。
【符号の説明】
【００４５】
１、１０１ バッチ炉
２ 炉本体
３ 炉床
４ 積層セッター
４Ａ セッター４
４ｂ 開口
４ｃ 貫通孔
５、１０５、２０５ ガス供給管
５ａ、１０５ｄ、１０５ｆ ガス供給口
６ ガス排気管
８ 駆動モータ
８Ａ 出力軸
９ セラミック成型体
１１ ロータリージョイント
１１Ａ ガス供給部材
１１Ｂ 回転部材
１２ ベルト
１０５Ａ 第１ガス供給管
１０５Ｂ 第２ガス供給管
１０５ｃ、１０５ｅ 連通孔
２０５Ａ 第３ガス供給管
２０５Ｂ 第４ガス供給管
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被焼成物を載置可能な上面をそれぞれ有し複数重ねられたときに積層方向に延びる貫通孔を提供すれる複数のセッターと、
該積層された複数のセッターが載置される炉床と、
該複数のセッターの積層方向において隣合うセッター間に向かって、該貫通孔を介してガスを供給するガス供給管と、
該複数のセッターの周りに配置されるガス排気管と、
該ガス供給管を回転させる回転手段と、を備えることを特徴とするバッチ炉。
【請求項２】
該ガス供給管は該貫通孔内に挿入され、該ガス供給管には、該隣合うセッターの間に対応するようにガス供給口が形成され、該ガスは、該ガス供給口から該隣合うセッター間に向かって供給されることを特徴とする請求項１に記載のバッチ炉。
【請求項３】
該炉床と共に焼成空間を画成する炉本体をさらに備え、
該ガス供給管は、該炉本体から該炉床に向かって該積層方向に沿って延びる第１ガス供給管と、該炉床から該炉本体に向かって該積層方向に沿って延びる第２ガス供給管とを備え、
該第１ガス供給管および該第２ガス供給管は、該貫通孔に挿入されて互いに当接可能に構成され、該第１ガス供給管および該第２ガス供給管には、該隣合うセッターの間に対応するように該ガス供給口が形成され、
該第１ガス供給管を通って供給される該ガス、および第２ガス供給管を通って供給される該ガスは、該ガス供給口から、該隣合うセッター間に向かって供給されることを特徴とする請求項２に記載のバッチ炉。
【請求項４】
該炉床と共に焼成空間を画成する炉本体をさらに備え、
該ガス供給管は、該炉本体に設けられた第１ガス供給管と、該炉床に設けられた第２ガス供給管とを備え、
該第１ガス供給管は、該貫通孔の上側から該貫通孔に該ガスを供給可能に構成され、該第２ガス供給管は、該貫通孔の下側から該貫通孔に該ガスを供給可能に構成されることを特徴とする請求項１に記載のバッチ炉。
【請求項５】
該第１ガス供給管の下端部には、該第１ガス供給管の径方向外方に向かって延び、該積層方向において該最上位のセッターの上面に対向する鍔部が設けられていることを特徴とする請求項４に記載のバッチ炉。
【請求項１】
被焼成物を載置可能な上面をそれぞれ有し複数重ねられたときに積層方向に延びる貫通孔を提供すれる複数のセッターと、
該積層された複数のセッターが載置される炉床と、
該複数のセッターの積層方向において隣合うセッター間に向かって、該貫通孔を介してガスを供給するガス供給管と、
該複数のセッターの周りに配置されるガス排気管と、
該ガス供給管を回転させる回転手段と、を備えることを特徴とするバッチ炉。
【請求項２】
該ガス供給管は該貫通孔内に挿入され、該ガス供給管には、該隣合うセッターの間に対応するようにガス供給口が形成され、該ガスは、該ガス供給口から該隣合うセッター間に向かって供給されることを特徴とする請求項１に記載のバッチ炉。
【請求項３】
該炉床と共に焼成空間を画成する炉本体をさらに備え、
該ガス供給管は、該炉本体から該炉床に向かって該積層方向に沿って延びる第１ガス供給管と、該炉床から該炉本体に向かって該積層方向に沿って延びる第２ガス供給管とを備え、
該第１ガス供給管および該第２ガス供給管は、該貫通孔に挿入されて互いに当接可能に構成され、該第１ガス供給管および該第２ガス供給管には、該隣合うセッターの間に対応するように該ガス供給口が形成され、
該第１ガス供給管を通って供給される該ガス、および第２ガス供給管を通って供給される該ガスは、該ガス供給口から、該隣合うセッター間に向かって供給されることを特徴とする請求項２に記載のバッチ炉。
【請求項４】
該炉床と共に焼成空間を画成する炉本体をさらに備え、
該ガス供給管は、該炉本体に設けられた第１ガス供給管と、該炉床に設けられた第２ガス供給管とを備え、
該第１ガス供給管は、該貫通孔の上側から該貫通孔に該ガスを供給可能に構成され、該第２ガス供給管は、該貫通孔の下側から該貫通孔に該ガスを供給可能に構成されることを特徴とする請求項１に記載のバッチ炉。
【請求項５】
該第１ガス供給管の下端部には、該第１ガス供給管の径方向外方に向かって延び、該積層方向において該最上位のセッターの上面に対向する鍔部が設けられていることを特徴とする請求項４に記載のバッチ炉。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２０１２−１３２５６（Ｐ２０１２−１３２５６Ａ）
【公開日】平成２４年１月１９日（２０１２．１．１９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１４７５６４（Ｐ２０１０−１４７５６４）
【出願日】平成２２年６月２９日（２０１０．６．２９）
【出願人】（０００００３０６７）ＴＤＫ株式会社 (7,238)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１月１９日（２０１２．１．１９）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年６月２９日（２０１０．６．２９）
【出願人】（０００００３０６７）ＴＤＫ株式会社 (7,238)
【Ｆターム（参考）】
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