【課題】本発明は、磁気記録媒体及びその製造方法に関し、媒体ノイズを低減可能とすることを目的とする。
【解決手段】非磁性中間層上に磁性記録層を有する磁気記録媒体の製造方法において、非磁性中間層及び磁性記録層のうち少なくとも一方を酸化物材料からなるターゲットを使用したスパッタリングにより形成する際に、酸素ガス又は二酸化炭素ガスを供給してプラズマ発生時に酸化物材料から酸素原子が分離することによる酸素供給不足の状態を抑制するように構成する。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録媒体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板と、基板上に形成される軟磁性層と、軟磁性層上に形成される底層と、底層上に形成される複数のＣｏ合金酸化物層を有する記録層と、を備え、複数のＣｏ合金酸化物層の各層は、底層側に位置した下部層から上部層へ行くほど磁気異方性エネルギーが次第に低くなるように形成されたことを特徴とする垂直磁気記録媒体である。前記第１Ｃｏ合金酸化物層のＰｔ含量は、前記第２Ｃｏ合金酸化物層のＰｔ含量より多い。 （もっと読む）

【課題】磁気記録層の垂直配向性を維持したまま、磁性結晶粒の結晶粒径の微細化と高密度化を両立させることで、高密度の情報の記録再生が可能な垂直磁気記録媒体、その製造方法、および磁気記録再生装置を提供する。
【解決手段】非磁性基板上に、裏打ち層と、配向制御層と、磁気記録層と、保護層とを少なくとも備える垂直磁気記録媒体であって、前記配向制御層は、前記基板側からシード層と、第１中間層と、第２中間層とを含む３層以上から構成され、前記第１中間層を構成する結晶粒は、前記シード層を構成する結晶粒上にそれぞれエピタキシャル成長され、前記第２中間層を構成する結晶粒は、前記第１中間層を構成する結晶粒上にそれぞれエピタキシャル成長されるとともに、前記第２中間層を構成する結晶粒は、前記第１中間層を構成する結晶粒に比べ微細化されている垂直磁気記録媒体を提供する。 （もっと読む）

【課題】耐摩耗性及び耐蝕性を維持しつつ保護層の薄膜化を図ることができる磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】基板１と、基板１の上方に形成された磁性層３と、磁性層３の上方に形成された、密度が2.2g/cm³以上の非晶質窒化シリコン膜からなる保護層４と、保護層４上の潤滑層５とを有する。 （もっと読む）

【課題】下地層の膜厚を薄くしても良好な磁気特性が得るようにし、磁気ヘッドと軟磁性層間の距離を小さくし、より急峻なヘッド磁界で記録すること。
【解決手段】非磁性基体１上に少なくとも、下地層２と磁気記録層３と及び保護膜４が順に形成された構造を有しており、さらにその上に液体潤滑材層５が形成されている。磁気記録層３は、強磁性を有する結晶粒とそれを取り巻く酸化物或いは窒化物の非磁性結晶粒界からなり、かつ下地層の形成時のガス圧を変化させ、表面層部分を初期層部分よりも高ガス圧で形成した。下地層２の形成方法としては、初期層部分は低ガス圧で成膜し、表面層は初期層部分よりも高ガス圧で成膜する。 （もっと読む）

【課題】低K_u層として用いる軟磁性層を、安定かつ高性能に作製することができ、磁化の熱的安定化と、磁気ヘッドでの書きこみの容易さ、SNRに関して、更なる向上を図った垂直磁気記録媒体とその製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基体１上に、少なくとも非磁性下地層２、磁気記録層３、保護層４を順次形成してなる垂直磁気記録媒体において、磁気記録層は、垂直磁気異方性定数（K_u値）が相対的に小さな低K_u層（31）と、K_u値が相対的に大きな高K_u層（32）とからなり、低Ku層は、Co, Ni, Feのいずれかの金属またはそれらの合金を主体とする強磁性体に、窒素元素を添加した鉄族元素基微結晶構造からなる軟磁性薄膜であって、かつ面心立方格子または六方細密充填の結晶構造を有する薄膜からなり、この膜面に平行な優先結晶配向面を、面心立方格子構造の場合には(111)面、六方細密充填構造の場合には(002)面とする。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録層の粒径の微細化と垂直配向性を両立することで、高密度の情報の記録再生が可能な磁気記録媒体、その製造方法、および磁気記録再生装置を提供する。
【解決手段】非磁性基板上に、少なくとも裏打ち層と下地膜と中間層と垂直磁気記録膜を有する垂直磁気記録媒体において、前記中間層の少なくとも１層がＲｅを主構成元素とし、さらに第２の主構成元素としてｈｃｐ構造を有する元素あるいはｂｃｃ構造を有する元素を含む構成とする。また中間層の主構成元素であるＲｅの濃度を５５原子％〜９９．５原子％の範囲内とする。さらに、第２の主構成元素をＣｏまたはＣｒとする。 （もっと読む）

【課題】 耐摩耗性および耐腐食性に優れた二重保護層を備えた磁気ディスクまたは磁気記録再生ヘッドおよびそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】 磁気ディスクまたは磁気記録再生ヘッドの清浄化された表面に、アルミニウム酸化窒化物、チタンアルミニウム合金酸化窒化物、シリコンアルミニウム合金酸化窒化物またはクロムアルミニウム合金酸化窒化物等の酸化窒化物からなる密着性向上のための下地層を形成し、その上にＤＬＣ層を形成する。 （もっと読む）

【課題】高度な四面体のアモルファス炭素の保護オーバーコートを有する好適な記録媒体
およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のダイヤモンド様炭素材料は、高度な四面体である、すなわち、ダイヤモンド結晶格子内に見い出される多くのｓｐ^３炭素−炭素結合を特徴とする。材料はまた、非結晶であり、短い範囲のオーダーと長い範囲のオーダーとの組み合わせを提供し、公知の非結晶炭素コーティング材料よりも実質的に小さい厚みにおいて、超平滑であり連続的な膜として堆積し得る。これらの材料を堆積する好適な方法において、容量性カプリングは、高密度で誘導的にイオン化されたプラズマから、高度に均一で選択的に励起されたイオンストリームを形成する。このような誘導イオン化は、共振イオン化およびイオンビームの均質化を促進する、比較的遅く移動する磁界により向上される。 （もっと読む）

【課題】高度な四面体のアモルファス炭素の保護オーバーコートを有する好適な記録媒体
およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のダイヤモンド様炭素材料は、高度な四面体である、すなわち、ダイヤモンド結晶格子内に見い出される多くのｓｐ^３炭素−炭素結合を特徴とする。材料はまた、非結晶であり、短い範囲のオーダーと長い範囲のオーダーとの組み合わせを提供し、公知の非結晶炭素コーティング材料よりも実質的に小さい厚みにおいて、超平滑であり連続的な膜として堆積し得る。これらの材料を堆積する好適な方法において、容量性カプリングは、高密度で誘導的にイオン化されたプラズマから、高度に均一で選択的に励起されたイオンストリームを形成する。このような誘導イオン化は、共振イオン化およびイオンビームの均質化を促進する、比較的遅く移動する磁界により向上される。 （もっと読む）

【課題】高度な四面体のアモルファス炭素の保護オーバーコートを有する好適な記録媒体
およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のダイヤモンド様炭素材料は、高度な四面体である、すなわち、ダイヤモンド結晶格子内に見い出される多くのｓｐ^３炭素−炭素結合を特徴とする。材料はまた、非結晶であり、短い範囲のオーダーと長い範囲のオーダーとの組み合わせを提供し、公知の非結晶炭素コーティング材料よりも実質的に小さい厚みにおいて、超平滑であり連続的な膜として堆積し得る。これらの材料を堆積する好適な方法において、容量性カプリングは、高密度で誘導的にイオン化されたプラズマから、高度に均一で選択的に励起されたイオンストリームを形成する。このような誘導イオン化は、共振イオン化およびイオンビームの均質化を促進する、比較的遅く移動する磁界により向上される。 （もっと読む）

【課題】埋め込み形状が良好で、表面粗さＲａが小さく、成膜時にプロセスダストの発生を抑えることができる非磁性埋め込み層で磁性体の凹凸が埋め込まれたパターンド媒体を提供する。
【解決手段】基板と、前記基板上に形成された、凸パターンをなす強磁性記録層と、前記凸パターンをなす強磁性記録層の間の凹部に埋め込まれた、Ｓｉ、Ｏ、およびＣを含有し、Ｃの含有量が０．０５ａｔ％以下であるＳｉＯＣ膜で形成された非磁性埋め込み層とを具備したことを特徴とするパターンド磁気記録媒体。 （もっと読む）

【課題】 磁気記録層におけるグレインサイズを縮小する。
【解決手段】 グレインサイズが減らされた磁気記録層を有する磁気記録媒体を製造するための１つの方法が示される。磁気記録層の形成より先に、第１に、中間層にてグレインを囲みかつ分け隔てるグレイン境界相によって中間層が形成される。グレイン境界相の形成にともない、中間層のグレインサイズをうまく減少させることができる。磁気記録媒体は、中間層とこの中間層上に形成された磁気記録層とを有する。中間層では、分け隔てられたグレインとこのグレインを囲みかつ分け隔てるグレイン境界相とが形成される。磁性層は、中間層の構造に続いて形成された磁性グレインを有する。こんため、磁性層は、縦覧のグレインサイズに比べて、相対的により小さなグレインサイズを有する。 （もっと読む）

【課題】３ｎｍ以下の保護層膜厚であっても、耐摩耗性、摺動特性に好適な磁気ディスクを提供する。また、ＬＵＬ方式用として好適な磁気ディスクを提供する。
【解決手段】基板１と、磁気記録を行うために基板１上に成膜された磁性層３と、磁性層３を保護するために磁性層３上に成膜された保護層４とを少なくとも備える磁気ディスクの製造方法において、保護層４は、実質的に炭素及び水素からなる炭化水素保護膜４ａを磁性層３側に有し、磁気ディスクの製造方法は、安定したプラズマ放電を確保するためのイグナイターを用いてプラズマ点火を行いつつ、０．１Ｐａ以上２Ｐａ以下の真空度の雰囲気中で炭化水素保護膜４ａを成膜する炭化水素保護膜成膜工程を備える。 （もっと読む）

【課題】 プラズマＣＶＤ炭素系膜の耐久性、耐食性を活かしつつ、且つ、耐ガス吸着性の良好な保護膜形成方法を提供する。
【解決手段】 炭化水素ガスを原料としたプラズマＣＶＤ法を用いて耐摺動部材上に保護膜を形成するにあたり、保護膜の成膜初期は耐摺動部材に−５００Ｖを超えるバイアス電位を印加し、成膜終期には−５００Ｖ以下のバイアス電位を印加して成膜することを特徴とする。
また、保護膜を成膜する時間に対して、成膜終期のバイアス電位の印加時間の比率が２５％以下であることが好ましい。
また、磁気記録層および保護膜を備えた磁気記録媒体において、保護膜を上述の方法によって形成する。 （もっと読む）

【課題】酸化物を含有する薄膜磁気記録媒体における酸素の非化学量論組成を補償する磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】スパッタターゲットから基板上に少なくとも第１のデータ記録薄膜層を反応的或いは非反応的にスパッタリングするステップ２０１を含む磁気記録媒体の製造方法の提供であり、スパッタターゲットは、Ｃｏ，Ｐｔ，第１金属と酸素からなる第１金属酸化物及び非反応的にスパッタする場合には第２金属酸化物を含み、第１のデータ記録薄膜層は、Ｃｏ，Ｐｔ及び第１金属と酸素からなる化学量論の第３金属酸化物を含み、スパッタリング中に、第１のデータ記録薄膜層における第３金属酸化物の非化学量論組成はことごとく、スパッタターゲットの第２金属酸化物の酸素或いは酸素濃度の高いガス雰囲気の酸素を用いて補償する。 （もっと読む）

【課題】 熱安定性と磁気クラスタサイズの低減を両立した垂直磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 非磁性基体、非磁性中間層および磁気記録層をこの順に備えた垂直磁気記録媒体であって、磁気記録層は、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｐｔ、ＳｉおよびＯを含有したグラニュラー構造を有し、磁性結晶粒径が膜厚方向に実質的に一定であり、非磁性中間層との界面側に磁気記録層の表面側よりも酸素の多い領域を有することを特徴とする。
また、軟磁性裏打ち層、下地層をさらに設け、下地層はＮｉ、Ｆｅを含有し、面心立方格子からなる結晶構造を有し、かつ軟磁性を有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】熱揺らぎ耐性などの磁気特性およびグライドハイト特性に優れ、かつ容易に製造することができる磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】非磁性基板１と、その上に形成された非磁性下地層３、磁性層４および保護層５を基本構成とし、非磁性下地層３が、ｂｃｃ構造を有し、非磁性基板１と非磁性下地層３との間に、非磁性下地層を（２００）に優先的に配向させる配向調整層２が形成され、磁性層４が、柱状微結晶粒が円周方向に傾いた結晶構造を有し、磁性層４の周方向の保磁力Ｈｃｃと径方向の保磁力Ｈｃｒとの比Ｈｃｃ／Ｈｃｒが１より大きくされている。 （もっと読む）

【課題】非磁性基板１上に磁性層３を有しこの磁性層３上に保護層４を有する磁気ディスク１０の製造方法において、保護層４の膜厚を５ｎｍ以下とした場合においても、この保護層４の耐久性、特に、耐ＬＵＬ特性を優れたものとする。
【解決手段】保護層４を、カーボンを主成分としてプラズマＣＶＤ法により成膜する。この保護層４の成膜を、常温乃至２５０°Ｃ以下の環境下で行う。より好ましくは、この保護層４の成膜を、常温乃至１５０°Ｃ以下の環境下で行う。この保護層４は、膜厚を１ｎｍ乃至５ｎｍとして成膜することができる。この磁気ディスクの製造方法においては、ロードアンロード方式用の磁気ディスク１０を良好に製造することができる。 （もっと読む）

【課題】磁気記録層が多数の柱状粒子と酸化物を含む粒界層によって構成されたグラニュラー構造を有する垂直磁気記録媒体において、ヘッドの浮上性や耐摺動性を確保しつつ、高い媒体Ｓ／Ｎを得ること。
【解決手段】磁気記録層が多数の柱状粒子と酸化物を含む粒界層によって構成されたグラニュラー構造を有し、その柱状粒子が柱状粒子を膜厚方向に２等分した場合の保護層側部分の直径が中間層側部分の直径より大きい形状を有する垂直磁気記録媒体とする。 （もっと読む）