【課題】 表面に適度な粗さを均一に欠陥なく付与することが可能なエッチング液を用いてガラス基板にエッチング処理を施した後に無電解めっき法により軟磁性めっき膜を形成することにより、ハードディスクとしての垂直磁気記録媒体の軟磁性裏打ち層に要求される磁気特性、膜厚、密着性、均一性、平滑性などを満足させる。
【解決手段】 ガラス基板の表面に、少なくとも、フッ化水素酸、フッ化物塩、親水性溶媒、及び水が混合されてなるエッチング液を用いてエッチング処理Ｓ２を施した後に、無電解めっきＳ７により軟磁性めっき膜を形成し、その軟磁性めっき膜に加熱処理Ｓ８、ポリッシュ加工Ｓ９を施す。 （もっと読む）

【課題】 ガラス材料からなる基体上に１μｍ以上の厚い膜であっても密着性良く均一に無電解めっき法でめっき膜を形成することが可能なガラス基体へのめっき方法を提供する。
【解決手段】 ガラス材料からなる基体上に、少なくとも、ガラス活性化処理Ｓ２、シランカップリング剤処理Ｓ３、Ｐｄ触媒化処理Ｓ４、Ｐｄ結合化処理Ｓ５を順次施した後、無電解めっきＳ６により０．０２μｍ以上０．５μｍ以下の膜厚にめっき膜を形成して２００℃以上３５０℃以下の温度にてアニール処理Ｓ７を施し、そのめっき膜上に無電解めっきＳ８を施す。 （もっと読む）

【課題】 アルマイトポアを使った垂直パターンドメディアを使用すると共に、各ポア間の磁気特性のばらつきが緩和された磁気記録媒体を提供すること。
【解決手段】 基板１と、基板１上に形成されたアルマイト層１０（多孔質層）と、アルマイト層１０上に形成された保護膜５と、保護膜５上に塗布された潤滑剤６と、を備えて構成され、アルマイト層１０の層内には、垂直（基板１の表面に対し略直交する方向）に複数の細孔（ポア）が形成されており、この各ポア内には、基板１上の下部軟磁性層２と、下部軟磁性層２上の記録層３（強磁性層）と、記録層３上の上部軟磁性層４とが、形成されている。 （もっと読む）

【課題】 裏打ち層に必要な条件である磁区の安定性、磁気異方性の制御および低保磁力化といった条件を満足させ、垂直磁気記録媒体の記録再生特性の向上と共にノイズを減少できる裏打ち層を有する垂直磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 垂直磁気記録層の下側に軟磁性裏打ち層を有する垂直磁気記録媒体であって、軟磁性裏打ち層が軟磁性膜と非磁性膜とを交互に積層してなり、軟磁性裏打ち層の最上層と最下層とに軟磁性膜を有し、軟磁性膜と非磁性膜とが無電解メッキによって作製されたものである。 （もっと読む）

【課題】 生産性の高いメッキ技術による軟磁性裏打ち層を有する垂直磁気記録媒体であって、ノイズ、特にスパイクノイズを抑制した垂直磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 本垂直磁気記録媒体は、無電解メッキによって作製された軟磁性裏打ち層であって、その下面側部分が上面側部分に比し低い保磁力（Ｈｃ）を有する軟磁性裏打ち層を垂直磁気記録層の下側に有する。 （もっと読む）

【課題】原盤に形成された凹凸状パターンに応じた凹凸状パターンを、より正確に金属板に形成することができる反転盤製造方法を提供する。
【解決手段】表面に多数の凹凸状パターンが形成されている原盤２６の表面上に導電層を形成する工程と、原盤を電解液に浸して導電層上に金属を電着することにより所定厚さの金属板よりなる反転盤２８を形成する工程と、反転盤の形成後に原盤から反転盤を剥離する工程とを備える反転盤製造方法である。導電層形成工程及び／又は導電層形成工程以前における原盤周辺の雰囲気温度及び／又は原盤の温度を電解液の液温度に対して±１５°Ｃ以内に管理する。 （もっと読む）

【課題】 垂直磁気記録媒体に適用した場合に、垂直方向の記録磁界を優先的に強め、かつ急峻化することができる軟磁性薄膜、その生産性の高い製造方法、トラック走行方向の磁化応答性に優れた高品質の垂直磁気記録媒体およびこの垂直磁気記録媒体を備えた垂直磁気記録再生装置を提供する。
【解決手段】 本軟磁性薄膜は、金属イオンとしてＣｏイオン、Ｆｅイオン、Ｎｉイオンを含有し、錯化剤およびホウ素系還元剤を含有し、金属イオンの濃度比率が、モル単位で、０．１５≦（Ｎｉイオン／全金属イオン）≦０．４０、０．５０≦（Ｃｏイオン量／全金属イオン量）≦０．８０および、０．０５≦（Ｆｅイオン量／全金属イオン量）≦０．１５である無電解めっき浴中に基板を浸漬し、基板面に平行な５〜２０００Ｏｅの範囲の磁場中で無電解めっきを行って得ることができる。 （もっと読む）

本発明は、高密度記録・高速記録が可能であり、オーバーライト特性に優れ、均一な特性を有する高品質で大容量の磁気記録媒体等の提供を目的とする。本発明の磁気記録媒体は、基板上に、該基板面に対し略直交する方向に細孔が複数形成された多孔質層を有してなり、該細孔の内部に軟磁性層と強磁性層とを前記基板側からこの順に有し、（１）該強磁性層の厚みが該軟磁性層の厚み以下及び（２）該強磁性層の厚みが記録時に使用される線記録密度で決まる最小ビット長の１／３倍〜３倍のいずれかである。本発明の磁気記録媒体の製造方法は、前記磁気記録媒体の製造方法であって、基板上に多孔質層形成材料層を形成した後、該多孔質層形成材料層に対し多孔質化処理を行い、該基板面に対し略直交する方向に細孔を複数形成して多孔質層を形成する多孔質層形成工程、該細孔の内部に軟磁性層を形成する軟磁性層形成工程、及び該軟磁性層上に強磁性層を形成する強磁性層形成工程を含む。
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【課題】 ガラス基板表面に対して付着や水素結合の状態にあるシランカップリング剤を脱水縮合反応により化学結合させることにより、密着性の優れた無電解めっき膜を形成することが可能なガラス基板へのめっき方法及びそれを用いた磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】 ガラス基板表面に、少なくとも、シランカップリング剤溶液を用いて密着層を形成する密着層形成処理Ｓ２、触媒層形成処理Ｓ３、触媒活性化処理Ｓ４、及び前記密着層のシランカップリング剤をガラス基板表面に化学結合させる乾燥処理Ｓ７を順次施した後に、無電解めっきＳ８を施す。 （もっと読む）

【課題】 軟磁性裏打ち膜を無電解メッキ法により形成する際に、軟磁性裏打ち膜に磁壁が発生するのを防止できる垂直磁気記録媒体の製造方法を提供すること。
【解決手段】 垂直磁気記録媒体の製造方法は、基板１上にコバルト、ニッケル及び鉄を組成元素として含む軟磁性裏打ち膜２を無電解メッキ法により形成する工程を備える。無電解メッキ法に用いられるメッキ液は、軟磁性裏打ち膜２の組成元素のイオンとしてコバルトイオン、ニッケルイオン及び鉄イオンを含み、更に、鉄イオンのモル濃度をコバルトイオンとニッケルイオンの合計モル濃度で割った値が０．５〜１０の範囲に設定されている。 （もっと読む）

【課題】 軟磁性下地膜を有する、垂直磁気記録媒体用基板において、耐食性の高い基板を提供すること。
【解決手段】 垂直磁気記録媒体用基板２は、軟磁性下地膜５を有する。この軟磁性下地膜５上に、該軟磁性下地膜５の腐食を防止する防食膜６が設けられている。防食膜６は、軟磁性下地膜５全体を完全に覆う状態に設けられていることが望ましい。 （もっと読む）

【課題】 ガラス材料からなる基体上に１μｍ以上の厚い膜であっても密着性良く均一に無電解めっき法でめっき膜を形成することが可能なガラス基体へのめっき方法を提供する。
【解決手段】 ガラス材料からなる基体の表面に、少なくとも、基体表面のシラノール基を２倍以上に増加させる希酸水溶液によるガラス活性化処理Ｓ２、シランカップリング剤処理Ｓ３、Ｐｄ触媒化処理Ｓ４、Ｐｄ結合化処理Ｓ５を順次施した後、無電解めっきＳ６によりめっき膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】裏打ち膜表面の平坦化による低周波ノイズの低減、裏打ち膜全体の単磁区化によるスパイクノイズの抑制、および製造プロセスの簡素化を図った垂直磁気記録媒体とその好適な製造方法および製造装置、並びに磁気記録装置を提供する。
【解決手段】軟磁性裏打ち層と、該軟磁性裏打ち層上に形成され、その磁化容易軸が膜面の垂直方向に配向された強磁性体からなる垂直記録層とを備える垂直磁気記録媒体において、前記軟磁性裏打ち層は、軟磁性材料中に反強磁性粒子３２（または硬質磁性粒子）を分散して含む膜とし、この膜は、基体上に、例えば無電界複合めっき法により、めっき軟磁性膜３１中に反強磁性粒子３２（または硬質磁性粒子）を分散共析させて成膜し、所定の方向に磁化Ｍを形成してなるものとする。 （もっと読む）