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Fターム[5D121EE15]の内容

光記録担体の製造 (9,591) | 担体各層の形成 (2,196) | 気相法による薄膜形成 (765) | 薄膜形成材料 (331) | 無機材料含有 (188) | 金属元素含有 (152) | 単体金属含有 (19)

Fターム[5D121EE15]に分類される特許

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【課題】光記録媒体保護膜形成用として、割れやInの溶出がなく製造工程を簡素化でき、高密度が得られる酸化物スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ZrO,In,GaおよびZnOを含有し、ZrO相の周囲がInとZnとGaとの酸化物からなる複合酸化物相を含む相で囲まれた組織を有する。好ましくは、不可避不純物を除いた全金属成分量に対する原子比で、Zr:A%,In:B%,Ga:C%およびZn:D%とされており、これらの成分組成が、0<A≦45.5、9.1≦B≦31.0、9.1≦C≦31.0、B+C≦2D、A+B+C+D=100の関係を満たす。 (もっと読む)


【課題】異常放電や割れのない、金属酸化物および金属を含む光情報記録媒体用記録層などの形成に有用な、金属酸化物−金属複合スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】スパッタリングターゲットは、金属酸化物Aと、金属Bとを含む複合スパッタリングターゲットであって、金属酸化物の円相当直径の最大値が低く粒度調整された原料粉末の焼結により、前記金属酸化物Aの円相当直径の最大値が200μm以下に制御されている。前記金属酸化物Aは凝集していても良い。 (もっと読む)


【課題】Agを主成分とし、表面平滑性に優れ、ノイズやジッターを十分に抑制できる光メディアを実現可能な光メディア用スパッタリングターゲット、その製造方法、及び、光メディアとその製造方法を提供する。
【解決手段】Ta及びNbからなる群より選択される1又は2種の元素を0.1〜2at%、及び、Alを0.1〜1at%含み、残部がAg及び不可避的不純物である光メディア用スパッタリングターゲット、及び、基板上に上述の組成の反射膜を備える光メディアである。 (もっと読む)


【課題】比較的価格の安いアルミを主成分としかつ希土類金属を使用しない、表面平滑性に優れた光メディア用スパッタリングターゲット、その製造方法、及び、光メディア及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】Alを主成分とし、Ta及びNbからなる群より選択される1又は2種の元素を1〜10at%、及び、Agを0.1〜10at%含む光メディア用スパッタリングターゲットである。基板10と、Alを主成分とし、Ta及びNbからなる群より選択される1又は2種の元素を1〜10at%、及び、Agを0.1〜10at%含む組成を有し基板10上に設けられた反射層20A,20Bと、を備える光メディア100である。 (もっと読む)


【課題】製造時に必要とされる光透過性を確保しつつ、十分高い反射率を有し、かつ、光情報記録媒体に用いた場合に再生安定性に優れると共に耐久性にも優れる反射膜を備えた、青色レーザーを使用する読み出し専用の光情報記録媒体(例えば2層BD−ROM)を提供する。
【解決手段】基板上に反射膜および光透過層の積層が複数形成された構造を含み、青色レーザーにより情報の再生が行われる読み出し専用の光情報記録媒体であって、前記反射膜のうち基板に最も近い反射膜が、Tiを0.5〜3.0%(特記しない限り、成分において、%は原子%を意味する。以下同じ。)含有するAl基合金からなり、且つその膜厚が10nm以上30nm以下であることを特徴とする読み出し専用の光情報記録媒体。 (もっと読む)


【課題】反射率(初期反射率)が高く、しかも初期のジッター値は低く且つ連続再生によりこれが著しく増加(劣化)し、有限時間で再生不能となる特性を備えた光情報記録媒体用記録層(記録膜)、該記録層を備えた光記録媒体及び該光情報記録媒体の記録層形成用スパッタリングターゲットを提供すること。
【解決手段】レーザー光を用いた追記型光情報記録媒体用記録層であって、Inを30原子%以上、かつCoを30原子%以上50原子%以下、かつ、Biを19原子%超え45原子%以下含有するIn-Co-Bi合金からなることを特徴とする記録層、光情報記録媒体及び記録層形成用スパッタリングターゲット。 (もっと読む)


【課題】耐割れ性に優れた光記録媒体の保護膜を形成するための高強度スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】AをSi,Cr,Al,Ce,Ti,Snの内の1種または2種以上とすると、ZrIn100−a−b−c(ただし、5原子%<a<23原子%、12原子%<b<35原子%、0<c<30原子%)からなる成分組成を有する光記録媒体保護膜形成用スパッタリングターゲットであって、前記光記録媒体保護膜形成用スパッタリングターゲットに含まれるZrの90%以上がZrとInの複合酸化物相となってターゲット素地中に分散しており、前記ZrとInの複合酸化物相は、ZrIn100−x−y(ただし、20原子%<x<30原子%、10原子%<y<16原子%)からなる成分組成を有する。 (もっと読む)


【課題】膜面方向(膜面内)における成分の均一性に優れた薄膜を安定して形成することができるAg−Ta−Cu合金スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】Taを0.6〜10.5原子%、Cuを2〜13原子%含有するAg基合金からなるスパッタリングターゲットであって、スパッタリングターゲットのスパッタリング面を画像解析したとき、(1)Ta粒の全面積に対する、円相当直径10〜50μmのTa粒の合計面積は60面積%以上であり、且つ、Ta粒の平均重心間距離は10〜50μmであり、(2)Cu粒の全面積に対する、円相当直径10〜50μmのCu粒の合計面積は70面積%以上であり、且つ、Cu粒の平均重心間距離は60〜120μmである。 (もっと読む)


【課題】プリスパッタ時間の短縮されたAg基合金スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】Ti、V、W、Nb、Zr、Ta、Cr、Mo、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、AlおよびSiよりなる群から選択される少なくとも1種を、合計で1〜15質量%含むAg基合金スパッタリングターゲットであって、
該スパッタリングターゲットのスパッタリング面の算術平均粗さ(Ra)が2μm以上であり、かつ最大高さ(Rz)が20μm以上であることを特徴とするAg基合金スパッタリングターゲット。 (もっと読む)


【課題】光記録媒体(CD−RW,DVD−RAMなど)のAg合金反射膜を形成するためのAg合金スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】Cu:0.1〜3.0質量%、Ga:0.05〜2.0質量%、Ca:0.001〜0.1質量%を含有し、残部がAgおよび不可避不純物からなる成分組成を有し、ターゲット本体1の周囲に鍔2を有する鍔付きターゲットであって、ビッカース硬さが40〜70の範囲内にあることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】光情報記録媒体のSn合金膜をスパッタにより連続的に成膜する際の、Sn合金膜成膜用スパッタリングターゲットの反りの発生を抑制する。
【解決手段】溶製スパッタリングターゲット鋳塊の鍛造による組織の作りわけによって、Ni、Coを含有するSn合金からなり、Snマトリックス中に、Ni、CoとSnとの針状、棒状の金属間化合物が混在する組織であって、この金属間化合物に黒い切れ目や穴部分の存在が少なく、金属間化合物が細かく砕けていない組織として、ターゲットのビッカース硬さを20Hv以上、0.2%耐力を20MPa以上とし、Sn合金膜をスパッタにより連続的に成膜する際のSn合金スパッタリングターゲットの反りの発生を抑制する。 (もっと読む)


【課題】反射率(初期反射率)が高く、高C/N比を有し、さらには低ジッター値を有する光情報記録媒体用記録層(記録膜)、該記録層を備えた光記録媒体及び該記録層形成用スパッタリングターゲットを提供すること。
【解決手段】レーザー光の照射によって記録マークが形成される記録層であって、該記録層は、Ni、Coから選ばれる1種類以上の元素を20〜65原子%含有するIn合金、さらにこれにSn、Bi、Ge 、Siから選ばれる1種類以上の元素を19原子%以下含有するIn合金からなることを特徴とする光情報記録媒体用記録層。 (もっと読む)


【課題】高線速記録に適した感度の高い追記型光記録媒体、及び該光記録媒体の実現に適したスパッタリングターゲット、特に生産性の向上のため製膜速度の向上が可能で、製膜時の強度の高い、充填密度を高めたスパッタリングターゲットとその製造方法の提供。
【解決手段】(1)基板上に少なくとも記録層を形成した光記録媒体であって、記録層の構成元素の主成分がBi及びO(酸素)であり、Bを含有し、更にGe、Li、Sn、Cu、Fe、Pd、Zn、Mg、Nd、Mn、Niから選択される少なくとも一種の元素Xを含有する光記録媒体。
(2)Bi、Bを含有し、更にGe、Li、Sn、Cu、Fe、Pd、Zn、Mg、Nd、Mn、Niから選択される少なくとも一種の元素Xを含有するスパッタリングターゲット。 (もっと読む)


【課題】高線速度記録が可能で、広い線速度範囲で高品質の信号が得られ、かつ信号保存性に優れた情報記録媒体を提供する。
【解決手段】本発明の情報記録媒体は、レーザビームの照射または電流の印加によって、相変化を起こす記録層を有する。前記記録層は、必須成分であるGeおよびSbと任意成分であるTeとからなる組成物を主成分として含む。前記組成物は、図1に示す三角座標上で、座標(Ge,Sb,Te)=(x,y,z)で表した場合、点(a)(35,65,0)、点(b)(36.9,60,3.1)、点(c)(3.2,60,36.8)および点(d)(5,95,0)で囲まれる領域内(但し、点(b)はGe60Te40−Ge35Sb65上のSb=60の点、点(c)はTe−Ge5Sb95上のSb=60の点に相当し、点(a)−点(b)、点(b)−点(c)、点(c)−点(d)および点(d)−点(a)の各ライン上を含む。)の組成を有する。 (もっと読む)


【課題】有機色素記録層上に腐食しにくい半透明反射層を有する信頼性の高い2層光記録媒体の製造方法の提供。
【解決手段】(1)記録層を含む記録構成体を2層有する光記録媒体(2層光記録媒体)の記録再生光入射側から見て手前側の記録構成体を積層するに際し、案内溝付き基板上に形成した有機色素記録層上に、Agを主成分とするターゲットを用い、該ターゲットに周期的な負のパルス電圧を印加しつつ、スパッタリングにより半透明反射層を形成する2層光記録媒体製造方法。
(2)周期的な負のパルス電圧の周波数が1〜100kHzである(1)記載の2層光記録媒体製造方法。
(3)周期的な負のパルス電圧が、−300V以下である(1)又は(2)の何れかに記載の2層光記録媒体製造方法。 (もっと読む)


【課題】再現性良く光記録媒体を量産するのに適するスパッタリングターゲットと、その
スパッタリングターゲットを用いた青色レーザ波長領域でも高密度の記録が可能な追記型
光記録媒体の提供。
【解決手段】(1)BiとFe、又は、Bi、Fe、及びOを主成分とし、充填密度が96%よりも高いことを特徴とするスパッタリングターゲット。
(2)BiとFe、又は、Bi、Fe、及びOを主成分とし、充填密度が96%よりも高いことを特徴とする追記型光記録媒体の記録層形成用スパッタリングターゲット。
(3)上記(2)記載のスパッタリングターゲットを用いて製膜したBiとFe、又は、
Bi、Fe、及びOを主成分とする記録層を有することを特徴とする追記型光記録媒体。 (もっと読む)


【課題】無機記録膜を有する追記型光記録媒体において、膜総数を少なくすることができ、且つ、パワーマージンを広くすることができるようにする。
【解決手段】追記型光記録媒体10が無機記録膜6を有し、無機記録膜6が、ゲルマニウムの酸化物からなる酸化物膜3と、酸化物膜と隣接する金属膜2とを備える。酸化物膜6は、第1の酸化物膜3aおよび第2の酸化物膜3bからなり、第1の酸化物膜3aおよび第2の酸化物膜3bの吸収係数は互いに異なるように設定される。 (もっと読む)


【課題】光の近接場効果を用いた、高効率かつ隣接ビットへのクロスライトの影響を軽減し、高品質の信号を記録可能な光情報記録再生方法、及びその装置を提供すること。
【解決手段】平板状の基板上に、記録再生光の波長以下のサイズの微細構造を形成した微細構造層を備えた光情報記録媒体の前記微細構造層に、前記記録再生光の波長以下の微小開口を備えたプローブで情報を記録あるいは再生する光情報記録再生方法であって、前記微細構造の大きさを2Rとし、微細構造の中心位置をP、プローブの中心位置をCとし、また、前記CとPの水平方向の間隔をTとするとき、T≦R/2のときにのみ、前記記録再生光を照射することを特徴とする方法、並びにこれを具体化した装置。 (もっと読む)


【課題】 「広い印刷面をもつクランプエリアまでが印刷可能である光情報記録媒体」、「写真画質に迫る高品位な印刷が可能な光沢感をもつ高精細印刷対応の光記録情報媒体」、「水に濡れても色落ちしない耐水性の印刷可能な光情報記録媒体」のいずれの要求をも満たすプリンタによる印刷が可能な光情報記録媒体を提供する。
【解決手段】 親水化された下地層上にインク受容層を設ける構成にすることで、インク受容層の耐性を著しく向上した光情報記録媒体を提供することが可能になる。 (もっと読む)


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