【課題】砥粒の破砕粒による磁気ディスクの汚染を抑えつつ、磁気ディスクの表面を平滑化することができる研磨テープ、研磨テープの製造方法およびバーニッシュ加工方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の研磨テープの製造方法によって製造される研磨テープ１は、磁気ディスクのバーニッシュ加工に用いられるものであり、砥粒５と結合剤６とを混練分散してスラリーを調製する工程と、スラリーを、支持体２上に塗布することによって塗膜を形成する工程と、塗膜を硬化することによって砥粒層３を形成する工程と、砥粒層３の表面に、コーティング層４を形成する工程とによって製造される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、凹凸の鋭角性に優れるテクスチャー痕を均一で且つ微細に形成することができるとともに、スクラッチ欠点、リッジ欠点が少ないという高精度なテクスチャー加工を施すことができる研磨布を提供するものである。
【解決手段】本発明の研磨布は、平均繊維径０．１〜３μｍの極細繊維からなる不織布と高分子弾性体とを含んで構成され、少なくとも片面に前記極細繊維からなる立毛を有し、前記立毛における極細繊維の少なくとも一部にカチオン性界面活性剤を有してなることを特徴とする研磨布である。 （もっと読む）

【課題】溶融ガラスをプレス成形してガラス基板を製造する方法において、ガラス基板を金型から離型するときに割れが発生しないガラス基板成形用金型、該金型を用いたガラス基板の製造方法、該製造方法で製造したガラス基板を用いた情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板及び情報記録媒体を提供する。
【解決手段】上型及び下型の成形面を用い溶融ガラスをプレス成形してガラス基板を製造するガラス基板成形用金型において、上型及び下型の少なくとも何れか一方の成形面が、溝からなるパターンを有すること。 （もっと読む）

【課題】スクラッチなどの欠点が少なく、シャープな線密度の高いテクスチャー痕跡を有するハードディスク基板のテクスチャー加工を可能とし更に、微細な研磨屑、及び砥粒片のふき取りが十分でクリーニング性が良く、スクラッチ欠点の発生を極小化できる研磨布を提供することである。
【解決手段】本発明の研磨布は平均単繊維径が０．０５〜２．０μｍのポリアミド極細集束繊維束を絡合してなる不織布と高分子弾性体とからなり該極細集束繊維の束中には実質的に高分子弾性体は存在せず、該極細集束繊維の絡合体の空隙には該高分子弾性体が充填されており、その一面には該極細集束繊維と連続した立毛が形成されてなるシート状物であって、極細単繊維径分布、圧縮弾性率、ねじれ指数、立毛長さが特定の条件を満足する研磨布とする。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体の表面の異物を効率良く確実に除去することができ、当該磁気記録媒体の表面に残存したマスク層が残留することがなく、磁性層のパターン形成の生産性が高い磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板上に磁性層を形成する工程と、磁性層上にマスク層を形成する工程と、マスク層をパターニングしてマスクパターンを形成する工程と、マスクパターンを用いて磁性層に磁気記録パターンを形成する工程と、マスクパターンの表面を研磨材によりバーニッシュする工程と、マスクパターンを除去する工程とを有することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録用ハードディスクに使用する研磨布であって、従来の研磨布では実現できなかった電波変換特性の高いハードディスクに使用する織物からなる研磨布を提供する。
【解決手段】数平均による単繊維繊度が１×１０-8〜４×１０-4ｄｔｅｘである熱可塑性ポリマーからなる極細繊維が凝集した繊維束を一部に有する織物からなり、径糸が繊維束の撚糸の撚角度が１０度以上７０度以下であり、縦糸が繊維束の撚糸の撚角度が２０度以上８０度以下である研磨布。 （もっと読む）

【課題】 磁気ハードディスクなどの被クリーニング物の表面にスクラッチを形成させずに、不要な微細な突起やパーティクルを被クリーニング物の表面から効率よく除去し、被クリー二ング物の表面を清浄化できるクリーニングテープ及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 合成樹脂製の基材テープ１１と、基材テープ１１の表面に形成されたクリーニング層１４とを備えてなるクリーニングテープ１０であって、クリーニング層１４が、結合剤１３と、結合剤１３中に単一の粒子層状に分散されてなる多数の球状粒子１２とを含んで形成されてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】テープバーニッシュ工程により新たな異物が発生することを適切に防ぐ。また、テープバーニッシュ工程によりスクラッチが発生することを適切に防ぐ。
【解決手段】磁気記録媒体の製造方法であって、基板を準備する準備工程Ｓ１０２と、基板上に磁気記録層を成膜する記録層成膜工程、及び磁気記録層を保護する保護層を成膜する保護層成膜工程を含む成膜工程Ｓ１０４と、保護層までが成膜された基板に対し、保護層の主表面上に液体が供給されるウェット処理によりテープバーニッシュを行うテープバーニッシュ工程Ｓ１０６と、テープバーニッシュ工程Ｓ１０６の後に、保護層上に潤滑層を成膜する潤滑層成膜工程Ｓ１１２とを備える。 （もっと読む）

【課題】従来の極細繊維からなる研磨布では達成し得なかった、極細繊維が均一に分散した極めて緻密な表面状態、優れた平滑性を有する高性能研磨布を提供する。
【解決手段】研磨布は、平均繊維直径０．０５〜１μｍの極細繊維が収束してなる極細繊維束が絡合してなる不織布を主体として構成される研磨布であって、少なくとも一部の該極細繊維束の内部に中空部を有し、該中空部を取り囲むように該極細繊維が配列する構造をとり、該極細繊維束の横断面における中空部の断面積ＣＶが３０％以下であることを特徴とする研磨布である。 （もっと読む）

【課題】被研磨物に微細な溝を形成することが可能で、かつ被研磨物表面の欠点（スクラッチ）発生率を低減させることが可能な研磨布用織物およびその製造方法および磁気デイスク研磨布を提供する。
【解決手段】織物に単繊維径５０〜１５００ｎｍのポリエステルマルチフィラメント糸Ａが含まれ、かつ織物のカバーファクターＣＦが２０００〜４５００の範囲内であり、かつ織物の厚みが０．１５〜０．８０ｍｍの範囲内であって、親水化剤が織物の重量に対して０．２０〜１０．０重量％の範囲で該織物に付着している研磨布用織物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、基板、磁気記録媒体及びその製造方法、並びに磁気記憶装置に関し、低ノイズを実現可能とすることを目的とする。
【解決手段】垂直磁気記録媒体用の基板は、非磁性材料からなり、表面断面曲線の傾斜角度が２．０度以下、若しくは、８３ｎｍ以下の周期の表面粗さＲａ〜３０ｎｍ以下の周期の表面粗さＲａの範囲内で０．１５ｎｍ以下の表面形状を有するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体（磁気ディスク）の端面に付着した潤滑剤がその媒体面内に拡散してくる現象を解消した磁気記録媒体の製造方法および製造装置を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体の面内への拡散が予想される端面に付着している潤滑剤を拭取る。詳しくは、液体潤滑層塗付後の磁気ディスク（１１）を回転させながら、液体潤滑を溶解する働きのある溶剤をスプレー式でワイピングテープ（１３）に噴射（１５）し、加工毎にそのワイピングテープを送りこみ、加工中はワイピングテープの送りを停止させ、溶剤が含有して湿ったそのワイピングテープを磁気ディスクにパッド（１４）により押し当てて、磁気ディスクの端面に塗付されている液体潤滑層をワイピングテープで拭取る。 （もっと読む）

【課題】 磁気ヘッドと記録層との距離であるスペーシングの減少に伴う製造プロセス上の諸課題を解決する。
【解決手段】 磁性膜作成チャンバー１４で磁性膜が作成された基板９は、大気に晒されることなく潤滑層形成チャンバー２５に搬送される。磁性膜作成チャンバー１４から潤滑層形成チャンバー２５に搬送される間、基板９は、保護膜作成チャンバー１５で保護膜が作成され、第一クリーニングチャンバー２２でプラズマアッシングによりクリーニングされ、第二クリーニングチャンバー２３でガスブローによりクリーニングされ、バーニッシュチャンバー２４で真空中でバーニッシュされる。潤滑層形成後に基板９は後処理チャンバー２６に搬送され、潤滑層の付着性及び潤滑性を調節する後処理が真空中で行われる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、従来の極細繊維では達成し得なかった極めて緻密な表面状態、優れた平滑性および柔軟性を有する高性能研磨布およびその製造方法を提供することにある。
【解決手段】本発明の研磨布は、数平均による単繊維繊度が１×１０^−８〜１．４×１０^−３ｄｔｅｘであり、該単繊維繊度が１×１０^−８〜１．４×１０^−３ｄｔｅｘの範囲内の繊維の繊度比率が６０％以上である極細繊維を表面に有する研磨布であって、乾燥時に対する湿潤時のタテ引張強力保持率が１０〜５０％であることを特徴とする研磨布である。 （もっと読む）

【課題】ランプロード方式に適用可能であり、磁気ヘッドの飛行安定性に優れ、高品質で電磁変換特性にも優れた磁気記録媒体及びその製造方法並びに磁気記録再生装置を提供する。
【解決手段】非磁性基板１上に少なくとも磁性層が備えられてなる磁気記録媒体であって、非磁性基板１の表面１ａにテクスチャリング処理により、長手方向に円周方向成分を有しかつ相互に交差する複数の溝１１が形成され、溝１１同士のクロス角度αが２°〜８°の範囲に設定されており、浮上式磁気ヘッドとの組合せで使用され、浮上式磁気ヘッドの浮上量が１０ｎｍ以下の条件で使用されるものであることを特徴とする磁気記録媒体を採用する。 （もっと読む）

【課題】テクスチャー工程後の基板表面に残存する残留物を効果的に除去することにより、洗浄工程後に基板表面に残存する残留物の量を非常に少なくすることができ、高品質な磁気記録媒体を歩留まりよく製造できる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板１の表面にテクスチャー加工を施すテクスチャー工程と、前記テクスチャー工程の後に、トリエタノールアミンを０．００３質量％〜０．１８質量％含む洗浄水溶液を用いて前記ガラス基板１の表面を洗浄する洗浄工程と、前記洗浄工程の後に、前記ガラス基板１の表面上に、少なくとも非磁性下地層と磁性層と保護層とを形成する積層工程とを備える磁気記録媒体の製造方法とする。 （もっと読む）

【課題】適当な表面粗さを有し、面内磁気異方性の大きく、高いＳ／Ｎの磁気ディスクを得るための、磁気記録媒体用ディスク基板の製造方法を提供する。
【解決手段】テクスチャー加工工程を有する磁気記録媒体用ディスク基板の製造方法において、前記テクスチャー加工が、磁気記録媒体用ディスク基板を円周方向に回転させつつ、前記基板に接する表面が、繊維径が４００ｎｍ以上９５０ｎｍ以下のポリエステル製繊維を含む研磨テープを押圧手段により回転中の磁気基板に押し付けながら、前記基板の表面にクラスターダイヤモンドを含む砥粒を含むスラリーを供給する工程であることを特徴とする磁気記録媒体用ディスク基板の製造方法、前記磁気記録媒体用ディスク基板の製造方法により製造された磁気記録媒体用ディスク基板、前記磁気記録媒体用ディスク基板の上に、少なくとも磁性層を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法、および、前記磁気記録媒体の製造方法によって製造された磁気記録媒体。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、記録ディスク用ガラス基板への基板鏡面加工において、ディスク基板表面に大きな傷（スクラッチ）をつけることなく、研磨効率が高くかつ安定的に均一で精度の高い加工が可能なガラス基板鏡面加工用研磨布と、その製造方法を提供することである。
【解決手段】平均単繊維繊度が０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘかつ繊度ＣＶが１〜１０％の範囲であるポリエステル極細繊維および／または該極細繊維からなる極細繊維束が絡合してなる不織布と弾性重合体とで構成されるシート状物からなる研磨布であって、表面に露出した単繊維繊度０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘの極細繊維間の交差点が、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて２０００倍にて観察し、該極細繊維が５０本以上存在する０．０１ｍｍ^２の範囲１０ヶ所を任意に抽出したとき、平均で１５０ヶ所以上存在することを特徴とするガラス基板鏡面用研磨布。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、記録ディスク用ガラス基板へのテクスチャー加工において、ディスク基板表面に大きな傷（スクラッチ）をつけることなく、研磨効率が高くかつ安定的に均一で精度の高い加工が可能なテクスチャー加工用研磨布と、その製造方法を提供することである。
【解決手段】平均単繊維繊度が０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘかつ繊度ＣＶが１〜１０％の範囲であるポリエステル極細繊維および／または該極細繊維からなる極細繊維束が絡合してなる不織布と弾性重合体とで構成されるシート状物からなる研磨布であって、表面に露出した単繊維繊度０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘの極細繊維間の交差点が、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて２０００倍にて観察し、該極細繊維が５０本以上存在する０．０１ｍｍ^２の範囲１０ヶ所を任意に抽出したとき、平均で１５０ヶ所以上存在することを特徴とするガラステクスチャー用研磨布。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体の表面に存在する異物を効率的に除去することができ、エラーが少なく記録再生特性に優れた磁気記録媒体を歩留まり良く製造することが可能な磁気記録媒体の製造方法及び製造装置、磁気記録媒体、並びにこの磁気記録媒体を用いた磁気記録再生装置を提供する。
【解決手段】ガラス基板上に少なくとも下地層と磁性層と保護膜層とを順次形成する成膜工程が備えられているとともに、ワイプテープ２を用いて磁気記録媒体の表面を洗浄する表面処理工程が備えられた製造方法であり、前記表面処理工程は、ワイプテープ２を、少なくとも導電性材料を含有するパッド３で押圧することによって磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂに接触させ、ワイプテープ２及び磁気記録媒体１０を除電しながら、該磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂをワイプテープ２に摺動させて洗浄する方法である。 （もっと読む）