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Fターム[5D112BA09]の内容

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【課題】 ガラス基板の中央部に円孔を形成するときに、この円孔の内径端面における欠け、ひび、割れといった欠陥の発生を抑制し、十分な耐衝撃性が確保された磁気ディスク用ガラス基板を品質のばらつきなく安定して廉価に大量供給することができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 ガラスディスク2の一方の主表面2a側より第1の外径d1を有する第1のコアドリル3によって一方側凹部4を形成し、次に、このガラスディスク2の他方の主表面2b側より第1の外径d1よりも小径であって第1のコアドリル3の内径よりも大径である第2の外径d0を有する第2のコアドリル5によって他方側凹部6を形成して、一方側凹部4に亘る貫通孔を穿設する。 (もっと読む)


【課題】 シリコン基板に適切な粗さをつけて、良好な浮上特性を示す表面形状を備えたシリコン基板を使用した磁気記録媒体用基板を提供する。
【解決手段】 シリコン基板をアルカリ水溶液と界面活性剤とを含んだエッチング液を用いて化学エッチングをすることにより、表面に凹凸を形成する。アルカリ水溶液は、水酸化カリウムまたは水酸化ナトリウムを含み、エッチング液中のアルカリ成分の濃度が1質量%〜60質量%の範囲内とする。 (もっと読む)


【課題】 磁気ディスク用基板の中心部の円孔を小径化しても、この円孔の内径端面を良好に鏡面状に研磨できるようにして、小径化に伴う薄型化がなされた場合においても十分な耐衝撃性が確保された磁気ディスク用基板を品質のばらつきなく安定して廉価に大量に提供することを可能とし、磁気ディスクにおけるサーマルアスペリティ障害やヘッドクラッシュを防止して、磁気ディスクにおける情報記録面密度の高密度化を実現する。
【解決手段】 ディスク基板の中心部の円孔の内周端面を研磨する工程において、螺旋状となされて互いに巻付けられた複数の芯線5,5間に多数の毛材6を挟んで構成されこれら毛材6が複数の芯線5,5からなる軸心4に対して略々直交する方向に突設されてなる研磨ブラシ3を用いて研磨を行う。 (もっと読む)


【課題】平滑性の高い情報記録媒体用基板の製造方法及びこれを用いた情報記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】情報記録媒体用基板を製造する情報記録媒体用基板の製造方法において、研磨工程における研磨液は1μm以上の粒子を除去した水又は超純水と研磨剤とを含む。 (もっと読む)


【課題】半導体ウェーハの表面及び端部の迅速かつ効率的な洗浄及び乾燥を可能にすると共に、ウェーハ表面及び端部に堆積する汚染物を発生し得る多数の水又は洗浄流体の小滴の形成を低減する。
【解決手段】メニスカスを第1の表面から第2の表面へ移動させるシステム及び方法は、ヘッドと第1の表面との間にメニスカスを形成することを含む。このメニスカスは、第1の表面から隣接する第2の表面へ移動させることが可能であり、隣接する第2の表面は第1の表面にほぼ平行である。メニスカスを移動させるシステム及び方法は、メニスカスを基板の端部に沿って移動させるために使用することもできる。
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【課題】 磁気ヘッドの低浮上量の下で、フライスティクション障害等を防止し、浮上安定性、LUL(ロードアンロード)耐久性に優れた、高い信頼性を有する、高記録密度化に好適な磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを提供する。
【解決手段】研磨部材には予めその表面を調整する処理を施す。該研磨部材表面の調整処理は、表面に砥粒13を備えた平板状の部材で、端面Aには面取り面を設けた調整板10を用い、両面研磨装置のキャリアに保持された調整板10に上記研磨部材の表面を押し当てて、研磨部材と調整板10とを相対的に移動させて研磨部材表面を磨く処理である。 また、かかる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により得られるガラス基板上に少なくとも磁性層を形成することで、磁気ディスクを製造する。 (もっと読む)


【課題】 基板のテクスチャの凹部および凸部各先端の曲率半径の算出法を確立すること。
【解決手段】 AFM測定データを、各点に重み付けをして平均を取る荷重移動平均にて、データのスムージングを行う。スムージング後データの隣接する3データにおける2点ずつの傾きから、凸部と凹部を検出する。検出した凹部および凸部各先端において、先端部とした前後1点ずつを含めた3データから円の公式を利用して曲率半径を算出する。算出した凸部先端の曲率半径Rcpおよび凹部先端の曲率半径RcvとORには強い相関がある。 (もっと読む)


記憶媒体ディスクをテクスチャリングする部材を形成するための布帛が、かつ、二酸化チタンを実質的に含有しない繊維から形成された不織ポリマー材料から形成される。また、金属記憶媒体ディスクの表面をテクスチャリングするための方法が開示される。
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体積中央粒径が約20ナノメートルから約100ナノメートルで体積スパン値が約20ナノメートルに等しいか或はそれ以上で約100ナノメートルより大きい粒子の分率が研磨剤粒子の約20体積%に等しいか或はそれ以下である多分散粒径分布を示す多数の研磨剤粒子を含有する基質研磨用研磨剤組成物。
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【課題】 高い形状精度と表面性を持つ光学ガラス素子、磁気記録媒体用のガラス基板などのガラス成形体をプレス成形で得るために、成形型材料として高温で安定であり、成形面の肌荒れ、剥離がなく、離型性が良いガラス成形体の成形型を提供する。
【解決手段】 ガラス成形体を形成する成形型において、少なくとも成形面を構成する成分が、Pt、Pd、Rh、Ru、Ir、Os、Reの群から選ばれた少なくとも1種の成分とCr、Alの群から選ばれた少なくとも1種の成分との組み合わせからなり、前記Pt、Pd、Rh、Ru、Ir、Os、Reの群から選ばれた少なくとも1種以上の成分の合計が50at%を超えるものとする。また、前記成形型を酸化雰囲気中で加熱することにより成形面の最表面にCrの酸化物、Alの酸化物のうち少なくとも1種の成分を含む層を形成してある。 (もっと読む)


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