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Fターム[5D112GA13]の内容

Fターム[5D112GA13]に分類される特許

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【課題】 本発明は、本発明は、ハードディスクドライブのディスクに関し、より詳細にはディスクの外周端面に付着した塵埃や汚れ等の付着物を除去するディスク端面バニッシュ装置およびディスク端面バニッシュ方法に関する。
【解決手順】 本発明のディスク端面バニッシュ装置は、ディスクの内周をチャックして回転するスピンドルと、クリーニングテープを走行させるテープ走行機構と、ローラとを備え、スピンドルに装着したディスクを鉛直面で回転し、ディスクの外周端面の最下位置で水平走行する前記クリーニングテープを当接し、クリーニングテープの裏面からローラをディスクの外周端面に押圧付勢してクリーニングテープを接触摺動させ、外周端面に付着した付着物をバニッシュする、よう構成する。 (もっと読む)


【課題】垂直磁気記録方式の磁気記録媒体に適した垂直磁気記録媒体用基板を得る。
【解決手段】垂直磁気記録媒体用基板10の研磨に、テクスチャー加工を用いる。回転する垂直磁気記録媒体用基板10上に砥粒を含んだ研磨スラリーを供給しながら、研磨テープ26を押し付けて垂直磁気記録媒体用基板10にテクスチャー加工を施すに際して、研磨テープ26に含まれる研磨繊維の平均直径を400nm以下にし、且つ、研磨スラリーに含まれる砥粒の平均粒径を150nm以下にする。 (もっと読む)


【課題】Ni−P系合金からなる下地層における高精度の平坦面を確保しつつ、下地層における異常突起を自動的に除去でき、しかも、垂直磁気記録媒体における磁気配向に悪影響を及ぼすことがなく、垂直方向の磁気配向が容易となるような適度なテクスチャ痕を形成できること。
【解決手段】非磁性基体2のNi−P系合金からなる下地層6が、界面活性剤と多結晶ダイヤモンド砥粒との混合スラリーが供給されながら研磨テープ34でテクスチャ加工された後、研磨剤38と有機酸とを少なくとも含むスラリーが供給されながら、テクスチャ加工された下地層が研磨テープ36により、下地層の表面の粗さ(算術平均粗さ)(Ra)が、例えば、0.5nm(5Å)以下、好ましくは、0.05nm以上0.2nm以下となるまでテクスチャ研磨されるもの。 (もっと読む)


【課題】本発明は、テクスチャ加工におけるネガティブモジュレーションの発生を防止すると共に、磁性結晶粒子の配向性を高め、磁気ディスクの高記録密度化を図ることを目的とする。
【解決手段】 上記課題を解決するために、本発明にかかる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の代表的な構成は、円盤状の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、回転するガラス基板1に対して研磨テープ12を半径方向に相対的に反復移動させることにより円周方向に対して所定の角度で交差する軌跡からなる第1テクスチャ20を形成する工程と、円周方向に対して第1テクスチャ20とは異なる角度で交差する軌跡からなる第2テクスチャ21を形成する工程とを、この順に含み、第1テクスチャ20の円周方向に対する交差角度αは、第2テクスチャの円周方向に対する交差角度βよりも大きいことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、少ない取代で高精度に面取部を鏡面研磨することにより、ナトリウムやカリウムの析出の発生を防止して信頼性と耐久性を向上させた磁気ディスク用のガラス基板および磁気ディスク、およびこれらの製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】中心に内孔2を形成され内周側の面取部2bが研磨された磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、面取部2bの全周に亘って同時に当接しうる研磨布21を用いて、内周側の面取部2bの全周に亘って同時に研磨布21を押圧しつつ、該研磨布21とガラス基板1とを相対的に移動させることにより研磨することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板の主表面上で複数計測した算術平均粗さRaにおいて最大値Ra(max)−最小値Ra(min)の値を低減し、磁気ヘッドの低浮上量化を向上させることが可能な磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクの製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】円盤状のガラス基板1の主表面を研磨して磁気ディスク用ガラス基板を製造する製造方法において、ガラス基板1の両主表面に、アスカーC硬度が88以上の研磨テープ12を押圧し、研磨材を含む研磨液を供給しながら、ガラス基板1と研磨テープ12とを相対的に移動させて研磨を行うことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、凹凸の鋭角性に優れるテクスチャー痕を形成することができるとともに、スクラッチ欠点、リッジ欠点が少なく歩留まりが良く、更に基板表面上に表面粗さ0.3nm以下という高精度なハードディスクのテクスチャー加工を施すことができる研磨布を提供する
【解決手段】本発明の研磨布は、平均繊度が0.0001〜0.01dtexのポリエステル極細繊維および/または該ポリエステル極細繊維からなるポリエステル極細繊維束が絡合してなる不織布とポリウレタンを主成分とした高分子弾性体とで構成され、少なくとも片面が該極細繊維からなる立毛面を有するシート状物からなる研磨布であって、該ポリエステル極細繊維として、固有粘度が0.55〜1.00、かつ、全ジカルボン酸成分中の20モル%以上がナフタレンジカルボン酸からなるジカルボン酸成分と、脂肪族アルキレングリコールからなるジオール成分とで構成されるポリエステル樹脂からなる繊維を含有することを特徴とする研磨布である。 (もっと読む)


【課題】凹凸の鋭角性に優れるテクスチャー痕を形成することができるとともに、スクラッチ欠点、リッジ欠点が少なく歩留まりが良く、更に基板表面上に表面粗さ0.3nm以下という高精度なハードディスクのテクスチャー加工を施すことができる研磨布を提供する
【解決手段】本発明の研磨布は、平均繊度が0.0001〜0.05dtexのポリアミド極細繊維束が絡合してなる不織布と、その不織布内部空間に存在するポリウレタンを主成分とした高分子弾性体とで構成され、少なくとも片面が該極細繊維からなる立毛面を有するシート状物からなる研磨布であって、該ポリアミド極細繊維が、(1)脂肪族ジカルボン酸と、全ジアミン成分中の80モル%以上が芳香族ジアミンであるジアミン成分とからなる半芳香族ポリアミドおよび/または(2)全ジカルボン酸成分中の80モル%以上が芳香族ジカルボン酸であるジカルボン酸成分と、脂肪族アルキレンジアミンとからなる半芳香族ポリアミドを含有することを特徴とする研磨布である。 (もっと読む)


【課題】凹凸の鋭角性に優れるテクスチャー痕を形成することができるとともに、スクラッチ欠点、リッジ欠点が少なく歩留まりが良く、更に基板表面上に表面粗さ0.3nm以下という高精度なハードディスクのテクスチャー加工を施すことができる研磨布を提供する。
【解決手段】本発明の研磨布は、平均繊度が0.0001〜0.01dtexのポリエステル極細繊維および/または該ポリエステル極細繊維からなる極細繊維束が絡合してなる不織布と、ポリウレタンを主成分とした高分子弾性体とで構成され、少なくとも片面が該極細繊維からなる立毛面を有するシート状物からなる研磨布であって、該ポリエステル極細繊維が、環状アセタール骨格を有するジオールを5モル%以上40モル%以下含むジオール成分と、テレフタル酸及び/またはナフタレンジカルボン酸を主たる構成成分とする芳香族ジカルボン酸を含むジカルボン酸成分とで構成されるポリエステル樹脂からなる繊維であることを特徴とする研磨布である。 (もっと読む)


【課題】被研磨物に微細な溝を形成することが可能な研磨布用織物およびその製造方法および磁気デイスク研磨布を提供する。
【解決手段】織物に単繊維径50〜1500nmのポリエステルマルチフィラメント糸Aが含まれ、かつ該織物のカバーファクターCFが2500〜4000の範囲内であり、かつ織物の厚みが0.15〜0.40mmの範囲内であることを特徴とする研磨布用織物。 (もっと読む)


【課題】 磁気記録媒体製造におけるテクスチャー加工において、ディスク基板表面に大きな傷をつけることがなく、例えば平均表面粗さが1nm以下レベルの微細なテクスチャーを均一かつ安定的に付与することを目的とする。
【解決手段】 不織布およびその内部に高分子弾性体(I)が付与されてなるシートの少なくとも片面に極細繊維からなる立毛を有する研磨シートならびに研磨材粒子を用い、式(1)〜(3)を満足する条件下にてテクスチャー加工を行うことを特徴とする磁気記録媒体のテクスチャー加工方法。
0.01 ≦ R ≦ 0.2 ・・・式(1)
0.01 ≦ D ≦ 0.1 ・・・式(2)
1 ≦ R/D ≦ 5 ・・・・・・式(3)
ただし、R:立毛を構成する極細繊維の平均繊維直径(μm)
D:研磨材粒子の平均粒子径(μm) (もっと読む)


【課題】本発明は、テクスチャー加工用研磨布に関し、基盤表面粗さを0.3nm以下を達成し、スクラッチ欠点、リッジ欠点に優れ、かつ、線密度の高いテクスチャー痕を形成することができる研磨布を提供することにある。
【解決手段】平均単繊維繊度が0.00001〜0.1dtexの極細繊維束からなる不織布と弾性重合体とで構成されるシート状物からなる研磨布であって、JIS L−1907バイレック法(2004年度版)で測定される吸水速度が1〜50mmの範囲であることを特徴とする研磨布。 (もっと読む)


【課題】テープの研磨処理における消耗品を無くし、且つ、適切な表面状態を得ることのできるテープの表面処理方法及び装置を提供する。
【解決手段】表面処理装置10は、磁気テープ12をフィードローラ18によって連続的に走行させるとともに、表面処理部20の移動ローラ28によって磁気テープ12の磁性層面同士を擦り合わせる。 (もっと読む)


【課題】磁気記録ディスク等のテクスチャリング加工において、低Ra値化に対応でき、かつ十分な加工レートや、テクスチャー痕の均一性、シャープさを保持しつつ、加工面のスクラッチ発生を抑制できる研磨材料を提供する。
【解決手段】主として平均繊維径5μm以下の極細短繊維からなる不織布を有し、高分子溶液および/またはラジカル反応性化合物溶液を不織布と共存させた状態でラジカル種を発生させる改質処理により得られる研磨材料。 (もっと読む)


【課題】磁気記録ヘッドの浮上高さを従来よりも低くすることが可能となり、更に磁気記録膜に良好な磁気異方性が得られる高記録密度化を実現できるシリコン基板を提供する。
【解決手段】(1)異なる素材の砥粒を含む遊離砥粒スラリー及び/又は異なる材質のテープを用いる少なくとも二段階のテクスチャー加工と、(2)異なる加工圧力を用いる少なくとも二段階のテクスチャー加工と、(3)異なる素材の砥粒を含む遊離砥粒スラリー及び/又は異なる材質のテープを用いるとともに、異なる加工圧力を用いる少なくとも二段階のテクスチャー加工とからなる一群から選ばれるテクスチャー加工を用いて、シリコン基板表面にテクスチャーを形成する磁気ディスク用テクスチャー入りシリコン基板の製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】表面にテクスチャを形成した磁気ディスク用ガラス基板を梱包して磁気ディスクの製造施設に配送し、この磁気ディスクの製造施設において開梱し、磁気ディスクを生産するときに、所期の性能が得られ、磁気ヘッドのグライドハイトを十分に狭隘化することができ、また、磁性層に良好な磁気異方性が付与された磁気ディスクの生産を可能とする磁気ディスク用ガラス基板の収納方法を提供する。
【解決手段】表面にテクスチャを有する磁気ディスク用ガラス基板を雰囲気とともに収納容器に収納するにあたり、雰囲気を少なくとも酸性物質及び/又は有機物質を除去する処理を施した雰囲気とし、この雰囲気とともに磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納する。 (もっと読む)


【課題】磁気ハードディスクの基板の表面に、適度な深さの凹部と適度な高さの凸部を有するテクスチャ条痕を形成できるテクスチャ加工方法を提供する。
【解決手段】基板21の表面に略同心円状の条痕を形成する第一の工程、及び基板の表面にこの条痕をベースとしたテクスチャ条痕を形成する第二の工程から成る。テクスチャ条痕を形成した基板表面における平均表面粗さが1Å以上、6Å以下の範囲にあり、この表面における平均表面粗さに対する最大表面粗さの比が10未満の範囲にある。第二の工程において、砥粒を含んでいない潤滑液と発泡体テープ30を使用する。発泡体テープの発泡体層の平均気泡直径は1μm以上、50μm以下の範囲にあり、圧縮率は3%以上、7%以下の範囲にあり、圧縮回復率は40%以上、60%以下の範囲にあり、ショアーD硬度は20度以上、30度以下の範囲にある。 (もっと読む)


【課題】磁気ディスク用ガラス基板を製造し磁気ディスクを製造するときに、所期の性能が得られ、磁気ヘッドのグライドハイトを十分に狭隘化することができ、また、磁性層に良好な磁気異方性が付与された磁気ディスクの製造を可能とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供し、また、良好な特性を有する磁気ディスクを製造することができる磁気ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】表面に線状のテクスチャを有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、ガラス基板の主表面を酸を含有する洗浄液によって洗浄してガラス基板の主表面における異物を除去した後、ガラス基板の主表面にテクスチャを形成する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、塵埃汚染の機会の低減による磁気ディスク媒体の品質向上する磁気ディスク媒体の製造方法、製造装置を提供する。
【解決手段】各工程の製造開始に際して磁気記録媒体を収納ケースから取り出して製造を行い、製造が終了すると再び収納ケースに戻し、次工程に移動させる磁気記録媒体製造方法であって、
磁性膜が形成され、該磁性膜上に潤滑剤が塗布された磁気記録媒体をテープにより平滑化するテープバーニッシュ工程と、平滑化された磁気記録媒体を収納ケースから取り出し、出荷用ケースに詰めかえるケース交換工程と、出荷用ケースから磁気記録媒体を取り出し試験を行い、良品を出荷用ケースに収納する媒体試験工程と、を有する磁気記録媒体製造方法。 (もっと読む)


【課題】 磁気記録媒体外周部の潤滑層膜厚を均一として、磁気ヘッドの浮上を安定化する。
【解決手段】 潤滑層を備えた磁気記録媒体の製造方法であって、保護層の上に液体潤滑剤を塗布した後に、磁気記録媒体20を回転させながら、溶剤を含有した加工テープ11を磁気記録媒体の端面及びデータ面の外周部に、テープ押し当て具16を用いて同時に押し当てて液体潤滑剤を拭き取ることを特徴とする。
非磁性基板の厚みは0.635mm以下であることが好ましい。
また、液体潤滑剤を塗布した後、さらに加熱処理を施した後に、加工テープによる拭取りを行うことが好ましい。 (もっと読む)


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