本発明は、コーティングされ、かつ／あるいは、汚染された原料を熱的にデコーティングし、かつ／あるいは、乾燥する装置に関する。該装置は、少なくとも一つの支持体、各支持体に取り付けられ、かつ、処理すべき原料を受け取るようにされた炉１０を含み、各炉１０は、第一の部分４が一般に第二の部分６より高い第一の位置と、第二の部分６が一般に第一の部分４より高い第二の位置との間で移動可能であり、かつ、使用に際して、該または各炉１０は、第一の位置と第二の位置との間で繰り返し移動して、炉１０内の原料を移動させる。該装置は、熱ガスの流れを発生させる少なくとも一つのアフターバーナー２２および熱ガスの流れを炉の処理ゾーンに向けるダクト手段、およびガスを少なくとも一つのアフターバーナーに戻す排気手段を含み、それにより、該または各炉は、一体のアフターバーナーを含んでいない。
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【課題】被乾留物より発生した可燃性ガスを爆発燃焼させることなく乾留処理を連続的に行い、１バッチにかかる時間を短縮して処理能力を向上させる。
【解決手段】不活性ガス雰囲気の炉本体１内で被乾留物７を収容した乾留槽２を誘導加熱して被乾留物７を乾留処理し、処理後の被乾留物を炉本体１の下部から排出する誘導加熱式乾留炉において、炉本体１の下部に密閉構造の排出室１２を接続するとともに、排出室１２を不活性ガス置換する手段を設け、排出室１２を窒素置換した後、底蓋６を開いて乾留処理が終了した被乾留物７を排出室１２の排出トレイ１０に排出するようにする。被乾留物７の排出時に炉内に外気が侵入しないので、次の被乾留物７の投入のために炉内を不活性ガス置換する必要がなく、また排出室１２は低酸素濃度なので、排出された被乾留物７が酸化されることがない。 （もっと読む）

【課題】断熱材への重合物・煤等の蓄積抑制と、蓄積した重合物・煤等をバーンアウトにより燃焼させ断熱材の断熱機能を維持させる浸炭室を有する真空浸炭炉を提供。
【解決手段】断熱材枠３の内部には、２層組合せたセラミックスファイバーボード断熱材４、５の中間に空間連結断熱材６を介して空間層９を配置した３層構成にしてなる断熱層を有し、空間層９の内側に配置したセラミックスファイバーボード断熱材５は、炉内内部温度に耐えうる材質のものを使用し、空間層９の温度分布が約 500〜600 ℃となるように空間層９の内側に配置した断熱材５の材質及び層数を選定し、かつ空間層９に外部からの空気導入ノズル13を配置している。 （もっと読む）

【課題】スラブタップからの溶融スラグを略垂直下向きに滴下させるとともに、排ガス中の塩化物などの低沸点物質を水に溶かして除去すること。
【解決手段】灰分を燃焼溶融する溶融炉１と、溶融炉で生成された溶融スラグを排出するスラグタップ２と、スラグタップに連結されたスラグ排出シュート３と、スラグ排出シュートの下方部に設けられた水槽４と、を備えた灰溶融装置であって、スラグ排出シュートの一部下端と水槽の水面に隙間１８を設け、スラグタップとスラグ排出シュートを通じて溶融炉の燃焼排ガスを抜き出す燃焼排ガス抜き出し管８を水槽４に接続し、隙間１８と燃焼排ガス抜き出し管８の間を通る燃焼排ガスに対して散水すること。散水は水槽の水を循環する循環水２０を用いること。 （もっと読む）

【課題】 水冷されている炉本体及び炉扉における結露を防ぎ、かつ被処理物や内部断熱材に吸着した水分も除去することができ、これにより、真空熱処理中の被処理物の酸化・着色を大幅に低減することができる水冷式真空熱処理炉における酸化・着色防止方法を提供する。
【解決手段】 被処理物の真空熱処理２１の前工程及び／又は後工程として、炉扉を閉じたままで炉内に不活性ガスを循環させながら炉内全体を水分の蒸発温度よりも十分高く被処理物が酸化・着色しない温度まで加熱する循環加熱ステップ２２を有する。これにより炉体や炉扉に付着した水滴や被処理物や断熱材に吸着した水分は不活性ガスに混入し排気される。 （もっと読む）

【課題】 良好なセラミック焼成が可能なセラミックの焼成方法、トンネル式焼成炉、セラミック電子部品の製造方法及び装置、セラミック電子部品の焼成用収納体を提供する。
【解決手段】 セラミック原料を含む未焼成の処理品をトンネル式焼成炉で焼成する際に、トンネル３を通過する処理品の進行方向に対して側方から炉内に雰囲気ガスを供給パイプ５を介して供給するとともに、炉の底部から炉内のガスを排出パイプ６を介して排出する。これにより、処理品から炉の底部に向かって気流が安定的に生じるので、常に新鮮な雰囲気ガスを処理品に供給できる （もっと読む）