【課題】低コストのパルス電子ビーム発生装置を提供する。
【解決手段】パルス電圧が印加される一次コイル、及び、この一次コイルとコアを共有する二次コイルを備え、樹脂モールドされ、大気側に設置された高圧パルス電圧発生部と、前記高圧パルス電圧発生部の前記二次コイルに電気的に接続されたエミッターと、前記エミッターから電子ビームを引き出すアノードと、前記エミッターと前記アノードとの間に位置し、前記エミッターに電気的に接続されるとともに前記エミッターから引き出した電子ビームを収束するウエネルトと、前記エミッター、前記ウエネルト、及び、前記アノードを真空状態の内部に収容する真空容器と、を備えたことを特徴とするパルス電子ビーム発生装置。 （もっと読む）

【課題】透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）、走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、集束イオン・ビーム（ＦＩＢ）システムなどの集束粒子ビーム・システム用の荷電粒子源を提供すること。
【解決手段】この源は、荷電粒子システムの軸を中心とすることができる小さな領域内にある独立してアドレス指定可能な多数の放出器を使用する。１つのチップから放出させ、または２つ以上のチップから同時に放出させることを可能にするため、これらの放出器は全て、個別に制御することができる。１つの放出器だけが活動化されるモードは高輝度に対応し、複数の放出器が同時に活動化されるモードは、高い角強度およびより低い輝度を提供する。単一の放出器を逐次的に使用することによって源の寿命を延ばすことができる。全ての放出器に対する機械／電気組合せアラインメント手順が記載される。 （もっと読む）

【課題】磁場界浸型Cold-FE電子銃において、長時間の観察においても電子銃や電子光学系の再調整の必要が無く、効率のよい観察を可能とする。
【解決手段】永久磁石を備えた磁路を持ち収束作用を有する磁石レンズ１２０と電子源１０１を備える電子銃１の周辺または内部にゲッターポンプ１６aを備えることで電源を必要とする真空ポンプの設置を不要とし、電子銃１内部の真空度を高く維持する事により、電子源１０１を清浄化しプローブ電流の回復機能を持たせ、電子光学系の再調整を不要とする。 （もっと読む）

【課題】本発明はエミッタアレイを用いた電子プローブ装置に関し、プローブの径を保持したままでプローブ電流を増加させる電子プローブ装置を提供することを目的としている。
【解決手段】リング状に並べられたＦＥエミッタアレイ１と、該ＦＥエミッタアレイ１のビームを回折面に集束させるためのレンズ２と、回折面に配置された絞り３と、該絞り３の絞り面の縮小像を試料６に照射させるための光学系５とからなり、装置のプローブ径を保ったままでプローブ電流値を増大させるように構成される。 （もっと読む）

【課題】Ｗ（３１０）面からの放出電流の減衰の仕方の特徴を用いて、電界放出型電子源をより安定して使う方法の開示を目的とする。
【課題手段】本発明では、タングステンの＜３１０＞単結晶からなる電界放出電子源と、当該電子源が配置される真空室と、前記真空室を排気する排気系と、前記電子源と接続され、電流を流して前記電子源を加熱するフィラメントと、当該フィラメントに電流を流す電源と、当該電子源から放出される総電流量を測定する電流計と、を備える荷電粒子線装置であって、前記総電流量を定期的に測定し、当該総電流量が、最初の電子線放出直後の前記電子源からの総電流量、または前記フィラメントに電流を流した直後の前記電子線からの総電流量に対して所定の比率以下になったときに、前記電源が前記フィラメントに電流を流すように制御する制御部を備えることを特徴とする荷電粒子線装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】不連続的放出パターンを有する荷電粒子エミッタによる荷電粒子装置及び方法を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビーム装置及び方法。装置は、少なくとも２つの放出ピークを含む放出パターンを有するエミッタ（１０２）と、ガンレンズ（１１９、５１９、９１９）と、ダイヤフラム（１２０）とを含み、ガンレンズは、デフレクタ・ユニット（１１０）を含み、デフレクタ・ユニットは、少なくとも２つの放出ピークのうちの放出ピークをダイヤフラムの開口部に向け、それによって少なくとも２つの放出パターンから放出ピークのうちの放出ピークを選択するようになっている。 （もっと読む）

【課題】
タンパク質等の高分子構造におけるカイラリティ分布や、磁区構造の解析を高分解能で行うことが可能な走査電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】
レーザー201と半導体202を備えたスピン偏極電子源等を搭載した走査電子顕微鏡を用いて、スピン偏極電子線203を照射した試料208からの反射電子209の強度やスピン偏極度を反射電子検出器210などを用いて測定することにより、試料208内部の高分子のカイラリティ構造や磁化ベクトルを可視化することができる。 （もっと読む）

【課題】
電子ビームの出射側における曲率半径が２．０μｍである円錐形端部を有するショットキー型エミッタを提供する。曲率半径が１μｍ以上なので、曲率半径が０．５μｍから０．６μｍ以下までの範囲にある従来技術に比して、電子銃の焦点距離を長くすることが可能となる。この焦点距離は、曲率半径にだいたい比例することが知られている。電流角強度（単位立体角あたりのビーム電流）は電子銃における焦点距離の２乗に比例するので、エミッタ半径の増加を実用的な範囲とした状態で、前者を１桁分まで改善することが可能となる。電流角強度が高くなると、電子銃から得られるビーム電流も大きくなり、本発明は、マイクロフォーカスＸ線チューブ、電子線マイクロアナライザー、および、電子ビーム リソグラフィーシステムのような、マイクロアンペアレジームの比較的に高いビーム電流を必要とする応用に、ショットキー型エミッタを使用することを可能とするものである。 （もっと読む）

【課題】試料に対して照射する電子ビームの強度や加速電圧を低く抑え、かつ高いＳ／Ｎの電子顕微鏡画像を得ることを可能とする電子顕微鏡制御装置を提供する。
【解決手段】電子線照射行列設定部６５は、プロジェクタ８から出射すべき電子ビームの２次元パターンの時系列を示す電子線照射行列を設定する。この電子線照射行列は、２次元パターンに含まれるピクセルのうち、電子ビームが照射されるピクセルを複数含むように設定されるとともに、２次元パターンに含まれるピクセル数と等しい数の２次元パターンを、互いに独立した２次元パターンの時系列となるように設定される。行列演算部６６は、上記電子線照射行列と、上記２次電子検出器において検出された時系列の検出信号を表したベクトルとに基づいて行列演算を行うことによって、試料の電子顕微鏡画像を示すベクトルを算出する。 （もっと読む）

【課題】不連続的放出パターンを有する荷電粒子エミッタによる荷電粒子装置及び方法を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビーム装置及び方法。装置は、少なくとも２つの放出ピークを含む放出パターンを有するエミッタ（１０２）と、ガンレンズ（１１９、５１９、９１９）と、ダイヤフラム（１２０）とを含み、ガンレンズは、デフレクタ・ユニット（１１０）を含み、デフレクタ・ユニットは、少なくとも２つの放出ピークのうちの放出ピークをダイヤフラムの開口部に向け、それによって少なくとも２つの放出パターンから放出ピークのうちの放出ピークを選択するようになっている。 （もっと読む）

【課題】 外部から供給した電子によって輸送中のイオンビームの空間電荷を効率良く中和することによって、イオンビームの発散を抑制し、イオンビームの輸送効率を向上させる。
【解決手段】 このイオンビーム照射装置は、イオンビーム４の経路の側方に配置されていて電子４２をイオンビーム４の経路に向けて放出する電界放出型電子源３０と、少なくとも電界放出型電子源３０にイオンビーム４の経路を挟んで対向する位置に配置されていて電界放出型電子源３０から供給された電子４２を静電的に追い返す追い返し電極６０と、イオンビーム４の経路であって電界放出型電子源３０から電子４２が供給される領域を含む領域に、イオンビーム４の経路に沿う方向の磁界Ｂ₁ を発生させるコイル６６とを備えている。追い返し電源６２を用いて、電界放出型電子源３０のカソード基板３２に対する追い返し電極６０の電位を第２引出し電極４４の電位よりも低く保つ。 （もっと読む）