【課題】生石灰が均一かつ高い焼成率で得られ、焼成温度と焼成時間を自由に制御することができ、炭酸塩鉱物の大きさに制限されずに焼成することができる回転式マイクロ波焼成炉及びその焼成方法を提供する。
【解決手段】回転式マイクロ波焼成炉は、マイクロ波が照射される密閉した空間を形成するキャビティと、キャビティの内部にマイクロ波を照射するマイクロ波発生装置と、内部に被焼成体が収容され、キャビティの内部に所定の角度だけ傾斜したまま回転可能に設置され、マイクロ波の照射によって発熱される発熱体と、発熱体に被焼成体を順次供給する被焼成体供給装置と、発熱体の回転のための動力を提供する発熱体回転装置と、被焼成体供給装置による被焼成体供給量と前記発熱体回転装置による発熱体回転速度を制御するための制御部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】触媒活性化用の加熱器を熱処理用のもので共用でき、装置の大型化およびコスト増を抑制し得る熱処理装置を提供する。
【解決手段】 熱処理装置１Ａは、ワークＷが収容される熱処理炉２０、加熱器３２および送風機３３が設けられる空調部２３、並びに熱処理炉２０および空調部２３を連通する連通路２４，２５を有する断熱室２を備えている。この熱処理装置１Ａは、還流経路５および触媒６を備える。還流経路５は、空調部２３から流出した空気を、空調部２３における加熱器３２の設けられた位置よりも上流側の部分に戻すように構成される。触媒６は、ワークＷを熱処理する際にワークＷから発生する昇華物を分解するものである。触媒６は、空調部２３における加熱器３２の設けられた位置よりも下流側の部分に設けられる。 （もっと読む）

【課題】炉芯管内へ供給する雰囲気ガスで回転するガス流束を形成して雰囲気ガスに直進性を誘導させ、それにより、被処理物の近傍における雰囲気ガスの滞留を抑制するばかりでなく、乱流の発生を防止し、雰囲気ガス、発生ガスを炉芯管内に沿って排気口へ向け安定した流れで直進させて処理ムラの発生を防止する熱処理炉を提供する。
【解決手段】加熱手段３を有する炉本体１内に円筒状の炉芯管２を配置し、その炉芯管の一端部に雰囲気ガスの供給口５ａを、他端部に排気口７ａを設けた熱処理炉Ａにおいて、前記ガス供給口５ａの前位置に、供給されるガス流の乱流を抑制しながら雰囲気ガスを排気口方向へ誘導させる整流ファン１４を配設した。 （もっと読む）

【課題】全ての被焼成物に雰囲気ガスを均一に接触させることができ、被焼成物を良好に焼成することができるバッチ炉を提供する。
【解決手段】炉床３が開口部２ｂに挿入され炉体２にセットされた状態で、ガス供給管５は、積層セッター４の貫通孔に挿入されるように構成されており、駆動モータ８の駆動力は、出力軸８Ａ、ベルト１２、回転部材１１Ｂ、およびロータリージョイント１１を介して、ガス供給管５に伝達され、これによりガス供給管５は回転し、さらに、セラミック成型体の脱脂・焼成時には、ガス供給管５は、駆動モータ８の駆動力を受けて回転すると共に、ガス供給源から供給される雰囲気ガスをガス供給口からセラミック成型体に向けて供給する。 （もっと読む）

【課題】焼成容器内への酸素等の不純物の流入を抑制したセラミック焼成方法を提供する。
【解決手段】焼成炉１の外部に配置されたガス供給源５からの雰囲気ガスを焼成容器１０に形成されたガス供給口１２から焼成容器１０の内部に直接供給し、焼成容器１０内においてガス供給口１２から供給された雰囲気ガスを流通させてガス排出口１３から焼成容器１０の外部に排出する。 （もっと読む）

【課題】焼成温度までの昇温を短時間で行い、かつ、セラミック脱脂体に生じる割れを防止できる焼成方法を提供する。
【解決手段】セラミック原料を成形、脱脂してセラミック脱脂体１０を作製する工程と、セラミック脱脂体１０を連続焼成炉２０内で焼成する焼成工程とを含み、連続焼成炉２０内に、セラミック脱脂体１０の底面に下板３０を、セラミック脱脂体１０の上面に上板３１を配置し、上板３１及び下板３０に通電用電極５０，５１をそれぞれ接触配置し、上板３１の上方及び下板３０の下方に抵抗加熱機構４０をそれぞれ配置し、焼成工程では、抵抗加熱機構４０を用いた抵抗加熱により１５００〜２０００℃の予備加熱工程を行い、抵抗加熱機構４０を用いた抵抗加熱と下板３０及び上板３１に電圧をかけるセラミック脱脂体に通電する直接通電加熱とを併用して、２０００〜２３００℃の温度に保持する高温焼成工程を行うセラミック焼成体の製造方法。 （もっと読む）

【解決課題】ロータリーキルンの出口側端部に環状に設けられる取付金物の長期に亘る使用を可能とし、且つロータリーキルンを用いた操業コストの低減を図ることが可能なロータリーキルンの出口側端部の金物取付構造を提供すること。
【解決手段】取付金物４は、冷却フード３側に位置する外側金物４-１と、鉄皮１及び煉瓦２側に位置する内側金物４-２からなり、該外側金物４-１は前記冷却フード３の端部に締結部材により同冷却フード３の出口側を覆うようにして固設され、該内側金物４-２は前記鉄皮１の端部に締結部材により前記煉瓦２の出口側を押えるようにして固設されると共に、該外側金物４-１と該内側金物４-２が嵌合した状態で配設されていることを特徴とするロータリーキルンの出口側端部における金物取付構造。 （もっと読む）

【課題】還元焼成時において炉室内への還元ガスの供給を自在にコントロールすることができ、しかも、化石燃料を使用せずに還元焼成を行うことができ、環境負荷が小さく、自然環境を保全しようとする立場からも好適な電気式陶芸窯を提供する。
【解決手段】本体１と還元材燃焼炉４とによって構成され、還元材燃焼炉４は、内部空間が、中段に保持された仕切板５によって、上方の燃焼室６と下方の加熱室７とに仕切られるとともに、扉９を閉めることによって内部空間を閉塞できるように構成され、燃焼室６は、連絡路１０を介して本体１の炉室２と連通した状態となっており、加熱室７内には、加熱装置８が配置されており、仕切板５の上に載置した還元材を加熱し、燃焼させることができるように構成した。 （もっと読む）

【課題】脱脂工程後の焼結工程時においても加熱室内の雰囲気の清浄性を確保することができ、また、加熱室自体の耐久性を向上させることができ、さらに、冷却工程時、材料を短時間で均一に冷却することができる一室型真空炉を提供する。
【解決手段】補助排気管４は炉体１と同軸上に加熱室２０内と連通して配置され、可動排気管４ａと固定排気管４ｂとからなる。固定配管４ｂの外径は可動排気管４ａの内径より小径で下部加熱室部２０ｂから加熱室２０内に挿通している。可動排気管４ａの外径は炉体１内に連通接続する主排気管５の内径より小径で固定排気管４ｂに外装され、上昇位置と下降位置との間を昇降自在に支持されている。主排気管５の内径は可動排気管４ａの外径より大径で可動排気管４ａに所定隙間をもって外装されている。可動排気管４ａの上昇位置において、可動排気管４ａの下端部が主排気管５内に、また、固定排気管４ｂの下端部が可動排気管４ａ内に遊嵌状態で位置する。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成により、適宜的に、熱処理空間の内部の雰囲気を熱処理空間の外部に対して完全に独立させることが可能な熱処理装置を提供する。
【解決手段】真空加熱炉１０は、真空容器１２、および真空容器１２に対して着脱可能な炉芯管３０を備える。真空容器１２は、炉芯管端部支持部２２、炉芯管導入部２５、挿通孔１９１を有する第１のマッフル蓋体１８２および第１の断熱材蓋体２０２、ならびに挿通孔１９３を有する第２のマッフル蓋体１８４および第２の断熱材蓋体を備える。第２のシール部３４は、炉芯管側フランジ部材３４８、真空用ベローズ３４２、およびガス流入出ユニット３５０を備え、炉芯管３０を真空容器１２に気密に接続可能にするように構成される。 （もっと読む）

【課題】マイクロ波加熱の採用を前提とし、各種の被加熱物に対してさらに効率的な加熱処理を施し得るように改良する。
【解決手段】被加熱物Ｇに加熱処理を施すべく当該被加熱物Ｇを収容する内容器２０と、この内容器２０を収容する外容器３０と、内容器２０内に過熱水蒸気を供給する過熱水蒸気発生装置５０と、外容器３０，３０′内にマイクロ波を照射するマイクロ波発振装置４０とを備えて加熱装置１０が構成されている。そして、特に内容器２０は、内部の加熱空間を覆う容器本体がマイクロ波を透過し得る材料によって形成されている。マイクロ波を透過し得る材料としてセラミックスが採用されている。 （もっと読む）

【課題】基板と基板支持部の接触面積を増加させることにより、焼成装置の内部温度が上昇及び下降することで、基板支持部が収縮・膨脹しながら、基板にスクラッチを発生させることを防止できる基板焼成装置を提供する。
【解決手段】焼成炉１０内部に熱を供給して基板Ｓを焼成温度で加熱する加熱部２１と、前記基板Ｓが積載されるように内側面に水平に設置される支持フレーム３０a及び前記支持フレーム３０ａの一領域から中央部側へ突出する少なくとも１つの支持ピン３０ｂとを備え、上下方向に一定間隔で設置される石英材質の第１支持部３０、前記第１支持部３０の前記支持ピン３０ｂ上に配置されて前記基板Ｓ下部面の枠と一定領域だけ接触するように設置される石英材質の第２支持部４０とを有する。 （もっと読む）

【課題】バインダー成分を含む炉内の雰囲気ガスを強制排気するエジェクターの内面にバインダー成分が凝着するのを防止できる連続焼成炉を提供する。
【解決手段】被処理品より発生したバインダー成分を含む炉内の雰囲気ガスを炉外に排気する雰囲気ガス排気路８ａにエジェクター９を取付けた連続焼成炉において、エジェクター９にエアーを給気するエアー給気路１０に、エアーをバインダー成分の凝縮温度より高い温度に加熱するエアー加熱手段１１を設けた構成とする。エアー加熱手段１１でバインダー成分の凝縮温度より高い温度に加熱したエアーをエジェクター９に給気することによって、炉外に強制排気する雰囲気ガス中のバインダー成分が冷やされてエジェクター９の内面に凝着するのを防止する。 （もっと読む）

【課題】焼成時にバインダーガスを放出する電子部品を焼成するためのバッチ式の電子部品用焼成炉とその炉圧制御方法を提供する。
【解決手段】焼成炉本体１の天井部２に、ガス流量調整用のダンパー機構５を備えた排ガス放出用の排気ダクト３と、熱交換器７に通じる連結ダクト４を設け、熱交換器７で冷却したガスを再び焼成炉本体１に戻す循環路８を形成するとともに、この循環路８には炉圧制御器９を設けた。また、この焼成炉の炉圧を制御する方法であって、起動時から脱バインダー処理が終了するまでは、循環路への排ガスの流入を止めて排気ダクトの排気のみで炉圧の制御を行い、次いで、脱バインダー処理が終了した後は、排気ダクトへの排ガスの流入を止めて循環路の流通のみで炉圧の制御を行うようにした。 （もっと読む）

【課題】不活性ガスを内有した乾燥処理装置又は焼成処理装置等においては、当該装置内へ被加工ワークを供給したり又はそこからワークを取出す際に、装置内部の不活性ガスが装置外部へ漏洩する。不活性ガスの漏洩を防止若しくは最小にするワーク出し入れの為の開口部をできるだけ小さくできる乾燥処理装置又は焼成処理装置を提供する。
【解決手段】不活性ガス雰囲気下で被加工ワークを処理するための不活性ガス雰囲気炉装置であって、炉本体と大扉１４とにより構成されており、複数のワーク保持手段と、少なくとも１つのワーク移送開口と、小扉３４と、大扉移動手段３０と、小扉開閉手段と、ワーク移送ロボットと、封止手段２０及びクランプ手段と、シール手段と、から成る不活性ガス雰囲気炉装置。 （もっと読む）

【課題】被処理物に対する加熱量のバラツキを低減することが可能であり、しかも、装置を大型化することなく、被処理物に対する長時間の加熱を可能とし、被処理物の品質向上を図ることが可能な焼成炉を提供する。
【解決手段】回転軸の回りに回転可能であり、被処理物が内部管路に沿って通過している間に当該被処理物が加熱される炉芯管６を有するロータリキルン２である。炉芯管の回転軸を含む縦断面から見て、炉芯管における内部管路の軸芯が、炉芯管の回転軸に対して所定角度で交差するように、炉芯管が曲げられている。 （もっと読む）

【課題】省エネルギー性に優れ、炉体構造が簡素で築炉コストが安く、しかも窯詰め位置による焼成ムラを生じにくいセラミック焼成用のシャトルキルンを提供する。
【解決手段】炉壁及び炉天井がセラミックファイバ２により構成され、その内部に台車４が装入されるシャトルキルンである。炉体１の後壁中央部を外側に突出させて炉壁により煙道１０を形成するとともに、その下部に炉室から煙道１０への排気孔を形成する。左右の炉壁の前後位置には、上下の各水平面内においてフレームが逆向きの旋回流を形成するように、バーナー８を前後逆向きに複数段配置する。従来品よりも大幅なコストダウンが可能である。 （もっと読む）

【課題】加熱炉の熱反射板としては、反射率の大きい金属板が使用できるが、高温では酸化により、反射率は大きく低下してしまうため、高温でも使用できる熱反射板であって、熱伝導によって外壁に伝わる熱輸送を抑制できる熱反射板を備えた加熱炉を提供する。
【解決手段】セラミック粒子の粒子径及びそれぞれの並べ方を制御して、面内周期性及び積層周期性を持つように積層した微細構造１を表面に形成して、特定波長の反射率を向上させた熱反射板を備える加熱炉。 （もっと読む）

【課題】メンテナンスの負担が少なく、一定品質の焼結体を提供できる脱脂工程と焼結工程が可能な焼成炉、およびその焼成炉を用いた製造方法を提供する。
【解決手段】密閉可能なチャンバと、チャンバ内に設けられ、ヒータを備えた加熱室と、チャンバに接続される第１の排気管と、それに接続される第１の真空ポンプと、加熱室に直接接続される第２の排気管と、それに接続される、排ガス中のバインダ成分を捕集する捕集装置と第２の真空ポンプとを有する焼成炉である。また、この焼成炉を用いて、脱脂工程と焼結工程とを連続に行う非酸化物セラミックス焼結体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】補綴材の品質を低下させることなくサイクル時間の点において改善されるとともに均一な品質の補綴材を製造することができる、特に歯科用の燃焼窯の稼働方法ならびに燃焼窯を提供する。
【解決手段】必要に応じて不連続点で測定した温度の時間積分を算定して特にそれを記憶し、必要に応じてそれを測定された実際温度に加えて燃焼窯の制御に使用する。燃焼窯は温度制御装置が測定した温度の時間積分を算定して特にそれを記憶し、必要に応じて測定された実際温度に加えてそれに基づいて燃焼窯を制御する。 （もっと読む）