【課題】共通データバスを共有する複数のローカルメモリユニットが重複してデータを転送すること、あるいは、複数のローカルメモリユニットに対して重複してデータを転送することを抑制した半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】半導体記憶装置は、複数のメモリセルを含む複数のローカルメモリユニットＬＭＵ＜０＞〜ＬＭＵ＜７＞を備える。共通データバスＤＢは、複数のローカルメモリユニットに共有され、複数のローカルメモリユニットからデータを転送し、あるいは、複数のローカルメモリユニットへデータを転送する。タイミングコントローラＴ／Ｃはローカルメモリユニットの単位で配置するのではなく、インターリーブ動作を行なう単位（ローカルメモリユニットＬＭＵ＜０＞〜ＬＭＵ＜７＞のグループ）に対して1つ配置する。これにより読出しデータまたは書込みデータは、共通データバスＤＢにおいて衝突しない。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気異方性を有する強磁性材料を用いて作製した磁気抵抗効果素子において、ビット情報に対応する磁化の平行状態及び反平行状態の熱安定性が不均衡になり、保存している情報により記録保持時間が異なる状態を改善する。
【解決手段】磁気抵抗効果素子を構成する参照層１０６と記録層１０７の面積を異ならせることにより、保存している情報に応じた記録保持時間の差を補正する。 （もっと読む）

【課題】書き込み時に固定層が安定化された、垂直磁化型トンネル磁気抵抗効果素子を用いたスピントルク磁化反転応用の磁気メモリを提供する。
【解決手段】膜面に垂直な方向の磁化を有する自由層６２と、膜面に垂直な一方向に磁化が固定された固定層６４と、固定層と自由層の間に形成された非磁性障壁層６３を有する磁気抵抗効果素子において、互いに隣接したメモリセルの固定層を一列方向に接続する。 （もっと読む）

【課題】簡便な半導体装置の評価試験を実現する。
【解決手段】半導体装置１０は、それぞれ内部信号ＭＡを生成する第１及び第２のコアチップＣＣ０，ＣＣ１を備え、第１及び第２のコアチップＣＣ０，ＣＣ１のそれぞれに、貫通電極を介して他方のコアチップとスパイラル接続された第２及び第３のノードＮ_２，Ｎ_３を設け、この第２及び第３のノードＮ_２，Ｎ_３を介して、観測対象の内部信号ＭＡを外部に出力することを技術思想とするものである。こうして出力される複数の内部信号ＭＡを外部のテスター等によって観測することで、各コアチップの評価試験を並列に行える。 （もっと読む）

【課題】ビアの形成が容易で抵抗が低い集積回路装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】相互に平行に配列された複数本の配線１４ａ、１４ｂと、各配線に接続されたビア１６とを備える。配線におけるビアが接続された部分には、配列の方向に延出した凸部３１が形成されており、配線における凸部が形成された部分から離隔した部分には、配列の方向に後退した凹部３２が形成されている。隣り合う２本の配線において、一方の配線に形成された凸部と他方の配線に形成された凹部とは相互に対向している。各配線において、凹部が形成された部分はその両側の部分から切込３３で分断されており、凸部が形成された部分からも分断されている。 （もっと読む）

【課題】半選択状態になった磁気記憶素子のデータの誤反転を抑制することにより信頼性の高い書き込み動作を行うことができる磁気記憶素子、およびこれを用いた磁気記憶装置を提供する。
【解決手段】磁化容易軸９１と磁化困難軸９２とを有する記録層３は、平面視においてすべての領域が第１導電層ＷＴまたは第２導電層ＢＬの少なくとも一方と重なる。磁化容易軸９１に沿い、記録層３と平面視において重なる寸法が最大となる第１の線分の第１の端点ＴＰ，ＢＰは、第２導電層ＢＬと平面視において重ならない。上記第１の線分の中点を通り、平面視において第１の線分に直交し、記録層３と平面視において重なる第２の線分の１対の端点である第２の端点ＬＰ，ＲＰのうち少なくとも一方は、第１導電層ＷＴと平面視において重ならない。 （もっと読む）

【課題】側壁マスクプロセスにより同時に異なる幅を持つパターンを形成する。
【解決手段】実施形態に係わる半導体装置の製造方法は、被加工材１２上に第１及び第２の芯材を形成する工程と、第１及び第２の芯材の上面及び側面を覆う第１及び第２の層１６ａ，１６ｂを有する被覆材を形成する工程と、第１の芯材を覆う第２の層１６ｂを除去する工程と、被覆材をエッチングすることにより、第１の芯材の側面に第１の層１６ａを有する第１の側壁マスクを形成し、第２の芯材の側面に第１及び第２の層１６ａ，１６ｂを有する第２の側壁マスクを形成する工程と、第１及び第２の芯材を除去する工程と、第１及び第２の側壁マスクをマスクとして被加工材１２をエッチングすることにより、異なる幅を持つ第１及び第２のパターンを同時に形成する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】メモリセルの平面視における面積を増加せずに、磁気抵抗素子の情報の読み書きに用いる電流値を低減しながら、読み書きエラーや磁気抵抗素子間の短絡が抑制された集積回路を有する半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体基板の主表面上に配置された、電流の流れる向きに応じて磁化状態を変化させることが可能な、スピントルク書き込み方式の面内磁化型の磁気抵抗素子ＭＲＤと、磁気抵抗素子ＭＲＤと電気的に接続され、主表面に沿った方向に向けて延びる第１配線ＢＬとを備える。上記磁気抵抗素子ＭＲＤは平面視におけるアスペクト比が１以外の値である。上記磁気抵抗素子ＭＲＤとスイッチング素子とが電気的に接続されたメモリセルＭＣが複数並んだメモリセル領域において、平面視における磁気抵抗素子ＭＲＤの長手方向に関して、隣接する複数の磁気抵抗素子ＭＲＤが、上記長手方向に沿って延在する同一直線上に乗らないように配置される。 （もっと読む）

【課題】一端がビット線に接続された磁気抵抗素子１と、一端が磁気抵抗素子１の他端に接続され、ゲートがワード線に接続され、他端がソース線に接続された選択トランジスタ２、３とで構成されたメモリセル５よりなるスピン注入方式の磁気ランダムアクセスメモリにおいて、設計工数や製造コストが増大せず、特に小容量サイズのメモリではチップ面積の増加を最小限に抑え、ＭＴＪ素子に抵抗状態を変化させるのに充分な電流をながせる磁気ランダムアクセスメモリを提供する。
【解決手段】選択トランジスタがＮチャンネルＭＯＳトランジスタ２とＰチャンネルＭＯＳトランジスタ３とを並列接続され、ゲートにそれぞれワード線と反転ワード線とが接続された構成であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】電源電圧の変動に起因した書込電流の変動を抑制する。
【解決手段】ドライブ回路２５において、第１のＭＯＳトランジスタＰＭは、第１および第２の電源ノード２８，２９間にデータ書込線ＤＬと直列に設けられる。第２のＭＯＳトランジスタＰＳは、第１のＭＯＳトランジスタＰＭと並列に設けられる。第３および第４のＭＯＳトランジスタＰａ，Ｐｂは、互いに同じ電流電圧特性を有する。第１の素子Ｅａは、第１および第２の電源ノード２８，２９間に第３のＭＯＳトランジスタＰａと直列に接続される。第２の素子Ｅｂは、第１および第２の電源ノード２８，２９間に第４のＭＯＳトランジスタＰｂと直列に接続され、第１の素子Ｅａの電流電圧特性曲線と交差する電流電圧特性を有する。比較器３０は、第１の素子Ｅａにかかる電圧と第２の素子Ｅｂにかかる電圧とを比較し、比較結果に応じて第２のＭＯＳトランジスタＰＳをオンまたはオフにする。 （もっと読む）

【課題】書き込み可能回数を増加させることを可能にする、記憶装置を提供する。
【解決手段】磁性体の磁化状態により情報を記憶する記憶層と、この記憶層に対してトンネル絶縁層を介して配置された、磁化の向きが固定された磁化固定層とを含み、記憶層及び磁化固定層の積層方向に書き込み電流を流すことにより、記憶層の磁化の向きが変化して、記憶層に情報が記憶される記憶素子２と、この記憶素子２がアレイ状に配置されて構成され、かつ、複数のセルブロック５ａ，５ｂに分割され、セルブロック５ａ，５ｂ毎に記憶素子２の記憶層の熱安定性が異なる値を持つ、セルアレイ５とを含む記憶装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】メモリセルのトランジスタの配置効率が高い不揮発性半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】このＭＲＡＭでは、各メモリセルＭＣのアクセストランジスタを２つのトランジスタＱＡ，ＱＢに分割し、トランジスタＱＡ，ＱＢのゲートをそれぞれワード線ＷＬＡ，ＷＬＢに接続し、奇数番のメモリブロックＭＢのワード線ＷＬＡ，ＷＬＢを主ワード線ＭＷＬＡに接続し、偶数番のメモリブロックＭＢのワード線ＷＬＡ，ＷＬＢを主ワード線ＭＷＬＢに接続する。したがって、メモリセルＭＣのトランジスタの配置効率を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】下層のハード層の面内ばらつきに影響されず初期化可能なＭＲＡＭを提供する。
【解決手段】ＭＲＡＭは、強磁性の磁気記録層１０と、磁化が固定された強磁性の磁化固定層３０と、磁気記録層１０と磁化固定層３０との間に設けられた非磁性のスペーサ層２０と磁気記録層１０の両端部の上部又は下部に設けられた導電層１４ａ、１４ｂとを具備する。磁気記録層１０は、磁化が反転可能であり、スペーサ層２０を介して磁化固定層３０に接合される磁化反転領域１３と、第１方向の磁化を有し、磁化反転領域１３と平行に設けられた第１磁化領域１１ａと、第２方向の磁化を有し、磁化反転領域１３と平行に設けられた第２磁化領域１１ｂと、磁化反転領域１３及び第１磁化領域１１ａと所定の傾斜角度φを成して結合する第１傾斜領域１２ａと、磁化反転領域１３及び第２磁化領域１１ｂと傾斜角度φを成して結合する第２傾斜領域１２ｂとを備える。 （もっと読む）

【課題】上面にストラップ配線が形成された絶縁膜と、この絶縁膜の下面に形成された配線と間で剥離が生じることが抑制された半導体装置および半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る半導体装置は、半導体基板ＳＳと、半導体基板ＳＳ上に形成され、周辺配線Ｐ１および配線Ｌ２が形成された配線層ＬＬ１，ＬＬ２と、配線層ＬＬ２に形成され、配線Ｌ３を含む配線層ＬＬ３と、配線層ＬＬ３上に形成され、磁気記憶素子ＭＲを含む配線層ＬＬ４とを備え、配線Ｌ１，Ｌ２上に形成された拡散防止膜ＮＦ１，ＮＦ２は、ＳｉＣＮ膜またはＳｉＣ膜から形成され、配線Ｌ３上に形成された拡散防止膜ＮＦ３は、ＳｉＮから形成される。 （もっと読む）

【課題】外部からの磁場を遮蔽する磁気シールド効果が高い半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体基板ＳＵＢの主表面上に形成されたスイッチング素子ＴＲを覆うように形成された層間絶縁膜ＩＩＩ１と、平板状の引出配線ＬＥＬと、引出配線ＬＥＬとスイッチング素子ＴＲとを接続する接続配線ＩＣＬと、磁化の向きが可変とされた磁化自由層ＭＦＬを含み、引出配線ＬＥＬ上に形成された磁気抵抗素子ＴＭＲとを備える。磁化自由層ＭＦＬの磁化状態を変化させることが可能な配線ＤＬと配線ＢＬとを備えている。磁気抵抗素子ＴＭＲが複数並んだメモリセル領域において、磁気抵抗素子ＴＭＲの上部に配置された第１の高透磁率膜ＣＬＡＤ２が、上記メモリセル領域から、メモリセル領域以外の領域である周辺領域にまで延在している。 （もっと読む）

【課題】磁気メモリ素子に記憶された情報を不正な手段で読み出すことを困難にして、磁気メモリ素子に記憶された情報が漏洩することを抑制できる半導体パッケージを提供すること。
【解決手段】磁気を加えることにより情報を記憶するメモリセル１１を有するダイ１０を内部に備える半導体パッケージ１であって、パッケージ本体２０の内部に配置され、メモリセル１１の磁気メモリ素子を磁化可能な磁界ＭＦ１を少なくともメモリセル１１が位置する空間に発生させる磁界源４１と、ダイ１０の基板面１０Ａを覆って配置され、メモリセル１１に加わる磁界ＭＦ１を減衰させる磁気シールド材４２と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＭＲＡＭを含む半導体装置において、ＭＲＡＭの特性を向上することができる技術を提供する。
【解決手段】配線Ｌ３およびデジット配線ＤＬを形成した層間絶縁膜ＩＬ３の表面に対してプラズマ処理を実施する。まず、半導体基板１Ｓをチャンバ内に搬入し、窒素を含有する分子（アンモニアガス）と窒素を含有しない不活性分子（水素ガス、ヘリウム、アルゴン）とからなる混合ガスをチャンバ内に導入する。このとき、窒素を含有する分子の流量よりも窒素を含有しない不活性分子の流量が多い条件で、混合ガスを導入し、混合ガスをプラズマ化してプラズマ処理を実施する。 （もっと読む）

【課題】情報保存装置を提供する。
【解決手段】基板、基板上に垂直に配列された複数のナノワイヤを備え、複数のナノワイヤそれぞれは、情報を保存するための複数のドメインを有するメモリセルアレイ部、基板上に形成され、複数のナノワイヤのうち少なくとも一つを選択するナノワイヤ選択部、基板上に形成され、複数のナノワイヤのうち少なくとも一つに対してドメイン移動動作を制御するドメイン移動制御部、及び基板上に形成され、複数のナノワイヤのうち少なくとも一つに対する読み取り動作及び書き込み動作のうち少なくとも一つを制御する読み取り／書き込み制御部を備えるメモリセルである。 （もっと読む）

【課題】正確に書込データを選択メモリセルに書込むことのできる磁気メモリ装置を提供する。
【解決手段】メモリセルに書込み電流を伝達する書込電流線（ＢＬ０、ＢＬ１）と平行にかつ異なる配線層に、制御信号を転送する分割構造の制御信号線（２１０ｌ、２１１ａ
、２１１ｂ）を配置する。電流ドライブ回路が各書込み電流線に対応して配置されて、制御信号線上の制御信号と書込データとに従って対応の書込電流線に電流を流す。 （もっと読む）

【課題】内部回路の動作パラメータなどの設定を行うデータを長期にわたって安定に供給する。
【解決手段】第１の動作モード（ＰＲＯＭ）時には、不揮発性メモリセルに対し非破壊的に書換え可能な態様でデータを書込み、第２の動作モード（ＯＴＰ）時には不揮発性メモリセルに対し、破壊的に書換え不可能な態様でデータを書込む。この不揮発性メモリセルは、記憶素子として、可変磁気抵抗素子を有し、可変磁気抵抗素子の抵抗値に応じて情報を不揮発的に記憶する。 （もっと読む）