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Fターム[4M118CA32]の内容

固体撮像素子 (108,909) | 受光部構造 (13,175) | 保護構造 (2,346) | 保護膜 (2,225)

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半導体集積回路を実装可能な基板1の2以上の入力ポートに、外部から入力
された光信号を電気信号に変換して出力ポートに出力可能な受光素子2aが実装され、かつ、それら2以上の受光素子2aは高さが一定に揃えられており、上記基板1の出力ポートには実装されている半導体集積回路の電気信号入力ポートが接続可能である。 (もっと読む)


異なる画素内コンデンサ及び周辺コンデンサを含むCMOS及びCCD撮像装置とその製造方法を開示する。周辺回路において使用されるコンデンサと、画素自体の中で使用されるコンデンサの必要条件は異なる。2つの誘電体層を含むデュアルスタックコンデンサを提供することで、漏れが低減されると共に、静電容量を大きくすることができる。一回のマスキング工程を行って、1つの領域にはデュアル誘電体コンデンサを、そして第2の領域にはシングル誘電体コンデンサを存在させる。領域毎に異なる誘電体層が提供されるが、電極間絶縁体は両領域において単一の誘電体を含む。
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本発明は、放射線感受面領域(3)を持つソリッドステート・イメージセンサ(2)と、ソリッドステート・センサ(2)の上に配置され、横に散乱された放射線に対するシールドを形成し、第1の放射線不透明領域及び前記第1の領域内に配置された第2の放射線透明領域を持つディスク形状体を有し、前記第2の領域のセンサ(2)に近い面がセンサ(2)から離れた面より小さい光学素子(4)とを収容するハウジング(1)を有するカメラモジュール(10)に関する。本発明によると、光学素子(4)は、透明材料の少なくとも1つの板を有し、前記板の両側は開口を設けられた放射線不透明層(41,42)で覆われ、センサ(2)に近い層(41)の開口は、センサ(2)から離れて配置された層(42)の開口より小さな面を持ち、前記第1及び第2の領域が、少なくとも1つの板(40)の不透明層(41,42)の間に挟まれた部分及び前記板の開口により夫々規定される。このようなモジュール(10)は特にウエハスケール製造に適している。本発明は、このようなモジュール(10)を製造する方法をも含む。
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センサに関連する電子回路を含む、赤外線検出ピクセルのための単層を有する熱センサ構造。電子回路は小さい範囲に置かれ、そのため、ピクセル用電子回路が無い層と比べても、ピクセルが配置される範囲に対しての電子回路の影響は少ない。その層は、シリコンに対してのアクセス・ビアがあるため、基板に対しての付着が構造的に制限され、それにより基板に対して熱的に隔離される。更に、これは、単層の下の基板からシリコンが除去されて形成されたピットにより隔離される。熱センサは、多数のピクセルを含むアレイを有することができ、ピクセルおよび電子回路のための単層を有する。

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最適化されたカラーフィルタアレイが、一つまたはそれ以上のダマシン層の、内部、上、または下に形成される。カラーフィルタアレイは、その下にあるそれぞれのフォトダイオードに入射する光の特定の波長の強度を最大化するために、装置の層の組合せられた光学特性を最適化するように構成されるフィルタ領域を含んでいる。

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【課題】湿気の浸透に影響されにくい放射線検出器を提供する。
【解決手段】放射線検出器は、電極構造(19,4,35)と、電極構造の上に並べられた平面化層(101)と、平面化層を覆う保護堆積(103,104,105)とを有する。平面化層は、電極構造が配置された基板の上の電極構造の段の間の重大な差を平らにする。結果として、保護堆積のクラック、弱い所及び欠陥は大体において回避される。平面化層は、電極構造全体を十分に覆っているので、実際には、保護堆積の欠陥、特にクラックの全ての原因は回避される。

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【課題】フレア防止用の反射防止膜のあるエリアと撮像エリアとの境界で、フォトダイオードとマイクロレンズ間の距離に段差に起因する感度むらを解消し、低シェーディングの固体撮像装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】配線エリア2上に遮光膜(フレア防止用の反射防止膜)4を形成し、撮像エリア2上にパターニング可能な材料によって透明膜10を形成し、透明膜10の上にマイクロレンズが形成される透明膜8形成し、透明膜10の上面と遮光膜4の上面とを面一に形成する。 (もっと読む)


本発明は、X線放射を電気信号に変換するためのセンサ要素(3,4)のアレイを有するフラットパネルX線検出器であって、前記センサ要素は、前記検出器が電圧電源に接続される場合に、リーク電流が生じる少なくとも1つの側壁を有する少なくとも1つの半導体ダイオードを有する、フラットパネルX線検出器に関する。本発明の目的はリーク電流を減少させることである。この目的は、リーク電流を減少させるために前記側壁(10)に電界の影響を及ぼすために適合された少なくとも1つの影響電極(2,14)を備えることにより達成される。

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赤色光、緑色光および青色光用の2画素検出方式を含むCMOS結像デバイス。1つの画素が、赤色光および青色光を検出し、別の画素が緑色光を検出する。赤色および青色の検出は波長に基づき、またこのデバイスは、赤色/青色画素中で青色光の検出が浅い基板深さで行われ、赤色光の検出がより深い基板深さで行われるような構造になっている。この画素アレイは、赤色/青色画素が緑色画素に隣接し、赤色/青色画素と緑色画素とが交互に配列されるような構造になっている。本発明は、このような結像アレイおよび画素を形成する方法にも関する。
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【課題】蛍光体層と防湿保護層との層間剥離を防止する。
【解決手段】少なくとも、放射線透過性基板11上に、放射線を光に変換する、ハロゲン化アルカリと発光付活剤からなる蛍光体層12、および防湿保護層を積層してなる放射線変換基板において、防湿保護層が、シラン系化合物をモノマーとする第一のプラズマ重合膜13と、含フッ素化合物不飽和炭化水素をモノマーとする第二のプラズマ重合膜14とから形成されている。この放射線変換基板と、光電変換素子を有するセンサ基板とを貼り合わせて放射線撮影装置を構成する。 (もっと読む)


【課題】 シンチレータパネル100の電気化学的腐食を防止する。
【解決手段】 シンチレータパネル100に、放射線に基づく光を発生する蛍光体層104と、蛍光体層104を支持するための基材101と、蛍光体層104で変換された光を反射する反射層103と、基材101と反射層103との間に形成された絶縁層102と、反射層103と蛍光体層104との間に形成された接続防止層106と、蛍光体104等を外気から保護する保護層105とを備える。 (もっと読む)


【課題】 多数個の補色系画素が画素ずらし配置された固体撮像素子を利用した撮像装置であって、画素加算によって増感したときでも解像度の低下、偽色の発生および色のS/N比の低下を抑制することが容易な撮像装置は、未だ開発されていない。
【解決手段】 緑色画素とマゼンタ色画素とを交互に繰り返し配置した画素行と、シアン色画素と黄色画素とを交互に繰り返し配置した画素行とを、交互に繰り返し形成し、前記緑色画素と前記シアン色画素または前記黄色画素とを対象に画素加算を行うと共に、前記マゼンタ色画素と前記黄色画素または前記シアン色画素とを対象に画素加算を行う。 (もっと読む)


【課題】 パッシベーション膜を備えた従来のCCD型またはMOS型の固体撮像素子を利用した撮像機器では、再生画像に色むらが生じ易い。
【解決手段】 CCD型またはMOS型の固体撮像素子におけるパッシベーション膜の形状を、光電変換素子それぞれの上方に開口部を1つずつ有する形状にする。 (もっと読む)


【課題】 最適な蓄積時間を素早く見つける駆動方法を提供する。
【解決手段】 複数の画素を有するMOS型センサにおいて、複数の画素の全ての画素を同時にリセットした後、前記複数の画素から信号を順に出力し、前記リセットをした時から、前記複数の画素が、飽和した信号を出力する直前までの期間を、蓄積時間とすることを特徴とするMOS型センサの駆動方法が提供される。 (もっと読む)


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