【課題】医療廃棄物２０を安全に滅菌する。
【解決手段】医療廃棄物２０を収容する溶解炉１００と、燃料を燃焼することにより、溶解炉１００の内部を、医療廃棄物２０の少なくとも一部が溶解する温度よりも高くかつ医療廃棄物２０の熱分解の温度よりも低い滅菌温度に加熱する加熱部１４０と、溶解炉１００および外部に対して連結および遮断することができ、溶解炉１００の加熱中において、外部と連結した場合に外部から投入された医療廃棄物２０を収容し、溶解炉と連結した場合に収容した医療廃棄物２０を溶解炉１００に投入する投入室１７０と、加熱中の溶解炉１００の内部の気体４２を吸気して、加熱部１４０に導入する気体導入部１８０とを備え、気体導入部１８０は、さらに、加熱中の投入室の内部の気体４４を吸気して、加熱部１４０に導入し、加熱部１４０は、気体導入部１８０により導入された溶解炉１００および投入室１７０の気体を燃料と共に燃焼する。 （もっと読む）

【課題】Ｌｉ系原料を１０３０℃以上の高温で熱処理した場合にも、低融点化合物の流れ落ち現象を生ずることがないＬｉ系原料熱処理用のローラハースキルンを提供する。
【解決手段】Ｌｉ系原料をローラ搬送しながらＳｉＣヒータにより加熱し、１０３０℃以上で熱処理するローラハースキルンであり、ＳｉＣヒータ８をローラ２よりも下側のみに配置する。またＳｉＣヒータ８の下部にＳｉＣ系反射板９を配置し、ローラ間の開口率を５０％以上とすることが好ましい。さらに炉室７の底部に空気供給口１０を設け、また各炉室の上部に排気孔１１を設け、焼成ゾーンを含む各炉室７の内部に、上向きの空気流を形成してＬｉ上記がローラよりも下側に流れることを防止する。 （もっと読む）

【課題】リフロー炉に排気ガスの浄化冷却装置を付設することによって、屋内であっても作業環境に影響を与えない機構とし、さらに浄化冷却後のクリーン排気を炉内に循環させることによって、安定した半田付け処理と装置の効率的な稼働を実現したリフロー炉を提供する。
【解決手段】半田ペーストを塗布した基板を搬送する搬送手段、搬送手段によって通過する基板に熱を付加する加熱炉３、加熱炉３に生じる熱ガスを吸入する吸入口１８、吸入された熱ガスを浄化冷却する冷却装置５を備えたリフロー炉１であって、基板の搬送ラインの加熱炉３の下流側に冷却ゾーン９を配置し、冷却装置５によって冷却されたクリーン１１排気を冷却ゾーン８へ循環させる構成とした。 （もっと読む）

【課題】加熱処理によって排出される熱風に含まれる有機物を高い効率にて分解することができる基板熱処理炉を提供する。
【解決手段】炉体本体部１０の内部に熱風を吹き出すことによりガラス基板Ｗの加熱処理が進行する。炉体本体部１０から排出された熱風は循環経路２０を経由して再び炉体本体部１０に帰還する。その経路途中において、熱風の一部は排気ライン２３に排出される。排気ライン２３には、メタルフィルタに触媒を担持して構成される触媒フィルタ部７１が設けられている。これにより、排気される熱風と触媒との接触効率が高くなり、有機物の分解効率を高めることができる。また、パーティクル状の有機物をも捕集することが可能となり、トータルとしての有機物の分解効率を高いものとすることができる。 （もっと読む）

【課題】熱損失が少なく、しかも安定した焼成温度が得られる循環式の基板焼成炉を提供する。
【解決手段】炉体本体部１０の内部に熱風を吹き出すことによりガラス基板Ｗの焼成処理が進行する。炉体本体部１０から排出された熱排気は循環経路２０を経由して合体モジュール５０に送給される。合体モジュール５０は、同一のハウジング５１内にヒータ５２、触媒フィルタ部５３およびフィルタ部５４をこの順番で連続に配置して構成されている。ヒータ５２によって再加熱された熱風は直ちに触媒フィルタ部５３に流入するため、触媒フィルタ部５３の分解効率を最大限高めることができる。触媒用の無駄なヒータが不要となって熱損失の低減が可能なだけでなく、１つのヒータ５２を温調するだけで所定温度の熱風を得ることができ、炉体本体部１０内の焼成温度を安定させることができる。 （もっと読む）

【課題】原料より発生した反応生成ガスを速やかに排気すると共に、焼成に十分な反応ガスを原料に供給することができ、焼成不良を防ぐことが可能となる連続式焼成炉を提供する。
【解決手段】反応生成ガスが発生する区間において、水平に搬送される匣鉢５内の原料の表面に近接する位置で、下端部が開口するように垂下する複数の吸引ノズル８と、吸引ノズルの上端部が開口して連通する吸引パイプ９とを有する。あるいは、複数の反応ガス供給ノズルと、反応ガス供給ノズルの上端部が開口して連通する反応ガス供給パイプとをさらに有し、反応ガス供給ノズルおよび吸引ノズルは、交互に並べて配置する。 （もっと読む）

【課題】金属溶湯中に含まれる水素または酸化物等の非金属介在物を効率的に除去できる金属溶湯の脱ガスまたは非金属介在物除去を提供する。
【解決手段】本発明の金属溶湯の脱ガスまたは非金属介在物除去装置は、金属溶湯を収容する容体（１０）と、金属溶湯中に含まれる水素または非金属介在物を除去する作用ガスを金属溶湯中で噴出させる噴孔（４２）を有する導気管（４０）と、導気管に該作用ガスを供給するガス供給源と、導気管の噴孔から噴出した作用ガスを金属溶湯中で微細分散させる撹拌手段（５０）と、を備える金属溶湯の脱ガスまたは非金属介在物除去装置であって、金属溶湯の湯面上にできる湯上空間から容体外へ流出する出向気流を許容すると共に容体の外界にある外気が湯上空間へ流入する入向気流を規制する外気規制手段を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】消費電力の増加を抑制すると共に断熱炉内を循環する空気に含まれる昇華物の量を低減させることができる熱処理装置を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明に係る熱処理装置１０は、被処理物Ｗを熱処理する熱処理部２０を有し、この熱処理部２０を通るように内部で空気が循環する断熱炉１１を備え、前記断熱炉１１は、前記熱処理部２０の温度調節のために前記循環する空気Ｃを加熱する発熱部３１ａと、前記熱処理部２０の温度を検出する第一温度検出手段２７と、この第一温度検出手段２７によって検出された温度に基づいて前記発熱部３１ａを制御する発熱部制御手段２８と、前記循環する空気Ｃの一部がその内部を上流側端部から下流側端部へ向けて流通する管路３２と、を具備し、前記発熱部３１ａは、前記管路３２内に収容されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】加熱炉に設置された金属気化用気化室を、クラックを発生させることなく長期に渡って維持する方法を提供する。
【解決手段】加熱炉１に設置された金属気化用気化室２がセラミックスで形成されており、前記気化室内で金属を加熱により気化し、生成した前記金属の気化ガスを、前記気化室２と気化ガス消費装置３とを結ぶ送出配管４を通じて気化ガス消費装置３へ送り出す工程を終えてから加熱炉１を運転停止するまでの間に、前記気化室２にパージガスを供給するための供給配管８と前記送出配管４とからそれぞれ遮断する工程と、前記気化室２と減圧装置５とを結ぶ排出配管６を通じて前記気化室２を真空減圧した後、前記供給配管８を通じて前記気化室２にパージガスを供給する減圧およびパージガス供給工程と、をこの順に、連続して複数回繰り返して行う。 （もっと読む）

【課題】 高分子材料と有価金属を含む複合材から、低コストで有価金属を回収し得る、有価金属の回収装置及び有価金属の回収方法を提供すること。
【解決手段】 複合材を、搬送機構を有する密閉容器からなる熱分解装置３に定量供給し、外気から遮断した状態で加熱溶融することにより溶融体となし、前記溶融体を、水冷により複合固形物とする。高分子材料の熱分解処理により、複合固形物に含まれる有価金属は、処理前よりも濃縮され、これを精錬することで、鉱石を製錬するよりも低コストで有価金属を得ることができる。熱分解装置３には押出機が適用可能で、生成する熱分解ガスを乾燥工程のエネルギー源に利用することができる。 （もっと読む）

【課題】熱処理部を循環する空気の温度に依存することなく、被処理物を熱処理する際に発生する昇華物を酸化分解することができる熱処理装置を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明に係る熱処理装置１０は、被処理物Ｗを熱処理する熱処理部２０と、空気を加熱して循環させる空気調整部３０と、で構成される断熱炉１１を備え、この断熱炉１１は、被処理物Ｗを熱処理する際に発生する昇華物を分解可能な光触媒手段３１を有し、この光触媒手段３１は、光が照射され且つ断熱炉１１内を循環する空気と接触する位置に配置されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】エネルギー効率が高い基板焼成炉の給排気システムを提供する。
【解決手段】炉体１０にて加熱されるガラス基板Ｗからは多量の有機物が発生する。炉体１０の排気口１４からは有機物を含む熱排気が排出され、ファン２１によって循環経路２０に熱風の気流として送り出され、その気流がヒータ２２によって加熱された後に耐熱ＨＥＰＡフィルタ１３によって浄化されて吹き出し口１２から炉体１０の内部空間に再供給される。熱排気の一部は排気管３０に流れ込んで触媒ユニット３１を通過する。触媒ユニット３１では有機物の熱分解と酸化分解とが同時に生じ、排気気体中に含まれる有機物のほとんどが分解され、触媒ユニット３１の入口側温度よりも出口側温度が約２００℃上昇する。高温の排気気体が熱交換器５０に流入して給気気体との熱交換が行われることとなり、エネルギー効率を良好なものとすることができる。 （もっと読む）

【課題】送風機や加熱器の故障を防止する状態で熱処理部の熱処理室内を洗浄することができる熱処理装置を提供する。
【解決手段】熱処理室１１に被熱処理物Ｗが出し入れ可能に収容され、かつ気体導入部１２および気体導出部１３を有する熱処理部１０と、熱処理部１０の気体導入部１２へ熱処理用気体を導入するとともに気体導出部１３から熱処理済みの気体を導出するように構成された気体通路２１Ａを有し、その気体通路２１Ａに、被熱処理物Ｗを熱処理する際に被熱処理物Ｗから発生する昇華物を分解するための触媒３０と、少なくとも触媒３０を加熱する加熱器３１と、送風機３２とが設けられた気体処理部２０Ａと、熱処理部１０の気体導入部１２および気体導出部１３に対し、気体通路２１Ａを着脱可能に連結する連結手（連結用フランジ１４、１５、２５、２６およびボルト・ナット）とを具備する。 （もっと読む）

【課題】送風機や加熱器などの電気機器が故障しても迅速に対処することができる気体処理ユニットを提供する。
【解決手段】熱処理室１１に被熱処理物Ｗが出し入れ可能に収容され、かつ熱処理室１１に共に連通する気体導入部１２および気体導出部１３を有する熱処理ユニット１０に対して付設される気体処理ユニット２０Ａであって、気体導入部１２に第１接続部（１４、２５）を介して着脱可能に連結される導入ダクト２２、および気体導出部１３に第２接続部（１５、２６）を介して着脱可能に連結される導出ダクト２３を有し、気体導入部１２へ熱処理用気体を導入しかつ気体導出部１３から熱処理済みの気体を導出するための気体通路２１Ａと、熱処理済みの気体に含まれる、被熱処理物Ｗから発生した昇華物を分解するための触媒３０と、少なくとも触媒３０を加熱する加熱器３１と、熱処理用気体および熱処理済みの気体を所定方向に導く送風機３２とを具備する。 （もっと読む）

【課題】ファンが収容されているケーシング内において、ファンの回転を妨げるフラックス成分の堆積を防止できるリフロー装置およびフラックスの除去方法を提供する。
【解決手段】ファン５１の近傍には、メインの雰囲気ガスである窒素ガスの導入口とは別に、フラックス除去用の窒素ガスを導入するための窒素導入口をファンの回転軸を支持するベースプレート５３の側近に設け、窒素導入口５６からフラックス成分を液化することを可能とする温度（たとえば１４０℃以上）に加熱した窒素ガスが導入される。これにより、ファン５１の回転軸近傍でのフラックスの固化を防ぎ、フラックス成分の堆積を防止できる。 （もっと読む）

【課題】炉内圧力を安定させることにより被処理物の品質を安定させるとともに、炉の運用の安全性を高めることのできる加熱炉の炉内圧力制御方法を提供する。
【解決手段】加熱炉の排気系に、エゼクター１１と、このエゼクター１１に供給される駆動ガスの流量を調節する排気側マスフローコントローラ１３とを配設するとともに、前記加熱炉に、その内部に連通して炉内圧力を検知する圧力計９を設け、この圧力計９の計測値を用いて排気側マスフローコントローラ１３を制御することにより、該炉内の圧力を所定の値に維持する。 （もっと読む）

【課題】基板とこの基板に取り付けられた部材との温度が所定の温度差以内となるように加熱冷却して、基板、取付け部材の損傷を防止することのできる基板の加熱冷却方法を提供する。
【解決手段】板状の第１部材１２、および第１部材の一方の表面上に設けられ第１部材よりも熱容量の小さい複数の第２部材１４を少なくとも有する第１基板と、第１基板に所定間隔離して対向配置された第２基板１１とを、それぞれ異なる温度となるように加熱冷却する基板の加熱冷却方法であって、第２部材と対向した状態で、第１基板と第２基板との間に所定間隔を置いて第３基板３０を対向配置し、第１部材と第２部材とが所定の温度差以内となるように、第１基板および第２基板を加熱、冷却する。 （もっと読む）

【課題】透明石英ガラスからなる部材が失透するのを抑制することが可能な焼成炉を提供すること。
【解決手段】焼成炉１は、被焼成物を輻射加熱するための赤外線ランプ５と、被焼成物が配置される台９と、赤外線ランプ５と台９との間に配置されて焼成空間Ｓを画成し、透明石英ガラスからなる赤外線透過部材７と、を備えている。焼成空間Ｓには、ガス供給部１７からのガス供給通路１９が接続されている。ガス供給通路１９から焼成空間Ｓ内にガスが供給されると、当該ガスにより、赤外線透過部材７の内周面、すなわち台９側の表面に沿ってガス流Ｆが形成されることとなる。 （もっと読む）

【課題】タール状の付着物による不良発生をなくしたフラットパネル熱処理炉を提供する。
【解決手段】熱処理炉本体１の入口にパネル送り込み手段４を設けたフラットパネル熱処理炉に関するもので、パネル送り込み手段４の上部に所定長さにわたって天井構造体７を設け、その下面とパネル送り込み手段との間隙を例えば１０〜１００ｍｍ程度に狭くすることにより、熱処理炉本体１の入口からの炉内ガスの逆流を防止する。また天井構造体の下面に向かって空気を吹き込むノズル９を設けたり、天井構造体の下面にヒーターを設けたりすれば、より確実な効果が得られる。 （もっと読む）

【課題】開閉扉の密閉性が保たれない場合でも、ガラス基板にパーティクルが付着するのを防止することができるガラス基板用熱処理装置を提供する。
【解決手段】炉体内部に、ヒータを備える加熱室３を設け、この加熱室の基板収納口４に開閉蓋５を配設したガラス基板用熱処理装置において、前記基板収納口の下方には、排気管７が炉体の左右方向に向けて配設されており、この排気管の上面には、吸気用の吸引孔１１穿設しており、この吸引孔を介して加熱室内部の気体や夾雑物を吸引できるようにしている。 （もっと読む）