【課題】 ウエハの表面を非接触にした状態で、このウエハの導電型を判別することが可能なウエハ測定装置および測定方法を提供する。
【解決手段】 一方の電極１１と他方の電極１１とを備え、ウエハ１に各電極１１、１１を接触させた状態でこれらの電極１１、１１間に電圧を印加して、この際に各電極１１、１１間で電流が流れる方向を判別し、ウエハ１の導電型を判別する構成とされたウエハ測定装置１０であって、各電極１１、１１はウエハ１を側方から狭持する構成とされている。 （もっと読む）

【課題】 ヘッドの移動方向を多様に調節することができるガントリー装置を提供する。
【解決手段】 本発明のよるガントリー装置は、互いに並んで離隔配置された一対の第１ガイドと、前記一対の第１ガイドに各々結合されて前記第１ガイドに沿って移動する一対のスライダーと、前記一対のスライダーに結合されて前記スライダーと共に移動する第２ガイドと、前記第２ガイドに結合されて前記第２ガイドに沿って移動するヘッドと、前記スライダー及び前記第２ガイドの間に設けられ前記第２ガイドを前記スライダーの移動方向及び前記ヘッドの移動方向に対して横方向軸線を中心に回動させる回動ユニットとを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 高精度の温度分布データが得られ且つ露光光以外の要因による熱の影響も正確に検知することができる、温度計測用工具、該温度計測用工具を利用して露光方法及び露光装置を提供すること。
【解決手段】 ダミーマスク１０は、レチクルＲと同一の材料、同じ寸法・形状に形成され、露光ビームが直接照射される上面側にカバー１１が形成される。また、ダミーマスク１０の下面側には、カバー１１と対応する部位全体に複数の温度センサ１２が適宜間隔をおいて配置される。各温度センサ１２は、リード線１４を介してダミーマスク１０の下面に配置された通信モジュール１３にそれぞれ接続される。したがって、露光光の直接照射による温度センサ１２自体の温度上昇や温度計測誤差などを回避し、露光シーケンス中やアライメントシーケンス中でも、レチクルＲに生じる温度分布変化を、ダミーマスク１０を介して正確に測定が可能となる。 （もっと読む）

【課題】加工品を加工するために用いる測定されたパラメーターデータの精度を向上させることができる方法および装置を提供することである。
【解決手段】センサ装置１１０であって、センサ１２０、ベース１１０、ならびに少なくとも一個の電子構成部品１３４および電子回路モジュール支持構造１３８を備える電子回路モジュール１３０を備え、前記少なくとも一個の電子構成部品１３４は前記電子回路モジュール支持構造１３８上に支持され、前記電子回路モジュール支持構造１３８は前記ベース１１０と物理的に接触し、前記電子回路モジュール支持構造１３８は前記センサ１２０との間の電気的結合を有する。 （もっと読む）

【課題】 面取り部以外の不純物を薬液中に混入させないようにして面取り部の汚染度合いの分析、評価を精度よく行えるようにする。表面平坦部のすべての範囲について漏れなく薬液を回収して表面平坦部の汚染度合いの分析、評価を精度よく行えるようにする。
【解決手段】半導体ウェーハ１０の表面平坦部１１のうち、面取り部１５との境界領域に接触できる位置に、薬液４０の半径方向位置（薬液中心のウェーハ中心からの距離）が位置決めされ、周方向ωに走査され、不純物を含む薬液４０が回収される。つぎに半導体ウェーハ１０の面取り部１５と境界領域１１ａとの両方に接触できる位置に、薬液４０の半径方向位置が位置決めされ、周方向ωに走査され、不純物を含む薬液４０が回収される。液滴保治具３０は、たとえば半導体ウェーハ１０の周上の所望の開始点から終了点に至るまで周方向に相対回転される。 （もっと読む）

プロセス条件測定デバイスの寸法は製造基板の寸法に近く、操作システムは、生産基板用に用いられる基板キャリアに類似の製造環境を用いて、プロセス条件測定デバイスおよび操作システムを高度に集積化することができる。製造環境をほとんど撹乱せずにプロセス加工条件を測定することができる。人手をほとんど、またはまったく借りずに、プロセス条件測定デバイスからユーザにデータを転送することができる。
（もっと読む）

【課題】固体撮像素子に試験用光を照射する光学系を固体撮像素子へ位置決めするのが容易で、効率の高い試験を行うことができる試験装置を提供する。
【解決手段】光源からの光をピンホールを通じて固体撮像素子の受光面に照射する光学モジュール３５と、固体撮像素子のパッドと接触する接触針を有するプローブカード２０と、試験すべき固体撮像素子のパッドに接触針２１が接触した状態にあるプローブカード２０のもつ開口２０ｈを通じて、光学モジュール３５を検査すべき固体撮像素子に対して所定の位置に移動させるモータ３０，保持アーム３１を有する。 （もっと読む）