ハードディスク装置の金属テクスチャリング用の添加剤を含有しない繊維
記憶媒体ディスクをテクスチャリングする部材を形成するための布帛が、かつ、二酸化チタンを実質的に含有しない繊維から形成された不織ポリマー材料から形成される。また、金属記憶媒体ディスクの表面をテクスチャリングするための方法が開示される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は布帛に関連する。より詳細には、本発明は、添加剤を含有しない、ハードディスク装置の表面をテクスチャリング（ｔｅｘｔｕｒｉｎｇ）するための布帛に関する。
【背景技術】
【０００２】
ハードディスク（ハードディスク装置内の）のような記憶媒体の製造の分野では、こうしたディスク表面は、円滑で欠陥が無いように表面をテクスチャリングしなければならない。これらディスクの記憶容量が増加しているので、ディスク表面の製造仕様もまた高くなっている。
【０００３】
ナイロンは、ディス表面をテクスチャリングするための布帛として通常用いられる材料である。布帛用に製造されるナイロン繊維は、通常、ポリマーから紡がれ、このポリマーには、押出およびペレット化の間、様々なレベルで溶融物に二酸化チタン（ＴｉＯ２）が混和される。添加剤は、プロセスを簡単にし、レオロジー特性を与え、光阻止作用（ｌｉｇｈｔ ｉｎｈｉｂｉｔｉｏｎ）を与え、またつや消しのために用いられる。
【０００４】
添加剤を含まない繊維は知られているが、これらの繊維は、概ね透明で光沢度が高い。これらの性質は、共に一般的な布帛の用途には望ましくない。このため、これらの完全にブライトな繊維は特定用途のみに用いられる。
【０００５】
ハードディスク装置（例えば、ウィンチェスタードライブ（Ｗｉｎｃｈｅｓｔｅｒ Ｄｒｉｖｅ））の製造で用いられる精密にテクスチャリングされた金属媒体の引掻き傷は、表面が一層円滑になり、５オングストロームより低く、なるにつれ大きな問題となりつつある。
【０００６】
表面の平均粗さが大きい場合には問題とならなかった微細な引掻き傷が、最新の記憶媒体では高率で欠陥となる。テクスチャリングした表面を得るために既存のテクスチャリングテープを研磨剤なしに用いた場合、欠陥ディスクに見られるのと同様な小さな引掻き傷が形成されることが判明している。これは、繊維に用いられている二酸化チタンが原因であると考えられる。
【０００７】
公知の布帛は、二酸化チタンが充填された標準的な繊維を用いており、深い引掻き傷を形成することが分った。こうして形成された引掻き傷によって、１平方インチ当り１２０ギガバイトの高度なディスク装置用には許容できない表面となる。
【０００８】
二酸化チタンを含有しない布帛は、ガラス媒体への用途では使用されてきた。ガラス媒体への用途で、二酸化チタンを含有しない繊維が用いられるのは、引掻き傷とは関連せず、減摩した繊維によるガラス表面の汚染を管理するためである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
従って、ディスク表面をテクスチャリングするたの布帛用の添加剤を含有しない繊維が必要である。こうした布帛は、よく知られた布帛（繊維）で、かつ、製造が容易であることが望ましい。こうした布帛を使用することによって、表面の引掻き傷が低減され、ディスクの記憶容量が技術が許容する容量に釣り合うことが更に望ましい。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
記憶媒体ディスクをテクスチャリングする部材を形成するための布帛が、二酸化チタンを実質的に含有しない繊維から形成した不織ポリマー材料から形成される。好ましい繊維は、約０．０２デニール以下、より好ましくは約０．０１〜約０．０２デニールである。
【００１１】
前記布帛のポリマーは、ナイロンおよびポリウレタンの組合せとすることができ、前記ナイロンとポリウレタンの比率は約１：１〜約３：１である。
【００１２】
金属製記憶媒体ディスクの表面をテクスチャリングするための方法が、繊維から形成され、かつ、二酸化チタンを実質的に含有しない不織ポリマー材料を具備した布帛を準備する段階と、前記布帛を前記ディスクに接触させる段階と、前記布帛またはディスクを互いに相対的に移動させ、前記ディスク表面をテクスチャリングする段階とを含んで成る。
【００１３】
前記方法は、前記ディスクと前記布帛との間に、研磨剤／潤滑剤スラリーのような流体を導入する段階を含むことができる。前記布帛は、約０．０２デニール以下、より好ましくは約０．０１〜約０．０２デニールのテープとして提供される。
【００１４】
本布帛は、ナイロンおよびポリウレタンから形成され、前記ナイロンとポリウレタンの比率は約１：１〜約３：１である。
【００１５】
前記方法は、前記ディスクを回転平面内で回転し、かつ、該回転平面と同一平面内で揺動させることを含む。前記テープは、前記回転平面と平行な平面内で直線方向に移動させられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本発明の上記特徴および他の特徴は、以下の詳細な説明および特許請求の範囲から明らかとなろう。
【００１７】
本発明の利益および利点は、添付図面を参照して説明する以下の詳細な説明から当業者には一層容易に明らかとなろう。
【００１８】
本発明は種々の形態の実施例を許容するが、現時点で好ましい実施形態を図面に示し、また以下に説明する。本明細書の開示は本発明の例示であり、本発明を示された特定の実施形態に限定する趣旨ではないことは理解されるべきである。
【００１９】
更に、本明細書の本項目の名称、すなわち「発明の詳細な説明」は、米国特許商標庁の要求に従うものであって、本明細に開示される主題を意味したり、或いはそれを限定する趣旨であると推論すべきではない。
【００２０】
現時点で添加剤を含まないテクスチャリング布帛は、二酸化チタンを含まないナイロン布帛である。この布帛は、繊維であると考えられている媒体の引掻き傷の主要原因を大幅に低減（本質的に除去）する。引掻き傷の高さが低ければ、標準的な繊維では不可能な、或いは非常に困難な高い生産性と高い最大記憶容量とを達成する。（記憶媒体）ディスク表面は、「引掻き傷」を管理されたレベルの深さ、幅、密度にテクスチャリングされることは当業者には理解されよう。「引掻き傷」との語が表面のテクスチャリングに関連して使われるが、テクスチャリングそれ自体は引掻き傷ではなく、またテクスチャリングはむしろ表面現象であってパターン化され管理されており、（望ましくない）引掻き傷はテクスチャリングよりも深く不規則である。
【００２１】
二酸化チタンを含まない０．０１〜０．０２デニールの布帛が、二酸化チタンを含有する繊維から成る同様の布帛よりも、予想外に引掻き傷を形成しないことが判明している。また、ナイロンとポリウレタンから形成された布帛が、媒体ディスクの製造で用いるのに必要な構造と物理的安定性を備えていることが判明している。テクスチャリングのために用いる本布帛は、ナイロンとポリウレタンの比率が５０／５０〜７５／２５であり、この比率が適切な安定性を有した布帛を形成する。他の比率も本発明の範囲および精神に包含される。
【００２２】
ディスクのテクスチャリングは、図１に略示するような装置１０を用いて実施される。図１において、ディスク１２は、該ディスク１２と布帛１４とが相対移動するように、布帛１４に接触させられる。本構成では、ディスク１２は、ディスク１２と布帛テープ１４との相対動作が参照番号１６で示す回転動作と、参照番号１８で示す揺動動作となるように、前記布帛テープに接触させられる。すなわち、ディスク１２は（図面に対して垂直方向の）中心軸Ａ１２を中心として回転し、該中心軸は、また、回転１６の平面と同じ平面内で揺動動作１８をする。同時に、布帛１４（図示するテープのような部材として形成される）は、テープ１４が連続的に移動するように、供給ロール２２から給送され、巻取ロール２４へ排送されて参照番号２０で示すように移動する。
【００２３】
ディスク１２とテープ（布帛）１４の相対動作に加えて、参照番号２６にて指示するスラリーのような流体が、テクスチャリングに影響を与えたり（例えば、ディスク１２の表面粗さに影響する）、ディスク１２とテープ１４との間の摩擦を低減するために、スラリー供給装置２８からディスク１２とテープ１４との間に供給される。このスラリー２６は、研磨および潤滑の双方をなす。
【００２４】
図２は、二酸化チタンＴｉＯ２を含有し或いは含有していない種々のデニールの布帛に対する引掻き傷の総平均（Ｒａ）を示したグラフである。図２のグラフにおいて、ｄはデニールを示している。また、ＯＳＡは、（望ましいテクスチャリングとの比較において）表面上の望ましくない引掻き傷を検知、計数し、または、その高さ（１枚あたりの引掻き傷の総平均ＯＳＡとして示されている）を測定するための光学的表面分析器（代表的な使用例はカンデラモデル５１００（Ｃａｎｄｅｌａ Ｍｏｄｅｌ ５１００）等である）を表している。上記望ましいテクスチャリングは、Ｒａ（ＴＭＳ）として示されている。Ｒａは、媒体製造において、粗度または反対に平滑度を測定するために用いられる統計的に得られる平均であり、典型的にオングストローム（１０−１０に等しい長さの単位）で表され、「平均粗度」を示している。ディスクの望ましい粗度は、例えば、ディスクを形成する材料（金属）や、所望の記憶容量のような特定の要因に基づいて予め決定された高さであり、通常、望ましい「幅（ｂａｎｄ）」で与えられることは当業者には理解されよう。ＴＭＳは測定で用いる機器である。ここで用いた機器は、シュミット測定システムズ（Ｓｃｈｍｉｔｔ Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ Ｓｙｓｔｅｍｓ）社により製造されたモデルＴＭＳ２０００−ＲＣである。この機器は、表面を乱さないように非接触法を用いている。
【００２５】
図２の結果から理解されるように、０．０２および０．０１５デニールの布帛は、ＴｉＯ２を含有する同じ材料（約４４４および３３９）と比較して、著しく引掻き傷が少なくなっている（１枚あたりの引掻き傷の総平均ＯＳＡ値が約１７４および１４４）となっている。０．０１デニールでは、１枚あたりの引掻き傷の総平均は、ＴｉＯ２を含有する材料がＴｉＯ２を含有しない布帛よりも低い値を示している。これは、布帛のデニール値が低いことに起因すると考えられる。
【００２６】
本明細書で参照した全ての特許は、本開示にその旨特に記載なくとも、本明細書と一体をなすものとして参照する。
【００２７】
本開示では、「ａ」または「ａｎ」との語は、単数および複数の双方を含んでいる。反対に、複数の項目は、それが適切な場合には、単数を含むものとする。
【００２８】
本発明の新規な概念の精神および範囲から逸脱することなく、種々の修正と変形が可能であることは明らかである。記述の特定の実施形態は限定する趣旨ではないことは理解されるべきである。この開示は、特許請求の範囲が、該特許請求の範囲内の全ての変形を包含することを意図している。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明の原理による布帛と共に示す金属記憶媒体ディスクの表面をテクスチャリングするための装置の略図である。
【図２】ＯＳＡ値とＲａ値とを、テープの繊維にＴｉＯ２を含有する或いは含有しない場合について、様々なデニールの繊維材料で比較したグラフであり、ＯＳＡ値はＸ軸から上方に延びる棒グラフで示され、Ｒａ値はＯＳＡ値の概ね上方のブロックで示されている。
【符号の説明】
【００３０】
１０ テクスチャリング装置
１２ ディスク
１４ 布帛（テープ）
１６ 回転動作
１８ 揺動動作
２０ テープの移動方向
２２ 供給ロール
２４ 巻取ロール
２６ スラリー
２８ スラリー供給装置
【技術分野】
【０００１】
本発明は布帛に関連する。より詳細には、本発明は、添加剤を含有しない、ハードディスク装置の表面をテクスチャリング（ｔｅｘｔｕｒｉｎｇ）するための布帛に関する。
【背景技術】
【０００２】
ハードディスク（ハードディスク装置内の）のような記憶媒体の製造の分野では、こうしたディスク表面は、円滑で欠陥が無いように表面をテクスチャリングしなければならない。これらディスクの記憶容量が増加しているので、ディスク表面の製造仕様もまた高くなっている。
【０００３】
ナイロンは、ディス表面をテクスチャリングするための布帛として通常用いられる材料である。布帛用に製造されるナイロン繊維は、通常、ポリマーから紡がれ、このポリマーには、押出およびペレット化の間、様々なレベルで溶融物に二酸化チタン（ＴｉＯ２）が混和される。添加剤は、プロセスを簡単にし、レオロジー特性を与え、光阻止作用（ｌｉｇｈｔ ｉｎｈｉｂｉｔｉｏｎ）を与え、またつや消しのために用いられる。
【０００４】
添加剤を含まない繊維は知られているが、これらの繊維は、概ね透明で光沢度が高い。これらの性質は、共に一般的な布帛の用途には望ましくない。このため、これらの完全にブライトな繊維は特定用途のみに用いられる。
【０００５】
ハードディスク装置（例えば、ウィンチェスタードライブ（Ｗｉｎｃｈｅｓｔｅｒ Ｄｒｉｖｅ））の製造で用いられる精密にテクスチャリングされた金属媒体の引掻き傷は、表面が一層円滑になり、５オングストロームより低く、なるにつれ大きな問題となりつつある。
【０００６】
表面の平均粗さが大きい場合には問題とならなかった微細な引掻き傷が、最新の記憶媒体では高率で欠陥となる。テクスチャリングした表面を得るために既存のテクスチャリングテープを研磨剤なしに用いた場合、欠陥ディスクに見られるのと同様な小さな引掻き傷が形成されることが判明している。これは、繊維に用いられている二酸化チタンが原因であると考えられる。
【０００７】
公知の布帛は、二酸化チタンが充填された標準的な繊維を用いており、深い引掻き傷を形成することが分った。こうして形成された引掻き傷によって、１平方インチ当り１２０ギガバイトの高度なディスク装置用には許容できない表面となる。
【０００８】
二酸化チタンを含有しない布帛は、ガラス媒体への用途では使用されてきた。ガラス媒体への用途で、二酸化チタンを含有しない繊維が用いられるのは、引掻き傷とは関連せず、減摩した繊維によるガラス表面の汚染を管理するためである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
従って、ディスク表面をテクスチャリングするたの布帛用の添加剤を含有しない繊維が必要である。こうした布帛は、よく知られた布帛（繊維）で、かつ、製造が容易であることが望ましい。こうした布帛を使用することによって、表面の引掻き傷が低減され、ディスクの記憶容量が技術が許容する容量に釣り合うことが更に望ましい。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
記憶媒体ディスクをテクスチャリングする部材を形成するための布帛が、二酸化チタンを実質的に含有しない繊維から形成した不織ポリマー材料から形成される。好ましい繊維は、約０．０２デニール以下、より好ましくは約０．０１〜約０．０２デニールである。
【００１１】
前記布帛のポリマーは、ナイロンおよびポリウレタンの組合せとすることができ、前記ナイロンとポリウレタンの比率は約１：１〜約３：１である。
【００１２】
金属製記憶媒体ディスクの表面をテクスチャリングするための方法が、繊維から形成され、かつ、二酸化チタンを実質的に含有しない不織ポリマー材料を具備した布帛を準備する段階と、前記布帛を前記ディスクに接触させる段階と、前記布帛またはディスクを互いに相対的に移動させ、前記ディスク表面をテクスチャリングする段階とを含んで成る。
【００１３】
前記方法は、前記ディスクと前記布帛との間に、研磨剤／潤滑剤スラリーのような流体を導入する段階を含むことができる。前記布帛は、約０．０２デニール以下、より好ましくは約０．０１〜約０．０２デニールのテープとして提供される。
【００１４】
本布帛は、ナイロンおよびポリウレタンから形成され、前記ナイロンとポリウレタンの比率は約１：１〜約３：１である。
【００１５】
前記方法は、前記ディスクを回転平面内で回転し、かつ、該回転平面と同一平面内で揺動させることを含む。前記テープは、前記回転平面と平行な平面内で直線方向に移動させられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本発明の上記特徴および他の特徴は、以下の詳細な説明および特許請求の範囲から明らかとなろう。
【００１７】
本発明の利益および利点は、添付図面を参照して説明する以下の詳細な説明から当業者には一層容易に明らかとなろう。
【００１８】
本発明は種々の形態の実施例を許容するが、現時点で好ましい実施形態を図面に示し、また以下に説明する。本明細書の開示は本発明の例示であり、本発明を示された特定の実施形態に限定する趣旨ではないことは理解されるべきである。
【００１９】
更に、本明細書の本項目の名称、すなわち「発明の詳細な説明」は、米国特許商標庁の要求に従うものであって、本明細に開示される主題を意味したり、或いはそれを限定する趣旨であると推論すべきではない。
【００２０】
現時点で添加剤を含まないテクスチャリング布帛は、二酸化チタンを含まないナイロン布帛である。この布帛は、繊維であると考えられている媒体の引掻き傷の主要原因を大幅に低減（本質的に除去）する。引掻き傷の高さが低ければ、標準的な繊維では不可能な、或いは非常に困難な高い生産性と高い最大記憶容量とを達成する。（記憶媒体）ディスク表面は、「引掻き傷」を管理されたレベルの深さ、幅、密度にテクスチャリングされることは当業者には理解されよう。「引掻き傷」との語が表面のテクスチャリングに関連して使われるが、テクスチャリングそれ自体は引掻き傷ではなく、またテクスチャリングはむしろ表面現象であってパターン化され管理されており、（望ましくない）引掻き傷はテクスチャリングよりも深く不規則である。
【００２１】
二酸化チタンを含まない０．０１〜０．０２デニールの布帛が、二酸化チタンを含有する繊維から成る同様の布帛よりも、予想外に引掻き傷を形成しないことが判明している。また、ナイロンとポリウレタンから形成された布帛が、媒体ディスクの製造で用いるのに必要な構造と物理的安定性を備えていることが判明している。テクスチャリングのために用いる本布帛は、ナイロンとポリウレタンの比率が５０／５０〜７５／２５であり、この比率が適切な安定性を有した布帛を形成する。他の比率も本発明の範囲および精神に包含される。
【００２２】
ディスクのテクスチャリングは、図１に略示するような装置１０を用いて実施される。図１において、ディスク１２は、該ディスク１２と布帛１４とが相対移動するように、布帛１４に接触させられる。本構成では、ディスク１２は、ディスク１２と布帛テープ１４との相対動作が参照番号１６で示す回転動作と、参照番号１８で示す揺動動作となるように、前記布帛テープに接触させられる。すなわち、ディスク１２は（図面に対して垂直方向の）中心軸Ａ１２を中心として回転し、該中心軸は、また、回転１６の平面と同じ平面内で揺動動作１８をする。同時に、布帛１４（図示するテープのような部材として形成される）は、テープ１４が連続的に移動するように、供給ロール２２から給送され、巻取ロール２４へ排送されて参照番号２０で示すように移動する。
【００２３】
ディスク１２とテープ（布帛）１４の相対動作に加えて、参照番号２６にて指示するスラリーのような流体が、テクスチャリングに影響を与えたり（例えば、ディスク１２の表面粗さに影響する）、ディスク１２とテープ１４との間の摩擦を低減するために、スラリー供給装置２８からディスク１２とテープ１４との間に供給される。このスラリー２６は、研磨および潤滑の双方をなす。
【００２４】
図２は、二酸化チタンＴｉＯ２を含有し或いは含有していない種々のデニールの布帛に対する引掻き傷の総平均（Ｒａ）を示したグラフである。図２のグラフにおいて、ｄはデニールを示している。また、ＯＳＡは、（望ましいテクスチャリングとの比較において）表面上の望ましくない引掻き傷を検知、計数し、または、その高さ（１枚あたりの引掻き傷の総平均ＯＳＡとして示されている）を測定するための光学的表面分析器（代表的な使用例はカンデラモデル５１００（Ｃａｎｄｅｌａ Ｍｏｄｅｌ ５１００）等である）を表している。上記望ましいテクスチャリングは、Ｒａ（ＴＭＳ）として示されている。Ｒａは、媒体製造において、粗度または反対に平滑度を測定するために用いられる統計的に得られる平均であり、典型的にオングストローム（１０−１０に等しい長さの単位）で表され、「平均粗度」を示している。ディスクの望ましい粗度は、例えば、ディスクを形成する材料（金属）や、所望の記憶容量のような特定の要因に基づいて予め決定された高さであり、通常、望ましい「幅（ｂａｎｄ）」で与えられることは当業者には理解されよう。ＴＭＳは測定で用いる機器である。ここで用いた機器は、シュミット測定システムズ（Ｓｃｈｍｉｔｔ Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ Ｓｙｓｔｅｍｓ）社により製造されたモデルＴＭＳ２０００−ＲＣである。この機器は、表面を乱さないように非接触法を用いている。
【００２５】
図２の結果から理解されるように、０．０２および０．０１５デニールの布帛は、ＴｉＯ２を含有する同じ材料（約４４４および３３９）と比較して、著しく引掻き傷が少なくなっている（１枚あたりの引掻き傷の総平均ＯＳＡ値が約１７４および１４４）となっている。０．０１デニールでは、１枚あたりの引掻き傷の総平均は、ＴｉＯ２を含有する材料がＴｉＯ２を含有しない布帛よりも低い値を示している。これは、布帛のデニール値が低いことに起因すると考えられる。
【００２６】
本明細書で参照した全ての特許は、本開示にその旨特に記載なくとも、本明細書と一体をなすものとして参照する。
【００２７】
本開示では、「ａ」または「ａｎ」との語は、単数および複数の双方を含んでいる。反対に、複数の項目は、それが適切な場合には、単数を含むものとする。
【００２８】
本発明の新規な概念の精神および範囲から逸脱することなく、種々の修正と変形が可能であることは明らかである。記述の特定の実施形態は限定する趣旨ではないことは理解されるべきである。この開示は、特許請求の範囲が、該特許請求の範囲内の全ての変形を包含することを意図している。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明の原理による布帛と共に示す金属記憶媒体ディスクの表面をテクスチャリングするための装置の略図である。
【図２】ＯＳＡ値とＲａ値とを、テープの繊維にＴｉＯ２を含有する或いは含有しない場合について、様々なデニールの繊維材料で比較したグラフであり、ＯＳＡ値はＸ軸から上方に延びる棒グラフで示され、Ｒａ値はＯＳＡ値の概ね上方のブロックで示されている。
【符号の説明】
【００３０】
１０ テクスチャリング装置
１２ ディスク
１４ 布帛（テープ）
１６ 回転動作
１８ 揺動動作
２０ テープの移動方向
２２ 供給ロール
２４ 巻取ロール
２６ スラリー
２８ スラリー供給装置
【特許請求の範囲】
【請求項１】
繊維から形成され、かつ、二酸化チタンを実質的に含有しない不織ポリマー材料を具備した、記憶媒体ディスクをテクスチャリングする部材を形成するための布帛。
【請求項２】
前記布帛は、約０．０２デニール以下である請求項１に記載の布帛。
【請求項３】
前記布帛は、約０．０１〜約０．０２デニールである請求項１に記載の布帛。
【請求項４】
前記布帛はナイロンおよびポリウレタンから形成される請求項１に記載の布帛。
【請求項５】
前記布帛のナイロンとポリウレタンの比率は約１：１〜約３：１である請求項４に記載の布帛。
【請求項６】
前記布帛は、約０．０１〜約０．０２デニールである請求項５に記載の布帛。
【請求項７】
金属製記憶媒体ディスクの表面をテクスチャリングするための方法において、
繊維から形成され、かつ、二酸化チタンを実質的に含有しない不織ポリマー材料を具備した布帛を準備する段階と、
前記布帛を前記ディスクに接触させる段階と、
前記布帛またはディスクを互いに相対的に移動させ、前記ディスク表面をテクスチャリングする段階とを含んで成る方法。
【請求項８】
前記ディスクと前記布帛との間に流体を導入する段階を含む請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記布帛はテープとして提供される請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
前記布帛は、約０．０２デニール以下である請求項７に記載の布帛。
【請求項１１】
前記布帛は、約０．０１〜約０．０２デニールである請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記布帛はナイロンおよびポリウレタンから形成される請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記布帛のナイロンとポリウレタンの比率は約１：１〜約３：１である請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記布帛は、約０．０１〜約０．０２デニールである請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記ディスクを回転平面内で回転し、かつ、該回転平面と同一平面内で揺動させる請求項７に記載の方法。
【請求項１６】
前記テープは、前記回転平面と平行な平面内で直線方向に移動させられる請求項１５に記載の方法。
【請求項１】
繊維から形成され、かつ、二酸化チタンを実質的に含有しない不織ポリマー材料を具備した、記憶媒体ディスクをテクスチャリングする部材を形成するための布帛。
【請求項２】
前記布帛は、約０．０２デニール以下である請求項１に記載の布帛。
【請求項３】
前記布帛は、約０．０１〜約０．０２デニールである請求項１に記載の布帛。
【請求項４】
前記布帛はナイロンおよびポリウレタンから形成される請求項１に記載の布帛。
【請求項５】
前記布帛のナイロンとポリウレタンの比率は約１：１〜約３：１である請求項４に記載の布帛。
【請求項６】
前記布帛は、約０．０１〜約０．０２デニールである請求項５に記載の布帛。
【請求項７】
金属製記憶媒体ディスクの表面をテクスチャリングするための方法において、
繊維から形成され、かつ、二酸化チタンを実質的に含有しない不織ポリマー材料を具備した布帛を準備する段階と、
前記布帛を前記ディスクに接触させる段階と、
前記布帛またはディスクを互いに相対的に移動させ、前記ディスク表面をテクスチャリングする段階とを含んで成る方法。
【請求項８】
前記ディスクと前記布帛との間に流体を導入する段階を含む請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記布帛はテープとして提供される請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
前記布帛は、約０．０２デニール以下である請求項７に記載の布帛。
【請求項１１】
前記布帛は、約０．０１〜約０．０２デニールである請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記布帛はナイロンおよびポリウレタンから形成される請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記布帛のナイロンとポリウレタンの比率は約１：１〜約３：１である請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記布帛は、約０．０１〜約０．０２デニールである請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記ディスクを回転平面内で回転し、かつ、該回転平面と同一平面内で揺動させる請求項７に記載の方法。
【請求項１６】
前記テープは、前記回転平面と平行な平面内で直線方向に移動させられる請求項１５に記載の方法。
【図１】
【図２】
【図２】
【公表番号】特表２００７−５３６６８９（Ｐ２００７−５３６６８９Ａ）
【公表日】平成１９年１２月１３日（２００７．１２．１３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−５１２６０８（Ｐ２００７−５１２６０８）
【出願日】平成１７年４月２１日（２００５．４．２１）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＩＢ２００５／０５１２９６
【国際公開番号】ＷＯ２００５／１０６８５５
【国際公開日】平成１７年１１月１０日（２００５．１１．１０）
【出願人】（５９１２０３４２８）イリノイ トゥール ワークス インコーポレイティド (309)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成１９年１２月１３日（２００７．１２．１３）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年４月２１日（２００５．４．２１）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＩＢ２００５／０５１２９６
【国際公開番号】ＷＯ２００５／１０６８５５
【国際公開日】平成１７年１１月１０日（２００５．１１．１０）
【出願人】（５９１２０３４２８）イリノイ トゥール ワークス インコーポレイティド (309)
【Ｆターム（参考）】
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