読み出し専用の光情報記録媒体および該光情報記録媒体の反射膜形成用スパッタリングターゲット
【課題】製造時に必要とされる光透過性を確保しつつ、十分高い反射率を有し、かつ、光情報記録媒体に用いた場合に再生安定性に優れると共に耐久性にも優れる反射膜を備えた、青色レーザーを使用する読み出し専用の光情報記録媒体（例えば２層ＢＤ−ＲＯＭ）を提供する。
【解決手段】基板上に反射膜および光透過層の積層が複数形成された構造を含み、青色レーザーにより情報の再生が行われる読み出し専用の光情報記録媒体であって、前記反射膜のうち基板に最も近い反射膜が、Ｔｉを０．５〜３．０％（特記しない限り、成分において、％は原子％を意味する。以下同じ。）含有するＡｌ基合金からなり、且つその膜厚が１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下であることを特徴とする読み出し専用の光情報記録媒体。
【解決手段】基板上に反射膜および光透過層の積層が複数形成された構造を含み、青色レーザーにより情報の再生が行われる読み出し専用の光情報記録媒体であって、前記反射膜のうち基板に最も近い反射膜が、Ｔｉを０．５〜３．０％（特記しない限り、成分において、％は原子％を意味する。以下同じ。）含有するＡｌ基合金からなり、且つその膜厚が１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下であることを特徴とする読み出し専用の光情報記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、青色レーザーを使用して再生を行う読み出し専用型のＢＤ（ブルーレイディスク）等の光情報記録媒体、および該光情報記録媒体の反射膜形成用スパッタリングターゲットに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
光情報記録媒体（光ディスク）は、記録再生原理に基づき、読み出し専用型、追記型、書き換え型の３種類に大別される。
【０００３】
図１に、読み出し専用の光情報記録媒体（１層光ディスク）の代表的な構成を模式的に示す。図１に示すように、読み出し専用の光情報記録媒体は、透明プラスチックなどの基板１の上に、Ａｇ、Ａｌ、Ａｕなどを主成分とする反射膜２と、光透過層３とが順次積層された構造を有している。基板１には、ランド・ピットと呼ばれる凹凸の組み合わせによる情報が記録されており、例えば、厚さ１．１ｍｍ、直径１２ｃｍのポリカーボネート製基板が用いられる。光透過層３は、例えば光透過性樹脂の塗布・硬化によって形成される。記録データの再生は、光ディスクに照射されたレーザー光の位相差や反射差を検出することによって行われる。
【０００４】
図１には、ランド・ピット（記録データ）の組み合わせによる情報が記録された基板１上に、反射膜２および光透過層３がそれぞれ１層ずつ形成された１層光ディスクを示しているが、例えば図２に示すように、第１の情報記録面１１および第２の情報記録面１２を備えた２層光ディスクも用いられる。詳細には、図２の２層光ディスクは、凹凸のランド・ピット（記録データ）の組み合わせによる情報が記録された基板１上に、第１の反射膜２Ａ、第１の光透過層３Ａ、第２の反射膜２Ｂ、および第２の光透過層３Ｂが順次積層された構成を有しており、第１の光透過層３Ａには、基板１とは別の情報がランド・ピットの組み合わせによって記録されている。
【０００５】
光ディスクに用いられる前記反射膜としては、これまで、Ａｕ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌ及びこれらを主成分とする合金が汎用されてきた。
【０００６】
このうち、Ａｕを主成分とする反射膜は、化学的安定性に優れ、記録特性の経時変化が少ないという利点を有するが、極めて高価であり、また、例えばＢＤの記録再生に使用される青色レーザー（波長４０５ｎｍ）に対し、十分高い反射率が得られないという問題がある。また、Ｃｕを主成分とする反射膜は安価であるが、従来の反射膜材料のなかで最も化学的安定性に劣っているほか、Ａｕと同様、青色レーザーに対する反射率が低いという欠点があり、用途が制限されている。これに対し、Ａｇを主成分とする反射膜では、実用波長領域である４００〜８００ｎｍの範囲で充分高い反射率を示しており、高い化学的安定性を持つことから、現在、青色レーザーを使用する光ディスクにおいて広く利用されている。
【０００７】
Ａｌは波長４０５ｎｍにおいて十分高い反射率を示し、Ａｇ、Ａｕに比べ価格が安価であるものの、Ａｇ系やＡｕ系の反射膜より化学的安定性に劣っている。よって、耐久性を確保すべく、反射膜の厚みを十分厚くする必要があり、例えばＤＶＤ−ＲＯＭでは、Ａｌ系反射膜の膜厚を４０ｎｍ程度と十分厚くすることで耐久性を確保している。
【０００８】
しかし、例えば２層ＢＤ−ＲＯＭの製造工程では、前記図２の基板１に最も近い反射膜である反射膜２Ａ（以下、この様に基板に最も近い反射膜を、特に「第１反射膜」ということがある）が形成された後、その上に光透過層３Ａを形成する際、光硬化樹脂を均一に塗布後、基板１側から光を、反射膜２Ａを介して前記塗布した光硬化樹脂に照射することで、該樹脂を硬化させて上記光透過層３Ａを形成する場合がある。この場合、前記第１反射膜は、ある程度の光透過性を示す必要があり、そのためには、第１反射膜の膜厚を例えば３０ｎｍ以下と薄くする必要がある。しかしながら、Ａｌ系反射膜の膜厚をこの様に薄くすると、作製直後は良好な特性が得られるものの、反射膜の経時変化により、ジッター（再生信号の時間軸上のゆらぎ）が大きくなったり、反射率が低下するといった問題がある。
【０００９】
光ディスクの反射膜にＡｌ系合金を用いた技術として、例えば特許文献１には、希土類元素を０．０５〜３原子％含むＡｌ合金からなる反射膜が開示されており、希土類元素として、Ｙ、Ｎｄ、Ｇｄが挙げられている。
【００１０】
特許文献２には、光記録媒体用反射膜として、Ｍｇを０．１〜１５質量％含有し、さらに必要に応じて希土類元素の内の１種または２種以上を合計で０．１〜１０質量％含有し、残部がＡｌおよび不可避不純物からなり、該不可避不純物が１００ｐｐｍ以下であるＡｌ合金からなるものが示されている。また特許文献３には、温度や湿度が急激に変化する条件下でも良好な耐久性を有する再生専用型光ディスクとして、４％Ｔａを含有するＡｌ反射膜（厚さ１００ｎｍ）を備えた光ディスクが実施例の欄に開示されている。
【００１１】
しかし、特許文献１の実施例に示された反射膜は膜厚が４０ｎｍであり、また特許文献２に開示された反射膜も膜厚が１００ｎｍであり、いずれも厚いものとなっている。更に、特許文献３において、実施例で成膜した反射膜の膜厚は１００ｎｍであることから、いずれにおいても、上述した様な製造工程での光透過性が要求される第１反射膜を想定したものではない。
【００１２】
また特許文献４では、半透明反射層として、所定の透過率と反射率を有すると共に、耐食性及び耐凝集性といった化学的安定性にも良好なものを得るべく、Ａｌ基合金の組成について検討されている。しかし、この特許文献４は、上記の通り半透明反射層を対象とするものであって、十分な反射率を必要とする第１反射膜に関するものではない。
【特許文献１】米国特許第５，６４３，６５０号公報
【特許文献２】特開２００７−６６４１７号公報
【特許文献３】特公平７−６２９１９号公報
【特許文献４】特開２００３−１７３５７６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明はこの様な事情に鑑みてなされたものであって、その目的は、製造時に必要とされる光透過性を確保しつつ、十分高い反射率を有し、かつ、光情報記録媒体に用いた場合に再生安定性に優れると共に耐久性にも優れる反射膜（第１反射膜）を備えた、青色レーザーを使用する読み出し専用の光情報記録媒体（例えばＢＤ−ＲＯＭ）を提供すること、およびその反射膜形成用スパッタリングターゲットを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明に係る読み出し専用の光情報記録媒体とは、基板上に反射膜および光透過層の積層が複数形成された構造を含み、青色レーザーにより情報の再生が行われる読み出し専用の光情報記録媒体であって、前記反射膜のうち前記基板に最も近い反射膜（第１反射膜）が、（ａ）Ｔｉを０．５〜３．０％（特記しない限り、成分において、％は原子％を意味する。以下同じ。）含有するＡｌ基合金からなり、且つその膜厚が１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下であるところに特徴を有する。
【００１５】
前記第１反射膜としては、上記（ａ）Ｔｉを０．５〜３．０％含有すると共に、更に（ｂ）Ｇｅ、ＬａおよびＡｇよりなる群から選択される少なくとも１種を合計で０．１〜１．５％含むＡｌ基合金からなるものが好ましい。
【００１６】
本発明には、前記第１反射膜形成用のスパッタリングターゲット、即ち、基板上に反射膜および光透過層の積層が複数形成された構造を含み、青色レーザーにより情報の再生が行われる読み出し専用の光情報記録媒体における、前記基板に最も近い反射膜形成用のスパッタリングターゲットであって、Ｔｉを０．５〜３．０％含有するＡｌ基合金からなる点に特徴を有するスパッタリングターゲットも含まれる。
【００１７】
前記スパッタリングターゲットは、必要に応じて、更に、Ｇｅ、ＬａおよびＡｇよりなる群から選択される少なくとも１種を合計で０．１〜１．５％含むＡｌ基合金からなるものであってもよい。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、読み出し専用の光情報記録媒体の製造工程において、光透過層形成時の樹脂硬化を良好に行えると共に、該光情報記録媒体として、高反射率および低ジッターを示し、信号の書込み・読み取り特性（再生安定性）に非常に優れたものが得られる。また、本発明の好ましい態様によれば、加速環境試験後も高反射率かつ低ジッターを示すため、耐久性に優れた読み出し専用の光情報記録媒体を提供することができる。更に、従来のＡｇ合金を使用した光情報記録媒体と比較して製造コストの抑えられた読み出し専用の光情報記録媒体を提供することができる。
【００１９】
本発明の光情報記録媒体は、特に、青色レーザーを用いて再生を行うＢＤ−ＲＯＭ（特には２層ＢＤ−ＲＯＭ）などの光情報記録媒体（光ディスク）に好適に用いられる。
【００２０】
尚、本明細書において、「再生安定性に優れる」とは、後述する実施例で示す通り、初期ジッターが９％以下であることを意味する。また「耐久性に優れる」とは、後述する実施例で示す通り、温度８０℃、相対湿度約８５％の環境下で１９２時間保持する加速環境試験を行ったときの、加速環境試験前後の反射率の低下量（試験後の反射率−試験前の反射率）が５．０％以下（絶対値）であり、かつ加速環境試験前後のジッターがいずれも９％以下であることを意味する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
本発明者は、前記情報記録面を複数層備えた光ディスクにおける、基板に最も近い位置の反射膜（第１反射膜）として、
・全反射膜としてある程度の反射率を示す；と共に、
・該第１反射膜上の光透過層形成の際、基板側から第１反射膜を介して光を照射したときに、光透過層の形成に用いられる樹脂の光硬化が十分行われる程度の光透過性を示す；
反射膜を得るべく、まず、その膜厚について検討した。
【００２２】
その結果、第１反射膜の膜厚が薄すぎると、透過光が大きくなり、相対的に反射光が小さくなるため、ディスクの再生に必要な信号強度が得られなくなる。本発明では、後述する実施例で示す通り初期反射率７０．０％以上を確保すべく、第１反射膜の膜厚を１０ｎｍ以上とする。一方、膜厚が３０ｎｍを超えると、第１反射膜の光透過率が小さくなり、上記光透過層形成の際、基板側からの光（例えば紫外線）が該反射膜を十分透過せず、結果として、上記光透過層を構成する樹脂を十分に硬化することができない。また、光情報記録媒体の作製初期におけるジッターが大きくなるといった問題も生じる。よって本発明では、第１反射膜の膜厚の上限を３０ｎｍとする。好ましくは２５ｎｍ以下、更に好ましくは２０ｎｍ以下である。
【００２３】
本発明者は、上記観点から、第１反射膜の膜厚を１０〜３０ｎｍと決定した上で、この様に反射膜の膜厚が薄い場合には、上述した通り耐久性が劣化し易いことに鑑みて、特にその耐久性を高めるべく、該反射膜を構成するＡｌ基合金の成分組成について鋭意研究を行った。まず、新規Ａｌ基合金を開発するに当たり、反射膜の膜厚と再生安定性および耐久性との相関について、純Ａｌ膜の挙動を調査した。
【００２４】
具体的には、純Ａｌスパッタリングターゲットを用い、厚さの異なる純Ａｌ膜を成膜して、各純Ａｌ膜の初期反射率を測定すると共に、加速環境試験を行った後の反射率を測定し、純Ａｌ膜の経時変化による反射率・透過率の変化（耐久性）を調べた。また、純Ａｌスパッタリングターゲットを用い、ランド・ピットが形成されたポリカーボネート基板上にスパッタリング法によって厚さの異なる純Ａｌ膜を成膜した後、紫外線硬化樹脂の光透過層を成膜した１層ＢＤ−ＲＯＭディスクを作製した。次いで、ディスク作製後のジッターを測定すると共に、加速環境試験を行った後のジッターを測定し、ジッターの観点から耐久性を評価した。
【００２５】
その結果、ＢＤ−ＲＯＭの反射膜として純Ａｌ膜を形成した場合、該反射膜の膜厚を１５ｎｍ以上とすると、ジッターが増大することが判明した。一方、反射膜の厚さが約１５ｎｍ以下では、低ジッターが得られる反面、反射率が低下した。また、耐久性試験（温度８０℃、相対湿度約８５％の高温高湿環境下に保持する加速環境試験）後には、ジッターが増大すると共に反射率が大きく低下することが判明した。
【００２６】
本発明者は、上記結果をふまえ、反射膜の厚さを上記の通り薄くしても、再生安定性および耐久性に優れる反射膜を実現すべく、該反射膜の成分組成について鋭意検討を行った結果、ＡｌにＴｉを添加すれば、純Ａｌ膜が示す高い初期反射率を維持できると共に、経時変化によるジッターの増大と反射率の低下を抑制できる（特に、ジッターの増大を抑制できる）ことを見出した。
【００２７】
この様にＴｉを添加することでジッターの増大を十分に抑制できた理由について明らかではないが、純ＡｌにＴｉを添加することで、Ａｌ系薄膜の結晶組織の微細化に寄与し、光情報記録媒体の作製初期におけるジッター値を良好に保ち、かつＡｌ原子の相互拡散が抑制され、Ａｌの粒成長に伴う表面粗度の増大が抑制されて、ジッター値の経時変化が抑制されているものと考えられる。
【００２８】
この様な効果を十分に発揮させるには、Ｔｉを０．５％以上含有させる必要がある。これよりも少ないと、ジッター値の増大抑制の効果が不十分であり、経時変化によりジッターが増大するため好ましくない。Ｔｉ量は好ましくは１．０％以上である。
【００２９】
一方、Ｔｉ量が３．０％を超えると、膜の吸収率が増加して、光透過層の光硬化のための十分な透過率が得られなくなる。よって、Ｔｉ量の上限を３．０％とした。好ましい上限は２．５％である。
【００３０】
本発明の第１反射膜として、更に、Ｇｅ、ＬａおよびＡｇから選ばれる少なくとも１種を合計で０．１〜１．５％含むＡｌ基合金からなるものとすれば、経時変化による反射率の低下をより抑制でき、結果として、光ディスクの耐久性をより高めることができる。
【００３１】
上記元素（Ｇｅ、Ｌａ、Ａｇ）が、上記作用効果を発揮する機構について定かではないが、これらの元素が酸化／または表面に濃化することにより、酸素のＡｌ中への侵入を抑制し、Ａｌの酸化を抑制しているものと考えられる。この様な効果を十分発揮させるには、上記元素を合計で０．１％以上含有させることが好ましい。より好ましくは合計で０．２％以上である。一方、上記元素量が合計で１．５％を超えると、反射率がかえって低下し易くなるため好ましくない。これは、添加元素の酸化による透過率の上昇やＡｌとの化合物の形成による反射膜の吸収率の増加が生じるためと思われる。より好ましくは合計で１．０％以下である。
【００３２】
本発明の読み出し専用の光情報記録媒体の製造方法は、特に問わないが、例えば２層ＢＤ−ＲＯＭの製造工程において、本発明の第１反射膜として、例えば前記図２の反射膜２Ａを形成後、その上に積層される光透過層３Ａを形成する際、光硬化樹脂を均一に塗布後、基板１側から光（例えば紫外線）を、前記第１反射膜を介して前記光硬化樹脂に照射することによって上記光透過層を形成する工程を含む方法によれば、本発明の効果が存分に発揮されるので好ましい。
【００３３】
本発明の読み出し専用の光情報記録媒体は、前記図２の様に複数の情報記録面を有する光ディスクにおける複数の反射膜のうち、基板に最も近い反射膜に、上記Ａｌ基合金を用いたところに特徴がある。よって、複数の情報記録面を有する光ディスクにおける複数の反射膜のうち、第１反射膜以外の反射膜については、その成分等について特に問わず、必要とされる特性を満たすものであればよい。また、光ディスクにおけるその他の構成部分（光透過層、基板などの種類）についても特に限定されず、通常、用いられるものを採用することができる。
【００３４】
例えば基板としては、光ディスク用基板に汎用される樹脂、具体的には、例えばポリカーボネート樹脂やアクリル樹脂などを用いることができる。価格や機械的特性などを考慮すると、ポリカーボネートの使用が好ましい。
【００３５】
基板の厚さは、おおむね、０．５〜１．２ｍｍの範囲内であることが好ましい。また、基板上に形成されるピットの深さは、おおむね、５０〜１００ｎｍの範囲内であることが好ましい。
【００３６】
光透過層の種類も限定されず、例えば、紫外線硬化樹脂、ポリカーボネート樹脂等を用いることができる。光透過層の厚さは、１層光ディスクでは約１００μｍ程度であることが好ましく、２層光ディスクでは、第１の光透過層の厚さは約２５μｍ程度、第２の光透過層の厚さは約７５μｍであることが好ましい。
【００３７】
本発明の第１反射膜は、例えば、スパッタリング法、蒸着法などによって成膜することができるが、スパッタリング法が好ましい。スパッタリング法によれば、上記の合金元素がＡｌマトリックス中に均一に分散するので均質な膜が得られ、安定した光学特性や耐久性が得られるからである。
【００３８】
スパッタリング時における成膜条件は特に限定されないが、例えば、以下のような条件を採用することが好ましい。
・基板温度：室温〜５０℃
・到達真空度：１×１０−５Ｔｏｒｒ以下（１×１０−３Ｐａ以下）
・成膜時のガス圧：１〜４ｍＴｏｒｒ
・ＤＣスパッタリングパワー密度（ターゲットの単位面積当たりのＤＣスパッタリングパワー）：１．０〜２０Ｗ／ｃｍ２
【００３９】
スパッタリング法に使用するスパッタリングターゲットは、溶解・鋳造法、粉末焼結法、スプレーフォーミング法などのいずれの方法によっても製造することができるが、特に、真空溶解・鋳造法、またはスプレーフォーミング法を用いて製造することが好ましい。真空溶解・鋳造法によって製造されたＡｌ基合金スパッタリングターゲットは、窒素や酸素などの不純物成分の含有量が少なく、該スパッタリングターゲットを成膜に用いると、スパッタリング速度の安定性を確保でき、また該スパッタリングターゲットを用いて成膜された薄膜は、組成の均一性に優れている。また、スプレーフォーミング法で製造されたスパッタリングターゲットも組成の均一性が高く、該スパッタリングターゲットを成膜に用いると、厚みや組成の均一性に優れた薄膜を形成することができる。
【００４０】
前記第１反射膜の形成に用いるスパッタリングターゲットとして、前記（ａ）の成分組成を満たす反射膜を成膜する場合には、Ｔｉを０．５〜３．０％含むＡｌ基合金からなるもの；更に前記（ｂ）の通り第３元素を含む場合には、前記Ｔｉを０．５〜３．０％含むと共に、Ｇｅ、ＬａおよびＡｇよりなる群から選択される少なくとも１種を合計で０．１〜１．５％含むＡｌ基合金からなるもの；であって、反射膜の合金組成と基本的に同一であるものを用いるのがよい。このようなスパッタリングターゲットを用いることで、所望の成分組成の第１反射膜を容易に成膜することができる。
【実施例】
【００４１】
以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、下記実施例は本発明を制限するものではなく、前・後記の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えて実施することも可能であり、それらは本発明の技術的範囲に包含される。即ち、下記の実施例では、反射膜と光透過層を１層ずつのみ形成したサンプルを作製しているが、これは、２層光ディスクにおける第１反射膜の特性を評価するため形成したものである。
【００４２】
（１）初期反射率および加速環境試験前後の反射率の変化について
鏡面をもつポリカーボネート基板上に、ＤＣマグネトロンスパッタリング法により膜厚約１８ｎｍの純Ａｌ反射膜またはＡｌ基合金反射膜を形成し、反射率測定用のサンプルを作製した。スパッタリング装置には、複数のターゲットの同時放電が可能な多元スパッタリング装置（（株）アルバック製 ＣＳ−２００）を用いた。ターゲットとしては、純Ａｌ、Ａｌ−Ｔｉ合金、Ａｌ−Ｔｉ−Ｇｅ合金、または純Ａｌターゲット上に各種合金添加用の純金属を配置した複合ターゲットを用いた。
【００４３】
スパッタリング条件は、Ａｒガス流量：２０ｓｃｃｍ、Ａｒガス圧：約０．１Ｐａ、成膜パワー：２〜５Ｗ／ｃｍ２、到達真空度：２．０×１０−６Ｔｏｒｒ以下とした。成膜したＡｌ基合金膜の成分組成（表１）は、ＩＣＰ発光分光法とＩＣＰ質量分析法によって求めた。
【００４４】
上記作製したサンプルを用いて、分光光度計（日本分光（株）製 Ｖ−５７０）により波長４０５ｎｍにおける初期の反射率を測定した。その後、温度８０℃、相対湿度８５％の大気雰囲気中で１９２時間保持する恒温恒湿試験（加速環境試験）を行って試験後の反射率を測定した。そして、反射率の低下量［（試験後の反射率）−（試験前の反射率）］を求めた。上記反射率の低下量が５．０％以下（絶対値）であり、かつ、初期反射率（試験前の反射率）が７０．０％以上であり、かつ、試験後の反射率が６８．０％以上であるものを合格とした。
【００４５】
（２）加速環境試験前後のジッター値について
まず、ランド・ピットを有する厚さ１．１ｍｍのポリカーボネートＢＤ−ＲＯＭ基板上に、純Ａｌターゲット、純Ａｌターゲット上に各種合金添加用の純金属を配置した複合ターゲット、またはＡｌ合金ターゲットを用いて、ＤＣマグネトロンスパッタリング法により、厚さ１８ｎｍの表１に示す各成分組成の純Ａｌ反射膜とＡｌ基合金反射膜を形成した。尚、成膜用の装置や成膜条件は、上記（１）と同様とした。
【００４６】
次いで、上記の様にして得られた反射膜の上に、スピンコート法により厚さ１００μｍとなるよう紫外線硬化樹脂を塗布し、基板側から紫外線を照射して樹脂の硬化を行い、光透過層を形成した。このようにして各種組成の反射膜をもつ１層ＢＤ−ＲＯＭを作製した。
【００４７】
そして、パルステック社製ＯＤＵ−１０００および横河電機社製ＴＡ−８１０を用い、以下の条件でジッターを測定した。
再生レーザーパワー：０．３５ｍＷ
ディスク回転速度：４．９２ｍ／ｓ
【００４８】
次いで、上記（１）と同様にして加速環境試験を行い、試験後のジッターを求めた。そして、試験前のジッターと試験後のジッターが共に９％以下である場合を「耐久性に優れる」（長期間に亘って再生安定性に優れる）と評価した。
【００４９】
尚、表１におけるＮｏ．１９〜２１については、初期反射率、前記試験後の反射率、および前記反射率の低下量の全てが上記評価基準を満たしていないため、該ジッター値の測定は行わなかった。
これらの結果を表１に併記する。
【００５０】
【表１】
【００５１】
表１より次の様に考察できる。即ち、本発明で規定する成分を規定量含むＡｌ基合金からなる反射膜は、初期反射率が高く、かつ加速環境試験後も反射率がほとんど低下しておらず耐久性に優れている。また、初期ジッターが低く再生安定性に優れており、かつ加速環境試験後のジッターも小さく耐久性に優れており、長期間に亘って優れた再生安定性を発揮することがわかる。
【００５２】
これに対し、純Ａｌ膜や、本発明で規定する成分を含まないＡｌ基合金膜、本発明で規定する成分を含むがその含有量が規定範囲を外れているものは、高反射率を得られないか、加速環境試験により反射率が低下したり、加速環境試験後のジッターが大きくなるなど、耐久性の劣化が生じる結果となった。
【００５３】
具体的にＮｏ．１は、反射膜が純Ａｌ膜からなるため耐久性に劣っており、加速環境試験後は反射率が著しく低下し、かつジッターが増大する結果となった。
【００５４】
Ｎｏ．１６は、第３元素としてＧｅを含むものであるが、その含有量が過剰であるため、初期反射率が低めとなった。Ｎｏ．１７は、第３元素としてＬａを含むものであるが、その含有量が過剰であるため、加速環境試験後の反射率が低めとなった。またＮｏ．１８は、本発明で規定する成分でないＮｄやＴａを含むものであるため、反射率の低下量が著しい結果となった。Ｎｏ．１９〜２１は、本発明で規定する成分を含んでいない（即ち、少なくとも合金元素としてＴｉを０．５〜３．０％含んでいない）ため、初期反射率が低く、かつ反射率の低下量も大きくなる結果となった。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】図１は、読み出し専用の光情報記録媒体（１層光ディスク）の円周方向の要部を模式的に示す断面図である。
【図２】図２は、他の読み出し専用の光情報記録媒体（２層光ディスク）の円周方向の要部を模式的に示す図である。
【符号の説明】
【００５６】
１ 基板
２ 反射膜
３ 光透過層
２Ａ 第１の反射膜
２Ｂ 第２の反射膜
３Ａ 第１の光透過層
３Ｂ 第２の光透過層
１１ 第１の情報記録面
１２ 第２の情報記録面
【技術分野】
【０００１】
本発明は、青色レーザーを使用して再生を行う読み出し専用型のＢＤ（ブルーレイディスク）等の光情報記録媒体、および該光情報記録媒体の反射膜形成用スパッタリングターゲットに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
光情報記録媒体（光ディスク）は、記録再生原理に基づき、読み出し専用型、追記型、書き換え型の３種類に大別される。
【０００３】
図１に、読み出し専用の光情報記録媒体（１層光ディスク）の代表的な構成を模式的に示す。図１に示すように、読み出し専用の光情報記録媒体は、透明プラスチックなどの基板１の上に、Ａｇ、Ａｌ、Ａｕなどを主成分とする反射膜２と、光透過層３とが順次積層された構造を有している。基板１には、ランド・ピットと呼ばれる凹凸の組み合わせによる情報が記録されており、例えば、厚さ１．１ｍｍ、直径１２ｃｍのポリカーボネート製基板が用いられる。光透過層３は、例えば光透過性樹脂の塗布・硬化によって形成される。記録データの再生は、光ディスクに照射されたレーザー光の位相差や反射差を検出することによって行われる。
【０００４】
図１には、ランド・ピット（記録データ）の組み合わせによる情報が記録された基板１上に、反射膜２および光透過層３がそれぞれ１層ずつ形成された１層光ディスクを示しているが、例えば図２に示すように、第１の情報記録面１１および第２の情報記録面１２を備えた２層光ディスクも用いられる。詳細には、図２の２層光ディスクは、凹凸のランド・ピット（記録データ）の組み合わせによる情報が記録された基板１上に、第１の反射膜２Ａ、第１の光透過層３Ａ、第２の反射膜２Ｂ、および第２の光透過層３Ｂが順次積層された構成を有しており、第１の光透過層３Ａには、基板１とは別の情報がランド・ピットの組み合わせによって記録されている。
【０００５】
光ディスクに用いられる前記反射膜としては、これまで、Ａｕ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌ及びこれらを主成分とする合金が汎用されてきた。
【０００６】
このうち、Ａｕを主成分とする反射膜は、化学的安定性に優れ、記録特性の経時変化が少ないという利点を有するが、極めて高価であり、また、例えばＢＤの記録再生に使用される青色レーザー（波長４０５ｎｍ）に対し、十分高い反射率が得られないという問題がある。また、Ｃｕを主成分とする反射膜は安価であるが、従来の反射膜材料のなかで最も化学的安定性に劣っているほか、Ａｕと同様、青色レーザーに対する反射率が低いという欠点があり、用途が制限されている。これに対し、Ａｇを主成分とする反射膜では、実用波長領域である４００〜８００ｎｍの範囲で充分高い反射率を示しており、高い化学的安定性を持つことから、現在、青色レーザーを使用する光ディスクにおいて広く利用されている。
【０００７】
Ａｌは波長４０５ｎｍにおいて十分高い反射率を示し、Ａｇ、Ａｕに比べ価格が安価であるものの、Ａｇ系やＡｕ系の反射膜より化学的安定性に劣っている。よって、耐久性を確保すべく、反射膜の厚みを十分厚くする必要があり、例えばＤＶＤ−ＲＯＭでは、Ａｌ系反射膜の膜厚を４０ｎｍ程度と十分厚くすることで耐久性を確保している。
【０００８】
しかし、例えば２層ＢＤ−ＲＯＭの製造工程では、前記図２の基板１に最も近い反射膜である反射膜２Ａ（以下、この様に基板に最も近い反射膜を、特に「第１反射膜」ということがある）が形成された後、その上に光透過層３Ａを形成する際、光硬化樹脂を均一に塗布後、基板１側から光を、反射膜２Ａを介して前記塗布した光硬化樹脂に照射することで、該樹脂を硬化させて上記光透過層３Ａを形成する場合がある。この場合、前記第１反射膜は、ある程度の光透過性を示す必要があり、そのためには、第１反射膜の膜厚を例えば３０ｎｍ以下と薄くする必要がある。しかしながら、Ａｌ系反射膜の膜厚をこの様に薄くすると、作製直後は良好な特性が得られるものの、反射膜の経時変化により、ジッター（再生信号の時間軸上のゆらぎ）が大きくなったり、反射率が低下するといった問題がある。
【０００９】
光ディスクの反射膜にＡｌ系合金を用いた技術として、例えば特許文献１には、希土類元素を０．０５〜３原子％含むＡｌ合金からなる反射膜が開示されており、希土類元素として、Ｙ、Ｎｄ、Ｇｄが挙げられている。
【００１０】
特許文献２には、光記録媒体用反射膜として、Ｍｇを０．１〜１５質量％含有し、さらに必要に応じて希土類元素の内の１種または２種以上を合計で０．１〜１０質量％含有し、残部がＡｌおよび不可避不純物からなり、該不可避不純物が１００ｐｐｍ以下であるＡｌ合金からなるものが示されている。また特許文献３には、温度や湿度が急激に変化する条件下でも良好な耐久性を有する再生専用型光ディスクとして、４％Ｔａを含有するＡｌ反射膜（厚さ１００ｎｍ）を備えた光ディスクが実施例の欄に開示されている。
【００１１】
しかし、特許文献１の実施例に示された反射膜は膜厚が４０ｎｍであり、また特許文献２に開示された反射膜も膜厚が１００ｎｍであり、いずれも厚いものとなっている。更に、特許文献３において、実施例で成膜した反射膜の膜厚は１００ｎｍであることから、いずれにおいても、上述した様な製造工程での光透過性が要求される第１反射膜を想定したものではない。
【００１２】
また特許文献４では、半透明反射層として、所定の透過率と反射率を有すると共に、耐食性及び耐凝集性といった化学的安定性にも良好なものを得るべく、Ａｌ基合金の組成について検討されている。しかし、この特許文献４は、上記の通り半透明反射層を対象とするものであって、十分な反射率を必要とする第１反射膜に関するものではない。
【特許文献１】米国特許第５，６４３，６５０号公報
【特許文献２】特開２００７−６６４１７号公報
【特許文献３】特公平７−６２９１９号公報
【特許文献４】特開２００３−１７３５７６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明はこの様な事情に鑑みてなされたものであって、その目的は、製造時に必要とされる光透過性を確保しつつ、十分高い反射率を有し、かつ、光情報記録媒体に用いた場合に再生安定性に優れると共に耐久性にも優れる反射膜（第１反射膜）を備えた、青色レーザーを使用する読み出し専用の光情報記録媒体（例えばＢＤ−ＲＯＭ）を提供すること、およびその反射膜形成用スパッタリングターゲットを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明に係る読み出し専用の光情報記録媒体とは、基板上に反射膜および光透過層の積層が複数形成された構造を含み、青色レーザーにより情報の再生が行われる読み出し専用の光情報記録媒体であって、前記反射膜のうち前記基板に最も近い反射膜（第１反射膜）が、（ａ）Ｔｉを０．５〜３．０％（特記しない限り、成分において、％は原子％を意味する。以下同じ。）含有するＡｌ基合金からなり、且つその膜厚が１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下であるところに特徴を有する。
【００１５】
前記第１反射膜としては、上記（ａ）Ｔｉを０．５〜３．０％含有すると共に、更に（ｂ）Ｇｅ、ＬａおよびＡｇよりなる群から選択される少なくとも１種を合計で０．１〜１．５％含むＡｌ基合金からなるものが好ましい。
【００１６】
本発明には、前記第１反射膜形成用のスパッタリングターゲット、即ち、基板上に反射膜および光透過層の積層が複数形成された構造を含み、青色レーザーにより情報の再生が行われる読み出し専用の光情報記録媒体における、前記基板に最も近い反射膜形成用のスパッタリングターゲットであって、Ｔｉを０．５〜３．０％含有するＡｌ基合金からなる点に特徴を有するスパッタリングターゲットも含まれる。
【００１７】
前記スパッタリングターゲットは、必要に応じて、更に、Ｇｅ、ＬａおよびＡｇよりなる群から選択される少なくとも１種を合計で０．１〜１．５％含むＡｌ基合金からなるものであってもよい。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、読み出し専用の光情報記録媒体の製造工程において、光透過層形成時の樹脂硬化を良好に行えると共に、該光情報記録媒体として、高反射率および低ジッターを示し、信号の書込み・読み取り特性（再生安定性）に非常に優れたものが得られる。また、本発明の好ましい態様によれば、加速環境試験後も高反射率かつ低ジッターを示すため、耐久性に優れた読み出し専用の光情報記録媒体を提供することができる。更に、従来のＡｇ合金を使用した光情報記録媒体と比較して製造コストの抑えられた読み出し専用の光情報記録媒体を提供することができる。
【００１９】
本発明の光情報記録媒体は、特に、青色レーザーを用いて再生を行うＢＤ−ＲＯＭ（特には２層ＢＤ−ＲＯＭ）などの光情報記録媒体（光ディスク）に好適に用いられる。
【００２０】
尚、本明細書において、「再生安定性に優れる」とは、後述する実施例で示す通り、初期ジッターが９％以下であることを意味する。また「耐久性に優れる」とは、後述する実施例で示す通り、温度８０℃、相対湿度約８５％の環境下で１９２時間保持する加速環境試験を行ったときの、加速環境試験前後の反射率の低下量（試験後の反射率−試験前の反射率）が５．０％以下（絶対値）であり、かつ加速環境試験前後のジッターがいずれも９％以下であることを意味する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
本発明者は、前記情報記録面を複数層備えた光ディスクにおける、基板に最も近い位置の反射膜（第１反射膜）として、
・全反射膜としてある程度の反射率を示す；と共に、
・該第１反射膜上の光透過層形成の際、基板側から第１反射膜を介して光を照射したときに、光透過層の形成に用いられる樹脂の光硬化が十分行われる程度の光透過性を示す；
反射膜を得るべく、まず、その膜厚について検討した。
【００２２】
その結果、第１反射膜の膜厚が薄すぎると、透過光が大きくなり、相対的に反射光が小さくなるため、ディスクの再生に必要な信号強度が得られなくなる。本発明では、後述する実施例で示す通り初期反射率７０．０％以上を確保すべく、第１反射膜の膜厚を１０ｎｍ以上とする。一方、膜厚が３０ｎｍを超えると、第１反射膜の光透過率が小さくなり、上記光透過層形成の際、基板側からの光（例えば紫外線）が該反射膜を十分透過せず、結果として、上記光透過層を構成する樹脂を十分に硬化することができない。また、光情報記録媒体の作製初期におけるジッターが大きくなるといった問題も生じる。よって本発明では、第１反射膜の膜厚の上限を３０ｎｍとする。好ましくは２５ｎｍ以下、更に好ましくは２０ｎｍ以下である。
【００２３】
本発明者は、上記観点から、第１反射膜の膜厚を１０〜３０ｎｍと決定した上で、この様に反射膜の膜厚が薄い場合には、上述した通り耐久性が劣化し易いことに鑑みて、特にその耐久性を高めるべく、該反射膜を構成するＡｌ基合金の成分組成について鋭意研究を行った。まず、新規Ａｌ基合金を開発するに当たり、反射膜の膜厚と再生安定性および耐久性との相関について、純Ａｌ膜の挙動を調査した。
【００２４】
具体的には、純Ａｌスパッタリングターゲットを用い、厚さの異なる純Ａｌ膜を成膜して、各純Ａｌ膜の初期反射率を測定すると共に、加速環境試験を行った後の反射率を測定し、純Ａｌ膜の経時変化による反射率・透過率の変化（耐久性）を調べた。また、純Ａｌスパッタリングターゲットを用い、ランド・ピットが形成されたポリカーボネート基板上にスパッタリング法によって厚さの異なる純Ａｌ膜を成膜した後、紫外線硬化樹脂の光透過層を成膜した１層ＢＤ−ＲＯＭディスクを作製した。次いで、ディスク作製後のジッターを測定すると共に、加速環境試験を行った後のジッターを測定し、ジッターの観点から耐久性を評価した。
【００２５】
その結果、ＢＤ−ＲＯＭの反射膜として純Ａｌ膜を形成した場合、該反射膜の膜厚を１５ｎｍ以上とすると、ジッターが増大することが判明した。一方、反射膜の厚さが約１５ｎｍ以下では、低ジッターが得られる反面、反射率が低下した。また、耐久性試験（温度８０℃、相対湿度約８５％の高温高湿環境下に保持する加速環境試験）後には、ジッターが増大すると共に反射率が大きく低下することが判明した。
【００２６】
本発明者は、上記結果をふまえ、反射膜の厚さを上記の通り薄くしても、再生安定性および耐久性に優れる反射膜を実現すべく、該反射膜の成分組成について鋭意検討を行った結果、ＡｌにＴｉを添加すれば、純Ａｌ膜が示す高い初期反射率を維持できると共に、経時変化によるジッターの増大と反射率の低下を抑制できる（特に、ジッターの増大を抑制できる）ことを見出した。
【００２７】
この様にＴｉを添加することでジッターの増大を十分に抑制できた理由について明らかではないが、純ＡｌにＴｉを添加することで、Ａｌ系薄膜の結晶組織の微細化に寄与し、光情報記録媒体の作製初期におけるジッター値を良好に保ち、かつＡｌ原子の相互拡散が抑制され、Ａｌの粒成長に伴う表面粗度の増大が抑制されて、ジッター値の経時変化が抑制されているものと考えられる。
【００２８】
この様な効果を十分に発揮させるには、Ｔｉを０．５％以上含有させる必要がある。これよりも少ないと、ジッター値の増大抑制の効果が不十分であり、経時変化によりジッターが増大するため好ましくない。Ｔｉ量は好ましくは１．０％以上である。
【００２９】
一方、Ｔｉ量が３．０％を超えると、膜の吸収率が増加して、光透過層の光硬化のための十分な透過率が得られなくなる。よって、Ｔｉ量の上限を３．０％とした。好ましい上限は２．５％である。
【００３０】
本発明の第１反射膜として、更に、Ｇｅ、ＬａおよびＡｇから選ばれる少なくとも１種を合計で０．１〜１．５％含むＡｌ基合金からなるものとすれば、経時変化による反射率の低下をより抑制でき、結果として、光ディスクの耐久性をより高めることができる。
【００３１】
上記元素（Ｇｅ、Ｌａ、Ａｇ）が、上記作用効果を発揮する機構について定かではないが、これらの元素が酸化／または表面に濃化することにより、酸素のＡｌ中への侵入を抑制し、Ａｌの酸化を抑制しているものと考えられる。この様な効果を十分発揮させるには、上記元素を合計で０．１％以上含有させることが好ましい。より好ましくは合計で０．２％以上である。一方、上記元素量が合計で１．５％を超えると、反射率がかえって低下し易くなるため好ましくない。これは、添加元素の酸化による透過率の上昇やＡｌとの化合物の形成による反射膜の吸収率の増加が生じるためと思われる。より好ましくは合計で１．０％以下である。
【００３２】
本発明の読み出し専用の光情報記録媒体の製造方法は、特に問わないが、例えば２層ＢＤ−ＲＯＭの製造工程において、本発明の第１反射膜として、例えば前記図２の反射膜２Ａを形成後、その上に積層される光透過層３Ａを形成する際、光硬化樹脂を均一に塗布後、基板１側から光（例えば紫外線）を、前記第１反射膜を介して前記光硬化樹脂に照射することによって上記光透過層を形成する工程を含む方法によれば、本発明の効果が存分に発揮されるので好ましい。
【００３３】
本発明の読み出し専用の光情報記録媒体は、前記図２の様に複数の情報記録面を有する光ディスクにおける複数の反射膜のうち、基板に最も近い反射膜に、上記Ａｌ基合金を用いたところに特徴がある。よって、複数の情報記録面を有する光ディスクにおける複数の反射膜のうち、第１反射膜以外の反射膜については、その成分等について特に問わず、必要とされる特性を満たすものであればよい。また、光ディスクにおけるその他の構成部分（光透過層、基板などの種類）についても特に限定されず、通常、用いられるものを採用することができる。
【００３４】
例えば基板としては、光ディスク用基板に汎用される樹脂、具体的には、例えばポリカーボネート樹脂やアクリル樹脂などを用いることができる。価格や機械的特性などを考慮すると、ポリカーボネートの使用が好ましい。
【００３５】
基板の厚さは、おおむね、０．５〜１．２ｍｍの範囲内であることが好ましい。また、基板上に形成されるピットの深さは、おおむね、５０〜１００ｎｍの範囲内であることが好ましい。
【００３６】
光透過層の種類も限定されず、例えば、紫外線硬化樹脂、ポリカーボネート樹脂等を用いることができる。光透過層の厚さは、１層光ディスクでは約１００μｍ程度であることが好ましく、２層光ディスクでは、第１の光透過層の厚さは約２５μｍ程度、第２の光透過層の厚さは約７５μｍであることが好ましい。
【００３７】
本発明の第１反射膜は、例えば、スパッタリング法、蒸着法などによって成膜することができるが、スパッタリング法が好ましい。スパッタリング法によれば、上記の合金元素がＡｌマトリックス中に均一に分散するので均質な膜が得られ、安定した光学特性や耐久性が得られるからである。
【００３８】
スパッタリング時における成膜条件は特に限定されないが、例えば、以下のような条件を採用することが好ましい。
・基板温度：室温〜５０℃
・到達真空度：１×１０−５Ｔｏｒｒ以下（１×１０−３Ｐａ以下）
・成膜時のガス圧：１〜４ｍＴｏｒｒ
・ＤＣスパッタリングパワー密度（ターゲットの単位面積当たりのＤＣスパッタリングパワー）：１．０〜２０Ｗ／ｃｍ２
【００３９】
スパッタリング法に使用するスパッタリングターゲットは、溶解・鋳造法、粉末焼結法、スプレーフォーミング法などのいずれの方法によっても製造することができるが、特に、真空溶解・鋳造法、またはスプレーフォーミング法を用いて製造することが好ましい。真空溶解・鋳造法によって製造されたＡｌ基合金スパッタリングターゲットは、窒素や酸素などの不純物成分の含有量が少なく、該スパッタリングターゲットを成膜に用いると、スパッタリング速度の安定性を確保でき、また該スパッタリングターゲットを用いて成膜された薄膜は、組成の均一性に優れている。また、スプレーフォーミング法で製造されたスパッタリングターゲットも組成の均一性が高く、該スパッタリングターゲットを成膜に用いると、厚みや組成の均一性に優れた薄膜を形成することができる。
【００４０】
前記第１反射膜の形成に用いるスパッタリングターゲットとして、前記（ａ）の成分組成を満たす反射膜を成膜する場合には、Ｔｉを０．５〜３．０％含むＡｌ基合金からなるもの；更に前記（ｂ）の通り第３元素を含む場合には、前記Ｔｉを０．５〜３．０％含むと共に、Ｇｅ、ＬａおよびＡｇよりなる群から選択される少なくとも１種を合計で０．１〜１．５％含むＡｌ基合金からなるもの；であって、反射膜の合金組成と基本的に同一であるものを用いるのがよい。このようなスパッタリングターゲットを用いることで、所望の成分組成の第１反射膜を容易に成膜することができる。
【実施例】
【００４１】
以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、下記実施例は本発明を制限するものではなく、前・後記の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えて実施することも可能であり、それらは本発明の技術的範囲に包含される。即ち、下記の実施例では、反射膜と光透過層を１層ずつのみ形成したサンプルを作製しているが、これは、２層光ディスクにおける第１反射膜の特性を評価するため形成したものである。
【００４２】
（１）初期反射率および加速環境試験前後の反射率の変化について
鏡面をもつポリカーボネート基板上に、ＤＣマグネトロンスパッタリング法により膜厚約１８ｎｍの純Ａｌ反射膜またはＡｌ基合金反射膜を形成し、反射率測定用のサンプルを作製した。スパッタリング装置には、複数のターゲットの同時放電が可能な多元スパッタリング装置（（株）アルバック製 ＣＳ−２００）を用いた。ターゲットとしては、純Ａｌ、Ａｌ−Ｔｉ合金、Ａｌ−Ｔｉ−Ｇｅ合金、または純Ａｌターゲット上に各種合金添加用の純金属を配置した複合ターゲットを用いた。
【００４３】
スパッタリング条件は、Ａｒガス流量：２０ｓｃｃｍ、Ａｒガス圧：約０．１Ｐａ、成膜パワー：２〜５Ｗ／ｃｍ２、到達真空度：２．０×１０−６Ｔｏｒｒ以下とした。成膜したＡｌ基合金膜の成分組成（表１）は、ＩＣＰ発光分光法とＩＣＰ質量分析法によって求めた。
【００４４】
上記作製したサンプルを用いて、分光光度計（日本分光（株）製 Ｖ−５７０）により波長４０５ｎｍにおける初期の反射率を測定した。その後、温度８０℃、相対湿度８５％の大気雰囲気中で１９２時間保持する恒温恒湿試験（加速環境試験）を行って試験後の反射率を測定した。そして、反射率の低下量［（試験後の反射率）−（試験前の反射率）］を求めた。上記反射率の低下量が５．０％以下（絶対値）であり、かつ、初期反射率（試験前の反射率）が７０．０％以上であり、かつ、試験後の反射率が６８．０％以上であるものを合格とした。
【００４５】
（２）加速環境試験前後のジッター値について
まず、ランド・ピットを有する厚さ１．１ｍｍのポリカーボネートＢＤ−ＲＯＭ基板上に、純Ａｌターゲット、純Ａｌターゲット上に各種合金添加用の純金属を配置した複合ターゲット、またはＡｌ合金ターゲットを用いて、ＤＣマグネトロンスパッタリング法により、厚さ１８ｎｍの表１に示す各成分組成の純Ａｌ反射膜とＡｌ基合金反射膜を形成した。尚、成膜用の装置や成膜条件は、上記（１）と同様とした。
【００４６】
次いで、上記の様にして得られた反射膜の上に、スピンコート法により厚さ１００μｍとなるよう紫外線硬化樹脂を塗布し、基板側から紫外線を照射して樹脂の硬化を行い、光透過層を形成した。このようにして各種組成の反射膜をもつ１層ＢＤ−ＲＯＭを作製した。
【００４７】
そして、パルステック社製ＯＤＵ−１０００および横河電機社製ＴＡ−８１０を用い、以下の条件でジッターを測定した。
再生レーザーパワー：０．３５ｍＷ
ディスク回転速度：４．９２ｍ／ｓ
【００４８】
次いで、上記（１）と同様にして加速環境試験を行い、試験後のジッターを求めた。そして、試験前のジッターと試験後のジッターが共に９％以下である場合を「耐久性に優れる」（長期間に亘って再生安定性に優れる）と評価した。
【００４９】
尚、表１におけるＮｏ．１９〜２１については、初期反射率、前記試験後の反射率、および前記反射率の低下量の全てが上記評価基準を満たしていないため、該ジッター値の測定は行わなかった。
これらの結果を表１に併記する。
【００５０】
【表１】
【００５１】
表１より次の様に考察できる。即ち、本発明で規定する成分を規定量含むＡｌ基合金からなる反射膜は、初期反射率が高く、かつ加速環境試験後も反射率がほとんど低下しておらず耐久性に優れている。また、初期ジッターが低く再生安定性に優れており、かつ加速環境試験後のジッターも小さく耐久性に優れており、長期間に亘って優れた再生安定性を発揮することがわかる。
【００５２】
これに対し、純Ａｌ膜や、本発明で規定する成分を含まないＡｌ基合金膜、本発明で規定する成分を含むがその含有量が規定範囲を外れているものは、高反射率を得られないか、加速環境試験により反射率が低下したり、加速環境試験後のジッターが大きくなるなど、耐久性の劣化が生じる結果となった。
【００５３】
具体的にＮｏ．１は、反射膜が純Ａｌ膜からなるため耐久性に劣っており、加速環境試験後は反射率が著しく低下し、かつジッターが増大する結果となった。
【００５４】
Ｎｏ．１６は、第３元素としてＧｅを含むものであるが、その含有量が過剰であるため、初期反射率が低めとなった。Ｎｏ．１７は、第３元素としてＬａを含むものであるが、その含有量が過剰であるため、加速環境試験後の反射率が低めとなった。またＮｏ．１８は、本発明で規定する成分でないＮｄやＴａを含むものであるため、反射率の低下量が著しい結果となった。Ｎｏ．１９〜２１は、本発明で規定する成分を含んでいない（即ち、少なくとも合金元素としてＴｉを０．５〜３．０％含んでいない）ため、初期反射率が低く、かつ反射率の低下量も大きくなる結果となった。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】図１は、読み出し専用の光情報記録媒体（１層光ディスク）の円周方向の要部を模式的に示す断面図である。
【図２】図２は、他の読み出し専用の光情報記録媒体（２層光ディスク）の円周方向の要部を模式的に示す図である。
【符号の説明】
【００５６】
１ 基板
２ 反射膜
３ 光透過層
２Ａ 第１の反射膜
２Ｂ 第２の反射膜
３Ａ 第１の光透過層
３Ｂ 第２の光透過層
１１ 第１の情報記録面
１２ 第２の情報記録面
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に反射膜および光透過層の積層が複数形成された構造を含み、青色レーザーにより情報の再生が行われる読み出し専用の光情報記録媒体であって、
前記反射膜のうち前記基板に最も近い反射膜が、Ｔｉを０．５〜３．０％（特記しない限り、成分において、％は原子％を意味する。以下同じ。）含有するＡｌ基合金からなり、且つその膜厚が１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下であることを特徴とする読み出し専用の光情報記録媒体。
【請求項２】
前記Ａｌ基合金は、更に、Ｇｅ、ＬａおよびＡｇよりなる群から選択される少なくとも１種を合計で０．１〜１．５％含むものである請求項１に記載の読み出し専用の光情報記録媒体。
【請求項３】
基板上に反射膜および光透過層の積層が複数形成された構造を含み、青色レーザーにより情報の再生が行われる読み出し専用の光情報記録媒体における、前記基板に最も近い反射膜形成用のスパッタリングターゲットであって、Ｔｉを０．５〜３．０％含有するＡｌ基合金からなることを特徴とする読み出し専用の光情報記録媒体の反射膜形成用スパッタリングターゲット。
【請求項４】
更に、Ｇｅ、ＬａおよびＡｇよりなる群から選択される少なくとも１種を合計で０．１〜１．５％含むＡｌ基合金からなる請求項３に記載の読み出し専用の光情報記録媒体の反射膜形成用スパッタリングターゲット。
【請求項１】
基板上に反射膜および光透過層の積層が複数形成された構造を含み、青色レーザーにより情報の再生が行われる読み出し専用の光情報記録媒体であって、
前記反射膜のうち前記基板に最も近い反射膜が、Ｔｉを０．５〜３．０％（特記しない限り、成分において、％は原子％を意味する。以下同じ。）含有するＡｌ基合金からなり、且つその膜厚が１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下であることを特徴とする読み出し専用の光情報記録媒体。
【請求項２】
前記Ａｌ基合金は、更に、Ｇｅ、ＬａおよびＡｇよりなる群から選択される少なくとも１種を合計で０．１〜１．５％含むものである請求項１に記載の読み出し専用の光情報記録媒体。
【請求項３】
基板上に反射膜および光透過層の積層が複数形成された構造を含み、青色レーザーにより情報の再生が行われる読み出し専用の光情報記録媒体における、前記基板に最も近い反射膜形成用のスパッタリングターゲットであって、Ｔｉを０．５〜３．０％含有するＡｌ基合金からなることを特徴とする読み出し専用の光情報記録媒体の反射膜形成用スパッタリングターゲット。
【請求項４】
更に、Ｇｅ、ＬａおよびＡｇよりなる群から選択される少なくとも１種を合計で０．１〜１．５％含むＡｌ基合金からなる請求項３に記載の読み出し専用の光情報記録媒体の反射膜形成用スパッタリングターゲット。
【図１】
【図２】
【図２】
【公開番号】特開２０１０−６７３２０（Ｐ２０１０−６７３２０Ａ）
【公開日】平成２２年３月２５日（２０１０．３．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−２３３９１７（Ｐ２００８−２３３９１７）
【出願日】平成２０年９月１１日（２００８．９．１１）
【出願人】（０００００１１９９）株式会社神戸製鋼所 (5,860)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年３月２５日（２０１０．３．２５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年９月１１日（２００８．９．１１）
【出願人】（０００００１１９９）株式会社神戸製鋼所 (5,860)
【Ｆターム（参考）】
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