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Fターム[4M109EB03]の内容

半導体又は固体装置の封緘、被覆構造と材料 (27,768) | 配合剤(添加剤、充填剤等) (6,091) | 添加剤 (3,696) | 硬化剤(架橋剤) (1,498) | フェノール樹脂系 (634)

Fターム[4M109EB03]に分類される特許

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【課題】信頼性の高い半導体チップ接着用樹脂を提供する。
【解決手段】重合可能な主樹脂成分と、主樹脂成分を自己重合反応させる主硬化剤と、主樹脂成分に付加重合反応する副硬化剤とを含有させ、接着剤12を構成される。この接着剤12を基板13に塗布し、半導体チップ11を貼付し、加熱すると、主樹脂成分の自己重合反応によって形成される三次元網目構造の主鎖に対し、副硬化剤が付加重合する。付加重合による部分がゴム状構造になる第1の温度は、主鎖がゴム状構造になる第2の温度よりも低温なので、第1の温度で弾性率の低下率が急激に大きくなり、半導体チップ11と基板13の間の応力が緩和される。 (もっと読む)


【課題】硬化物における難燃性、耐熱性に優れると共に、極めて低い線膨張係数を達成できる硬化性樹脂組成物、その硬化物、及びこれに用いるリン原子含有フェノール類の製造方法、並びに、該硬化性樹脂組成物を用いたプリント配線基板用樹脂組成物、プリント配線基板、フレキシブル配線基板用樹脂組成物、半導体封止材料用樹脂組成物、及びビルドアップ基板用層間絶縁材料用樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】アルコキシ基を芳香核上の置換基として有する芳香族アルデヒド(a1)、及び、P−H基又はP−OH基を分子構造中に有する有機リン化合物(a2)を反応させ、次いで、得られた反応生成物を、ビス(ヒドロキシフェニレン)スルホン構造を有するフェノール樹脂(a3)と反応させて得られるリン原子含有フェノール類(A)、及びエポキシ樹脂(B)を必須成分とする。 (もっと読む)


【課題】優れた耐熱性を発現させるとともに揮発性成分の含有量が極めて少ない硬化性樹脂を提供し、それら樹脂を硬化剤として含むエポキシ樹脂組成物を封止材料として用いて耐熱性等の信頼性に優れた電子部品装置を実現する。
【解決手段】(a)下式(I-1)で示されるシラン化合物及びその部分縮合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物と、(b)フェノール化合物とを反応させて得られる硬化性樹脂であり、残存揮発性成分の含有量が硬化性樹脂の全重量基準で10重量%以下である樹脂を硬化剤として用いる。


(式中、nは0〜2の数であり、Rは水素原子、又は炭素数1〜18の置換あるいは非置換の炭化水素基であり、Rはハロゲン原子、水酸基、炭素数1〜18の置換又は非置換のオキシ基、アミノ基、又はカルボニルオキシ基であり、R及びRの2以上が結合し環状構造を形成してもよい) (もっと読む)


【課題】耐燃性および流動性に優れた半導体封止用樹脂組成物、およびその硬化物を用いた半導体装置を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂(A)と、硬化剤(B)と、無機充填剤(C)と、を含み、
エポキシ樹脂(A)が、一般式(1)で表される構造を有する化合物(A1)を含み、
【化1】


上記一般式(1)において、Ar1は炭素数6〜14の芳香族炭化水素基であり、Ar2はベンゼン環であり、R1は炭素数1〜6の炭化水素基であり、R2及びR3は水素原子または炭素数1〜6の炭化水素基であり、R4は炭素数1〜3の炭化水素基であり、互いに同じでも異なっていてもよい。aは1〜3の整数であり、bは0〜4の整数であり、cは0〜4の整数であり、dは1〜10の整数であり、eは1〜10の整数であり、d×eは1〜10の範囲である、半導体封止用樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】吸湿時の硬化性、流動性及び耐リフロークラック性に優れるエポキシ樹脂組成物、並びにこのエポキシ樹脂組成物により封止された素子を備えた電子部品装置を提供する。
【解決手段】(A)エポキシ樹脂、(B)フェノール樹脂及び(C)リン原子に少なくとも一つのアルキル基が結合したホスフィン化合物とキノン化合物との付加反応物を必須成分とし、成形品のガラス転移温度が155℃未満であるエポキシ樹脂組成物、並びにこのエポキシ樹脂組成物により封止された素子を備えた電子部品装置。 (もっと読む)


【課題】良好な耐燃性および耐半田性を有し、流動性、硬化性および連続成形性に優れた半導体封止用樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】1又は2以上の成分からなるフェノール樹脂であって、一般式(1)で表される構造単位及び一般式(2)で表される構造単位とを含む重合体からなる成分(A1)を含むフェノール樹脂(A)と、エポキシ樹脂(B)と、無機充填剤(C)と、硬化促進剤(D)と、グリセリントリ脂肪酸エステル(E)と、を含むことを特徴とする半導体封止用樹脂組成物、ならびに、その半導体封止用樹脂組成物の硬化物で半導体素子を封止して得られることを特徴とする半導体装置。 (もっと読む)


【課題】良好な耐燃性および耐半田性を有し、流動性、硬化性および連続成形性に優れた半導体封止用樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】1又は2以上の成分からなるフェノール樹脂であって、一般式(1)で表される構造単位及び一般式(2)で表される構造単位とを含む重合体からなる成分(A1)を含むフェノール樹脂(A)と、エポキシ樹脂(B)と、無機充填剤(C)と、硬化促進剤(D)と、酸化ポリエチレンワックス(E)と、を含むことを特徴とする半導体封止用樹脂組成物、ならびに、その半導体封止用樹脂組成物の硬化物で半導体素子を封止して得られることを特徴とする半導体装置。 (もっと読む)


【課題】ガスバリア性に優れている光半導体素子用封止剤を提供する。
【解決手段】分子内に環状エーテル含有基1個以上有するシリコーン樹脂と、液状のフェノール樹脂とを含有し、前記シリコーン樹脂は、平均組成式が下記一般式(1)で表される樹脂を含み、かつ下記式(a)より求められるフェニル基の含有比率が15〜60モル%である、光半導体素子用封止剤。
【化1】


一般式(1)中、a、b及びcは、それぞれa/(a+b+c)=0〜0.3、b/(a+b+c)=0.5〜0.9、及びc/(a+b+c)=0.1〜0.4を満たし、R1〜R6は、少なくとも1個が環状エーテル含有基及び/またはフェニル基を表し、前記環状エーテル含有基及びフェニル基以外のR〜Rは、直鎖状若しくは分岐状の炭素数1〜8の炭化水素基又は直鎖状若しくは分岐状の炭素数1〜8の炭化水素基のフッ化物基を表す。R〜Rは、同一であってもよく、異なっていてもよい。
フェニル基の含有比率(モル%)=(平均組成式が一般式(1)で表される樹脂の1分子あたりに含まれるフェニル基の平均個数×フェニル基の分子量/平均組成式が一般式(1)で表される樹脂成分の平均分子量)×100 ・・・式(a) (もっと読む)


【課題】半導体素子や基材と剥離が生じず、真空下に置かれても発泡しない高信頼性なエポキシ樹脂組成物及び半導体装置の提供。
【解決手段】(A)エポキシ樹脂:100質量部、(B)アミン系硬化剤:[(A)成分中のエポキシ基のモル量/(B)成分中のエポキシ基と反応性を有する基のモル量]が0.7〜1.2となる量、(C)平均粒径が0.1〜2μmかつ最大粒径が24μm以下の無機充填剤:50〜300質量部、及び(D)平均粒径が0.1〜10μmかつ最大粒径が24μm以下であり、シリコーンゴム球状微粒子にポリオルガノシルセスキオキサン樹脂を被覆してなるシリコーン微粒子:1〜20質量部を必須成分とするエポキシ樹脂組成物であって、100〜200Paの減圧下で100℃、30分加熱した後の減少量が3質量%以下であり、表面張力が25mN/m以上であることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】一括モールド法により形成され、格子状に並べられた外部端子を有する半導体装置の信頼性を向上させることのできる技術を提供する。
【解決手段】配線基板2の下面2y側を被覆する保護膜11の一部を、4つの角部を残して四角形状の各辺に沿って除去し、さらに、保護膜11が除去された部分では、最下層の配線層2gも除去する。これにより、配線基板2がマトリックス状に区画形成された多数個取り配線基板および樹脂封止体5を切断し、1個1個の半導体装置1に切り分ける際に生じる配線層2gと他層の配線層、例えば配線層2eとの短絡を防ぐことができる。 (もっと読む)


【課題】 優れたレーザーマーキング性と半田耐熱性を有するエポキシ樹脂組成物と、それを用いて封止したことによりレーザーマーキング視認性に優れる半導体装置を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂(A)、硬化剤(B)および無機充填剤(C)を主成分とするエポキシ樹脂組成物において、DBP吸収量が100cm3/100g以上であるカーボンブラック(D)を含有し、かつ前記無機充填剤(C)が平均粒径0.1〜10μmの破砕シリカ(c1)または平均粒径1〜100nmの極小微細球状シリカ(c2)の少なくとも一方を含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物及び該樹脂組成物で封止してなる樹脂封止型半導体装置。 (もっと読む)


【課題】基板に搭載された半導体素子を圧縮成形で好適に封止することができる粒子状の半導体封止用エポキシ樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】基板に搭載された半導体素子を圧縮成形で封止するために用いられる粒子状の半導体封止用エポキシ樹脂組成物であって、エポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤、無機充填材、融点が70℃以下の脂肪酸、及び沸点が200℃以上のシランカップリング剤を含有し、粒子径分布が100μm〜3mmの範囲内に85質量%以上を占めることを特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂組成物を用いる。 (もっと読む)


【課題】優れたレーザーマーキング性を有する半導体封止用エポキシ樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】(A)エポキシ樹脂、(B)フェノール樹脂系硬化剤、(C)無機充填材、(D)カーボンブラックを含み、前記カーボンブラック(D)が、比表面積が70m/g以下のカーボンブラック(d1)と比表面積が100m/g以上のカーボンブラック(d2)とを含むことを特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂組成物、ならびに、この半導体封止用エポキシ樹脂組成物を用いて半導体素子を封止してなることを特徴とする半導体装置。 (もっと読む)


【課題】難燃性、成形性、耐リフロー性、耐湿性及び高温放置特性等の信頼性に優れ、VLSIの封止用に好適な封止用エポキシ樹脂成形材料を提供する。
【解決手段】(A)下記式(I)で示されるエポキシ樹脂、(B)硬化剤、及び(F)末端が炭化水素基、水酸基、アルコキシ基のいずれかであり、エポキシ当量が500〜4000である珪素含有重合物からなる封止用エポキシ樹脂成形材料。


(一般式(I)中のR、Rは、置換又は非置換の炭素数1〜12の、炭化水素基及びアルコキシ基から選ばれる。nは0〜4の整数。mは0〜6の整数。) (もっと読む)


【課題】フィルム状にしたときの埋込性に十分に優れるとともに、接続信頼性に優れる半導体装置の作製を可能なアンダーフィル形成用接着剤組成物を提供すること。
【解決手段】少なくとも、(A)熱可塑性樹脂と、(B)熱硬化性樹脂と、(C)潜在性硬化剤と、(D)無機フィラーと、を含有し、上記(A)熱可塑性樹脂がビスフェノールA、F共重合型フェノキシ樹脂を含む、アンダーフィル形成用接着剤組成物。 (もっと読む)


【課題】室温での長期保管によっても流動性を保持し、封止成形時において良好な流動性及び硬化性を有し、かつ低吸湿性、低応力性、金属系部材との密着性のバランスに優れ、無鉛半田に対応する高温の半田処理によっても剥離やクラックが発生しない良好な耐半田性を有する半導体封止用エポキシ樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】エポキシ樹脂(A)と、フェノール樹脂系硬化剤(B)と、無機充填材(C)と、ホスホニウムチオシアネート(D)と、カップリング剤と、を含み、前記カップリング剤がメルカプト基を有するシランカップリング剤(E)及び/又は2級アミノ基を有するシランカップリング剤(F)を含むことを特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂組成物、並びにその硬化物により半導体素子を封止してなることを特徴とする半導体装置。 (もっと読む)


【課題】成型性および耐熱性に優れると共に、低弾性な硬化物を与えるエポキシ樹脂組成物及び該組成物の硬化物で成型した半導体装置を提供する。
【解決手段】下記成分を必須成分としてなるエポキシ樹脂組成物。(A)下記式(1)で表されるシロキサン単位を含むシリコーン変性エポキシ樹脂


(Rは、互いに独立に、炭素数1〜10の1価の炭化水素基であり、nは5〜100の整数である)(B)硬化剤(C)直鎖状ジオルガノポリシロキサン単位−[−(R)Si(R)−O−]−を有するオルガノポリシロキサン(A)成分及び(B)成分の合計量100質量部に対して3〜50質量部(E)硬化促進剤(A)成分及び(B)成分の合計量100質量部に対して0.01〜10質量部(R,Rは、OH、炭素数1〜3のアルキル基、シクロヘキシル基、ビニル基、フェニル基、アリル基のいずれかであり、mは5〜70の整数である) (もっと読む)


【課題】PoP構造の半導体装置において、半導体パッケージ反りを低減することにより半導体装置の組立て歩留まり、接続信頼性に優れる半導体装置を提供することである。
【解決手段】コア基板を有するプリント配線板に半導体素子が搭載され、前記半導体素子の上部及び/又は側面が封止材に覆われた半導体パッケージであって、前記半導体素子の厚さと、前記封止材の厚さとの比が0.4以上、かつ、半導体素子上側の封止材の厚さが250μm以下であり、前記コア基板の厚さと、前記封止材の厚さとの比が、0.12〜0.4であり、前記コア基板の厚さが100μm以下であり、前記コア基板の常温での弾性率が26GPa以上であることを特徴とする半導体パッケージ。 (もっと読む)


【課題】過酷な環境下で使用されてもクラック又は剥離が生じ難い光半導体装置用封止剤を提供する。
【解決手段】本発明の光半導体装置用封止剤は、環状エーテル含有基及びフェニル基を有するシリコーン樹脂と、単官能のカルボン酸、フェノール、リン酸及びモノアルキルアミノ基又はジアルキルアミノ基を1つ有するアミン化合物からなる群から選択された少なくとも1種の成分と、上記環状エーテル含有基と反応可能な熱硬化剤とを含む。上記シリコーン樹脂は、平均組成式が下記一般式(1)で表される樹脂を含み、かつフェニル基の含有比率が15〜60モル%である。
【化1】


一般式(1)中、a、b及びcは、a/(a+b+c)=0〜0.3、b/(a+b+c)=0.5〜0.9、及びc/(a+b+c)=0.1〜0.4を満たし、R1〜R6は、少なくとも1個が環状エーテル含有基又はフェニル基を表す。 (もっと読む)


【課題】良好な耐燃性および耐半田性を有し、流動性、硬化性および連続成形性に優れた半導体封止用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)および特定の構造単位を含み、少なくとも一方の末端に、少なくとも1つの炭素数1〜3のアルキル基を有する芳香族基を有するフェノール樹脂と、エポキシ樹脂と、無機充填剤と、酸化ポリエチレンワックスと、を含む半導体封止用樹脂組成物。


(R1およびR2は、互いに独立して、水素原子、または炭素数1〜6の炭化水素基であり、R3は、互いに独立して、炭素数1〜6の炭化水素基であり、aは、0〜3の整数である) (もっと読む)


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