【課題】発光効率を維持するとともに構造が簡単な有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ素子は、順に積層された第１電極、少なくとも有機発光層を含む積層された有機材料層、及び第２電極からなる有機ＥＬ素子であって、有機発光層からの発光光が透過するように第１及び２電極の少なくとも一方外側に配置されかつ粗面を構成する粗面界面を含む光散乱層を有し、有機材料層は、ｄ≧５×Ｒａの関係（ただしｄは有機材料層の平均膜厚を、Ｒａは粗面界面の平均粗さを示す）を満たす膜厚を有する。 （もっと読む）

【課題】視野角を制限すると共に正面輝度を向上させた表示装置を提供する。
【解決手段】封止用基板３０に、各表示素子２０に対向して導光部５０を設ける。導光部５０は、表示素子２０に対向する面に入射面５１、反対側に射出面５２を有すると共に入射面５１から射出面５２に向かって広がる、例えば台形の断面を有し、側面５３には反射膜５４を有する。表示素子２０の視野角αは、ｓｉｎα≧ｎ₂ ｓｉｎ［ａｔａｎ｛（ｐ＋ａ）／２ｄ｝］、かつ、ｓｉｎα≧ｎ₂ ｓｉｎｕ₂ ＝ｎ₂ ｓｉｎ（ａｕ₁ ／ｐ）を満たす。ｎ₂ は導光部５０の屈折率、ａは入射面５１の幅、ｐは射出面５２の幅、ｄは入射面５１と射出面５２との間の距離、ｕ₁ は入射面５１に入射する光の最大角、ｕ₂ は側面５３の反射膜５４で反射したのち射出面５２から出射する光の最大角をそれぞれ表す。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、耐湿性を維持しつつ透過率を向上させ、高品質な表示を行う。
【解決手段】電気光学装置は、液晶層５０を狭持するＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０と、ＴＦＴアレイ基板１０上に設けられた画素電極９ａと、画素電極９ａ上に形成され、液晶層５０の配向状態を規制する配向膜１６と、画像表示領域１０ａの周囲に沿ったシール領域５２ａにおいて、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０を相互に貼り合わせるシール材５２とを備える。更に、ＴＦＴアレイ基板１０と画素電極９ａとの間に積層され、ＴＦＴアレイ基板１０の屈折率と画素電極９ａの屈折率との中間の大きさの屈折率を有する光学薄膜９１と、ＴＦＴアレイ基板１０上の少なくともシール領域５２ａ内に設けられ、画素電極９ａと同一膜からなるシール下側膜１５１とを備える。 （もっと読む）

【課題】エレクトロルミネッセンス素子の光取出し効率向上のために用いられる光取出し膜であって、透明電極の微細な亀裂や剥離を誘引することがなく、光取出し効率が高く、ダークスポットや寿命低下の少ないエレクトロルミネッセンス素子を提供する。
【解決手段】エレクトロルミネッセンス素子に用いられる、単層膜または２層以上の積層膜からなる光取出し膜であって、該光取出し膜を構成する層のうち少なくとも１層は光散乱機能を有する層であり、該光取出し膜のナノインデンテーション法による硬度が０．０５〜２０ＧＰａである光取出し膜。透光体４、この光取出し膜５Ａ，５Ｂ、第１の電極層３、エレクトロルミネッセンス層２及び第２の電極層１がこの順に積層されてなるエレクトロルミネッセンス素子。 （もっと読む）

【課題】 視野角による色度変化の小さい有機ＬＥＤ素子および有機ＬＥＤ表示装置並びにこの有機ＬＥＤ表示装置に適した有機ＬＥＤ表示装置用基板を提供する。
【解決手段】 有機ＬＥＤ表示装置１は、誘電体膜３が形成された透明基板２の上に、透明電極である陽極４と、有機層５と、陰極６とがこの順に積層された有機ＬＥＤ素子７を有する。誘電体層３の膜厚は０．５μｍ以上であり、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの波長域において、有機層５の屈折率ｎ_１、陽極４の屈折率ｎ_２および誘電体膜３の屈折率ｎ_３の間に、｜ｎ_３−ｎ_２｜≦０．２５および｜ｎ_１−ｎ_２｜≦０．２０の関係が成立する。 （もっと読む）

【課題】 透明電極における光の反射を低下させることにより、透明電極のパターンが見えてしまうのを防止する。
【解決手段】 一対の透明基板３を対向して配置し、両透明基板３の相互に対向する内面にＩＴＯからなる透明電極７を設け、両透明基板３における内面と透明電極７との間に、光の屈折率が１．３５の二酸化ケイ素からなる第１低屈折率層４、光の屈折率が１．９５のＩＴＯからなる高屈折率層５、第１低屈折率層４と同一の材料からなる第２低屈折率層６を順次積層する。 （もっと読む）

【課題】発光型のディスプレイにおける欠点を解消し、発光体からの光の反射率を高めて前面側に向かう割合を増加させると共に、外光等の反射を抑制した背面用基板およびこれを用いて構成されたディスプレイを提供することを課題とする。
【解決手段】基板２上に電極層３、誘電体層４を順に積層し、誘電体層４を構成する第１誘電体層５として表面に凹凸を有する低屈折率層、第２誘電体層として凹凸をならす低屈折率層、第３誘電体層７として高屈折率層とし、以降、低屈折率層と高屈折率層を交互に繰り返すことにより、反射効率を向上させ、第１誘電体層５の表面の凹凸で外光の反射を防止することができた。 （もっと読む）

視野角特性が良好で、高効率な有機ＥＬ素子及び表示装置を提供する。 透明電極（１２）と、透明電極（１２）に対向して配置された対向電極（１４）と、透明電極（１２）と対向電極（１４）の間に、１以上の中間導電層（３０），（３２），（３４）と、１以上の有機発光層（２０），（２２），（２４），（２６）とを含み、１つの中間導電層（３０）の屈折率をｎ_ａ、１つの有機発光層（２０）の屈折率をｎ_ｂとしたとき、中間導電層（３０）の屈折率ｎ_ａと、有機発光層（２０）の屈折率ｎ_ｂとの差が０．２以内である有機エレクトロルミネッセンス素子（１）。
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【課題】 電気信号を所望の位置に導くための機能と，光を散乱させる機能との両方を，表面の凹凸が少ない（理想的にはその表面が平坦な）一つの構造体で提供するための技術を提供する。
【解決手段】 本発明による光散乱膜は，透明な導電体で形成された媒質６と，媒質６に埋め込まれた光散乱体７とを含んで構成される。このような光散乱膜６は，媒質によって導電性が，光散乱体７によって光を散乱する機能が与えられる；光を散乱するために表面に凹凸を積極的に設ける必要はない。かかる光散乱膜は，電気信号を所望の位置に導くための機能と光を散乱させる機能との両方を，表面の凹凸が少ない一つの構造体で提供することを可能にする。 （もっと読む）

【課題】 有機絶縁膜を使用しながらも最高の透過率を得ることができる条件を満たす薄膜トランジスタ表示板を提供する。
【解決手段】 本発明ではゲート絶縁膜厚と屈折率をかけた値と保護膜厚と屈折率をかけた値を足し、その足した値の４倍が波長の偶数倍となり、画素電極の厚さと屈折率をかけた値の４倍が波長の偶数倍がなるようにする。
このように窒化シリコン膜と画素電極は各々補強干渉条件を満たす厚さで形成することによって、表示装置の透過率が向上し、これによる表示品質も良くなる。 （もっと読む）

【課題】
加工時や使用時の熱などに対し寸法安定性が高く、水蒸気や酸素などのガスバリア性に優れ、かつ、光学異方性が少なく、光線透過率に優れたガスバリア性フィルム、並びにこれを用いたディスプレイ用基板及びディスプレイを提供する。
【解決手段】
荷重たわみ温度１５０℃以上の基材の両面へ、線膨張係数が１００ｐｐｍ／Ｋ以下であり、かつ前記基材と前記硬化型樹脂の屈折率差ｎが０．０３≦ｎ≦０．１８である硬化型樹脂層を設けて、さらに、必要に応じて、少なくとも片側の面へ、１又は複数層のガスバリア層及び／又は平滑化層を設けてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光取り出し効率が高く且つ視野角が十分に広い有機ＥＬ表示装置を提供すること。
【解決手段】本発明の有機ＥＬ表示装置１は、光透過性絶縁層１０と、前記光透過性絶縁層１０に対して背面側に配置された有機ＥＬ素子４０と、前記光透過性絶縁層１０と前記有機ＥＬ素子４０との間または前記有機ＥＬ素子４０に対して背面側に配置された回折格子３０と、前記光透過性絶縁層１０に対して前面側に配置された光学フィルム６０とを具備し、前記光学フィルム６０は光学的に等方性の第１部分６１と光学的に異方性の第２部分６２とを備え、前記光学フィルム６２のその主面に垂直な一断面を観察した場合に、前記第１部分６１と前記第２部分６２とは前記主面に対して傾いた複数の境界を形成していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 そこで本発明では、アクティブマトリクス型の表示装置において、簡便に視野角特性を改善することのできる表示装置を提供することを課題とする。
【解決手段】 本発明では、アクティブマトリクス型であり薄膜トランジスタの形成されている基板の方に光を射出する表示装置の場合、薄膜トランジスタを形成する為に用いられる膜による層が原因で発光素子からの光が反射し、多重干渉が起きていることに着目し、当該反射を起こす膜の光学的膜厚を概略λ／２とすることで、当該膜の薄膜トランジスタに対する機能を損ねずに、多重干渉に及ぼす影響を大幅に低減できることを見いだした。 （もっと読む）

【課題】光取り出し効率に優れる発光素子用の光学基板及びそれを用いた発光素子、その発光素子を用いた表示装置を提供する。
【解決手段】本発明の光学基板は、透明基板１の一方の面に低屈折率層２と、低屈折率層２の上部にゾルゲル膜３を具備している。この光学基板は、ゾルゲル膜３の上部に発光領域を搭載し、発光素子の基板として使用される。また、この光学基板を用いることにより、発光効率の高い、すなわち高輝度で低消費電力の発光素子並びに表示装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】 銀を利用する低抵抗配線構造を提供する。
【解決手段】
絶縁基板上に、ゲート配線が形成され、ゲート絶縁膜がゲート配線を覆っており、ゲート絶縁膜上に半導体パターン半導体が形成されている。半導体パターン半導体及びゲート絶縁膜の上には、ソース電極及びドレーン電極とデータ線を含むデータ配線が形成されており、データ配線上には、保護膜が形成されている。保護膜上には、接触孔を通じてドレーン電極と連結されている画素電極が形成されている。この時、ゲート配線及びデータ配線は、接着層、Ａｇ層、及び保護層の３重層からなっており、接着層はクロムやクロム合金、チタニウムやチタニウム合金、モリブデンやモリブデン合金、タリウムやタリウム合金のうちのいずれか一つからなり、Ａｇ層は銀や銀合金からなり、保護層はＩＺＯ、モリブデンやモリブデン合金、クロムやクロム合金のうちのいずれか一つからなっている。 （もっと読む）