【課題】スペーサパターンを形成するための写真エッチング工程を排除する有機電界発光表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、基板と；前記基板上に位置する第１電極と；前記第１電極上に位置し且つ開口部及び非開口部を有する画素定義膜と；前記画素定義膜の非開口部に位置する多数のボール状スペーサと；前記第１電極の上部に位置し且つ発光層を含む有機膜層と；前記有機膜層の上部に位置する第２電極と；を備える有機電界発光表示装置を提供する。また、本発明は、基板を用意し；前記基板の上部に第１電極を形成し；前記第１電極の上部に画素定義膜を形成し；前記画素定義膜の上部にボール状スペーサを塗布し；第１電極の一部を露出させ発光領域を定義する開口部を形成し；前記第１電極の上部に位置し且つ発光層を含む有機膜層を形成し；前記有機膜層の上部に第２電極を形成する；ことを含む有機電界発光表示装置の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】駆動回路素子を同一基板上に一体的に有する液晶表示装置において、表示コントラストの劣化を抑えつつ駆動回路の安定動作を図る。
【解決手段】アレイ基板１０は、表示領域Ｒ１及び駆動回路領域Ｒ２に区画された透明基板１２と、前記表示領域Ｒ１に形成され表示領域Ｒ１にマトリクス状に配置された画素電極４４を駆動する第１薄膜トランジスタ２０と、前記透明基板１２の前記駆動回路領域Ｒ２に形成され前記第１薄膜トランジスタ２０に駆動信号を供給する第２薄膜トランジスタ５０と、前記第１薄膜トランジスタ２０の下層側に設けられた導電性の第１遮光膜１４と、前記第２薄膜トランジスタ５０の下層側に設けられた導電性の第２遮光膜４４と、を備え、前記第１遮光膜１４がアース接続され接地電位に設定され、前記第２遮光膜４４が前記第２薄膜トランジスタ５０のゲート電極５６と電気接続されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】電極に覆われて抜け難い有機平坦化層からの水分の除去が容易で、水分による画素の特性劣化、ダークスポットや画素周辺の輝度の劣化が少ない有機ＥＬ素子アレイ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板と、前記基板上に形成されている有機平坦化層と、前記有機平坦化層上に形成されている複数の第１電極と、前記第１電極上に形成されている有機エレクトロルミネッセンス層と、前記有機エレクトロルミネッセンス層上に形成されている第２電極と、前記複数の第１電極の間に形成されている画素分離層とを有する有機ＥＬ素子アレイにおいて、有機平坦化層は、第１平坦化層と第２平坦化層とを有し、前記第２平坦化層は、前記第１平坦化層に比べて水分透過率が高く、前記画素分離層及び前記第１平坦化層に接するように形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光入力が可能な液晶装置において、各画素部の構造を簡素化するとともに画質の向上を図る。
【解決手段】液晶走査線１０と並列配置されるフォトセンサ走査線１２と、画素部１６の一部であり、フォトセンサ走査線１２にゲートが接続され、液晶スイッチングトランジスタ４０のソース／ドレイン（Ｓ）に一方のソース／ドレイン（Ｄ）が接続され、かつ、液晶走査線１０に他方のソース／ドレイン（Ｓ）が接続されるフォトセンサスイッチングトランジスタ４２と、液晶スイッチングトランジスタ４０及びフォトセンサスイッチングトランジスタ４２のバックライト側を覆う遮光膜とを備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、表示装置自体の厚さを薄くし、しかも水分や酸素に対するバリア性を充分に確保して発光層の劣化を防止できる表示装置及びその封止構造及びこの表示装置を備えた電子機器並びに表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、少なくとも基体２上に形成された電子素子部３上に、平坦化樹脂層１４ｃとバリア層１４ｄとが１以上ずつ積層されてなる多層封止膜１４ｂを積層することにより電子素子部３を封止する構造であり、基体２上に電子素子部３を内側に囲む環状の堰止部１４ａが形成され、平坦化樹脂層１４ｃが堰止部１４ａの内側に形成されていることを特徴とする電子素子部３のバリア性薄膜封止構造を採用する。 （もっと読む）

【課題】露光マスクを総４回用いて薄膜トランジスタアレイ基板を形成し、工程を簡素化して工程費用を節減できるＴＦＴアレイ基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ゲート配線、ゲート配線から分岐されるゲート電極、及びゲート配線の終端に形成されるゲートパッドからなるゲート配線層と、ゲート配線層上に形成されるゲート絶縁膜と、ゲート電極上部のゲート絶縁膜上に形成された半導体層と、ゲート配線に交差するデータ配線、半導体層の両側に形成されるソース／ドレイン電極、及びデータ配線の終端に形成されるデータパッドからなるデータ配線層と、ドレイン電極と接する画素電極と、ゲートパッド及びデータパッドに接する第１及び第２酸化防止膜と、データ配線層上に積層される少なくとも２層の保護膜とを備え、２層の保護膜のうち最上層の保護膜は、画素電極と第１及び第２酸化防止層が形成された領域を除いた残りの領域に形成される。 （もっと読む）

【課題】発光層の全体発光波長に対して高い透過率を有する上部電極を具備する前面発光有機電界発光表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板１００と、基板１００上に形成された第１電極１１０と、第１電極１１０上に形成され、発光層を含む有機膜層１２０と、有機膜層１２０上に形成され、イッテルビウム（Ｙｂ）層と銀（Ａｇ）層とを含んで成る積層膜を含む第２電極１３０と、を含む有機電界発光表示装置。 （もっと読む）

【課題】リブを形成する際の工程数を増加させることなく、機械的強度に優れたリブを有し、リブが充填剤の充填に悪影響を与えない色変換基板を提供すること。
【解決手段】本発明は、カラーフィルタ基板および色変換フィルタ基板に関する。カラーフィルタ基板は、透明基板と、該透明基板上において格子状に設けられたブラックマトリックスと、該透明基板上において、ブラックマトリックスの第１の方向に沿って設けられた複数のカラーフィルタ層を少なくとも含み、該カラーフィルタ層の端部の一部が第１および第２の方向のブラックマトリックスの格子点領域または該格子点領域以外の第１の方向のブラックマトリックスの領域で重なるように延在している。色変換フィルタ基板は、色変換層をさらに含み、カラーフィルタ層に代えて色変換層の端部の一部が重なるように延在している。 （もっと読む）

【課題】 電極用の引き出しパッドの表面の酸化を防止しつつ、電極および引き出しパッドを低コストで容易に形成することができ、もって電極と引き出しパッドとの接触抵抗の上昇を防止することができる有機ＥＬディスプレイの製造方法を提供する。
【解決手段】 基板１０上に第１電極２０、有機ＥＬ層６０、第２電極７０が順次積層されている有機ＥＬディスプレイの製造方法において、第２電極の引き出しパッド用に、基板１０上に金属膜３０を積層する工程と、この金属膜３０の表面のうち、少なくとも第２電極と接触する部分３２を炭素膜で被覆する工程と、金属膜３０を引き出しパッドの形状にパターニングした後、炭素膜を除去し、引き出しパットの前記部分３２に第２電極が接触するように第２電極７０を形成する工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】異物の付着する下地膜に広い範囲にわたってダメージを与えることなく、該異物を除去する表示装置の製造方法の提供。異物が内在する絶縁膜に広い範囲にわたって凹陥部等が形成されることなく、該異物を除去する表示装置の製造方法の提供。
【解決手段】透明材料層の上面に、該透明材料層に付着された該透明材料と同材料の異物の頂部を露出させたレジスト膜を形成する工程と、
前記レジスト膜をマスクにして少なくとも前記異物を溶解させる工程と、
前記レジスト膜を除去した後に前記透明材料層を被って絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜の上面に前記透明材料層と重畳する導電膜を形成する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】絶縁層の特性を劣化させない有機ＥＬディスプレイ用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁層を有する有機ＥＬディスプレイ用基板において、前記絶縁層材料の分解温度−２０℃以下の加熱による該絶縁層材料に由来する物質の放出が、質量分析検出にてＳ／Ｎ比が３／１より小さく検出される有機ＥＬディスプレイ用基板。 （もっと読む）

【課題】従来の液晶表示素子では、垂直方向に並ぶ２つの金属遮光膜のオーバーラップ面積が大きく、かつ、２つの金属遮光膜の間の遮光絶縁膜の膜厚が薄いために、２つの金属遮光膜との間でショートする確率が多くなり、歩留りが低下しやすい。
【解決手段】金属配線４０は、反射電極１３と画素トランジスタ１０のソース１０ｃとを電気的に接続するために、第２層間膜２７上に第１金属遮光膜２８と所定の間隙を有して形成されている。また、第１金属遮光膜２８と金属配線４０との間隙に第２金属遮光膜４１を形成することで、反射電極１３の間隙を通過して画素トランジスタ方向に侵入する光リークを防止するという機能を保ちつつ、垂直方向に２つの金属遮光膜をオーバーラップさせる従来の液晶表示素子に比べて、第１金属遮光膜２８と第２金属遮光膜４１を水平方向に隣接させているので、それらの間のオーバーラップ面積を少なくすることができる。 （もっと読む）

【課題】製造工程において第１電極層を保護し、第２電極層を効果的に分離して、信頼性に優れて生産性が向上する有機ＥＬディスプレイの製造方法を提供する。
【解決手段】第１電極層と、第１電極層１０を覆う第１被覆層１６とが積層された基板を準備する工程と、第１被覆層上に、第１被覆層が部分的に露出する開口部を有する絶縁体１３を形成する工程と、第１被覆層及び絶縁体上に、第１被覆層及び絶縁体を覆う第２被覆層１８を形成する工程と、第２被覆層上であって絶縁体の直上に、凸部１７を形成する工程と、開口部下の第１被覆層をエッチングして除去するとともに、凸部下の第２被覆層を凸部の下面が一部露出するまでエッチングして除去することにより、絶縁体の上面と凸部の下面との間に空隙Ｇを形成する工程と、絶縁体の開口部上で、凸部から開口部にかけて導電材料を堆積させ、空隙Ｇにより端部が規定された第２電極層１２を形成する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】例えば、液晶装置における開口率低下を抑制する。
【解決手段】中継層９３は、第２層間絶縁層４２の上面４２ａから第２層間絶縁層４２の端面４２ｂ及び下部容量電極７１の端面７１ｂに延びている。中継層９３は、コンタクトホール８５を介して画素電極９ａに電気的に接続されている。即ち、下部容量電極７１は、中継層９３と共に高濃度ドレイン領域１ｅ及び画素電極９ａ間の電気的な接続を中継する。したがって、液晶装置１によれば、非開口領域に形成された下部容量電極７１と、中継層９３との接続領域を小さく、或いはまったく無くすことが可能である。 （もっと読む）

【課題】プラスチックフィルムの上に所望の有機ＴＦＴ素子が何ら不具合が発生することなく形成されると共に、十分な開口率を有するフレキシブルＴＦＴ基板を提供する。
【解決手段】プラスチックフィルム２０の上に、接着層４６と、下側絶縁層４４と、有機活性層３８ａ、３８ｂ、ソース電極３６ａ、３６ｘ、ドレイン電極３６ｂ、３６ｙ、ゲート絶縁層３４及びゲート電極３２ａ、３２ｂから構成されて下側絶縁層４４に埋設されたＴＦＴ５，６と、上側絶縁層３０，２８と、画素電極２６とが順に形成されて構成され、ＴＦＴ６のドレイン電極３６ｙが上側絶縁層３０，２８に設けられたビアホールＶＨを介して画素電極２６に電気的に接続されていると共に、ＴＦＴ５，６は画素電極２６のパターン領域に重なる位置に配置されている。 （もっと読む）

【課題】プラスチック基板上に薄膜トランジスタアレイを形成したアクティブマトリクス基板を提供する。
【解決手段】プラスチック基板１と、プラスチック基板１上に形成された複数の走査配線２と、絶縁膜を介して走査配線２と交差する複数の信号配線５と、プラスチック基板１上に形成され、対応する走査配線２上の走査信号に応答して動作する複数の薄膜トランジスタ１０と、薄膜トランジスタ１０を介して信号配線５と電気的に接続される複数の画素電極１４とを備えている。対応する画素電極１４と薄膜トランジスタ１０は、導電部材９によって相互接続されており、画素電極１４および導電部材９は、それぞれ、隣接する異なる走査配線と交差している。 （もっと読む）

【課題】人間が感じる外部環境の明るさに応じて表示部の輝度を調節することのできる電
気光学装置を提供する。
【解決手段】素子基板１１と対向基板７０との間隙に封入された液晶Ｅと、素子基板１１
上に形成されて外部環境の明るさを検知するＰＩＮダイオード３１と、ＰＩＮダイオード
３１からの光電流信号に基づいて、バックライトの輝度を調節する制御部とを備える。Ｐ
ＩＮダイオード３１に対する外光Ｌ２の入射経路上であって、ＰＩＮダイオード３１より
も表示面側に、緑色の光を強調した上で外光Ｌ２をＰＩＮダイオード３１に出射する誘電
体多層膜からなる波長選択フィルタ５０を設けた。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、装置を小型化することにある。
【解決手段】電気光学装置は、基板１０の動作領域１２に複数の走査線と複数のデータ線との交差部に対応して設けられた各々が電気光学素子６０を含む複数の単位回路と、能動素子を有して前記動作領域の周囲に形成された少なくとも１つの周辺回路１４と、周辺回路１４とオーバーラップするように位置する取付部９０を有して電気光学素子６０を封止する封止部材８４と、を有する。周辺回路１４は、複数の走査線を介して単位回路に走査信号を供給するための走査線駆動回路、単位回路の良否を検査するための検査回路及び複数のデータ線にプリチャージ信号を出力するプリチャージ回路のいずれかである。 （もっと読む）

【課題】 複数種類の薄膜パターンを形成する領域に、同一の写真製版工程で中間的な露光を行う場合、中間レジスト膜厚のばらつきを小さくして、中間レジスト膜厚を形成して加工するプロセスのマージンを拡大して歩留りを上げ、低コストなアレイ基板、表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 アレイ基板１００は、第２の導電膜からなるドレイン電極８、ソース端子６２、及び共通接続配線４６上に、レジスト３０を完全に露光しない中間的な露光量により、中間レジスト膜厚が形成されて加工された領域Ｈ１、Ｈ２、Ｈ３をそれぞれ備えている。この領域Ｈ１、Ｈ２、Ｈ３の下層のほぼ全領域に、基板１からの高さがほぼ同じになるように第１の導電膜からなる薄膜パターン１２、１５または共通配線３が形成されている。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置の表示性能を高める。
【解決手段】電気光学装置は、基板（１０）上に、データ線（６ａ）及び走査線（１１）と、データ線及び走査線の交差に対応して設けられた画素電極（９ａ）と、画素電極毎の開口領域を隔てる非開口領域のうち前記交差に対応する交差領域に設けられ、（ｉ）走査線と絶縁膜（１２）を介して異なる層に配置され、データ線が延びるＹ方向に沿った半導体層（１ａ）と、（ｉｉ）半導体層に対して走査線と反対側の層に配置されたゲート電極（３）とを含むトランジスタ（３０）とを備える。更に、絶縁膜には、半導体層の脇にＹ方向に沿って延在する第１部分（８１１）と、走査線の一部と重なると共に走査線が延びるＸ方向に沿って延在する第２部分（８１２）とを有する、ゲート電極と走査線とを電気的に接続するためのコンタクトホール（８１０）が形成される。 （もっと読む）