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Fターム[5D121EE09]の内容

光記録担体の製造 (9,591) | 担体各層の形成 (2,196) | 気相法による薄膜形成 (765) | 薄膜形成材料 (331) | スパッタリングターゲット (134)

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【課題】 膜の良好な平坦性および耐紫外線性を有すると共に酸化による反射率の低下を防ぐことができる光記録媒体の反射膜形成用銀合金スパッタリングターゲットおよびこのターゲットを用いて成膜した光記録媒体の反射膜を提供する。
【解決手段】 反射膜形成用銀合金スパッタリングターゲットが、In:0.5〜10質量%およびZn:0.5〜10質量%を含有し、残部がAgおよび不可避不純物からなる組成の銀合金からなる。または、In:0.5〜10質量%、Zn:0.5〜10質量%およびCu:0.5〜2質量%を含有し、残部がAgおよび不可避不純物からなる組成の銀合金からなる。 (もっと読む)


【課題】反射膜の膜厚が約25nm以下に薄く調整されていても、光情報記録媒体での反射率やジッター値などの初期特性に優れていることは勿論のこと、高温高湿下で長期間保管した場合であってもこれらの特性が劣化することがなく、耐久性に優れた光情報記録媒体用反射膜を提供する。
【解決手段】本発明の光情報記録媒体用反射膜は、Siを0.5〜10%、および/またはGeを0.5〜10%と、高融点金属元素を0.2〜1.0%含むAl基合金からなる。上記反射膜の膜厚は25nm以下である。 (もっと読む)


【課題】焼結後の冷却時における割れの発生を抑制することができる酸化物スパッタリングターゲット及びその製造方法並びにこれに用いる緩衝粉を提供すること。
【解決手段】焼結後の冷却時に膨張する金属酸化物粉を含む圧粉体を形成する工程と、該圧粉体を型内に配置し該型内の前記圧粉体の外周に緩衝粉を充填した状態で熱間加工して酸化物スパッタリングターゲットとなる酸化物焼結体4を作製する工程とを有し、緩衝粉3を、熱間加工時の加熱により焼結すると共に焼結後の冷却時に酸化物焼結体4の膨張により緩衝粉3による焼結体が割れる粉末とする。 (もっと読む)


【課題】光記録媒体保護膜形成用として、割れやInの溶出がなく製造工程を簡素化でき、高密度が得られる酸化物スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】酸化物スパッタリングターゲットが、ZrO,InおよびZnOを含有し、ZrO相の周囲がInとZnとの酸化物からなる複合酸化物相を含む相で囲まれた組織を有する。さらに、不可避不純物を除いた全金属成分量に対する原子比で、Zr:A%,InおよびZn:残とされており、これらの成分組成が、0<A≦47.6、0.22≦In(原子比)/Zn(原子比)≦4.68、の関係を満たすことが好ましい。 (もっと読む)


【課題】優れた透過特性を有する光情報記録媒体用記録層およびそれを備える光情報記録媒体を提供する。
【解決手段】光情報記録媒体は、基板と、基板上に設けられた2以上の記録層と、記録層上に設けられた保護層とを備える。基板および保護層の側のいずれか一方の表面が、2以上の記録層に情報信号を記録するための光が照射される光照射面である。光照射面から最も奥側となる記録層以外の記録層のうちの少なくとも1層が、W酸化物、Pd酸化物、およびCu酸化物を主成分として含み、W酸化物、Pd酸化物、およびCu酸化物にそれぞれ含まれるW、Pd、およびCuの割合が、0.17≦x1(但し、x1=a/(b+0.8c)、a:W、Pd、およびCuの合計に対するWの原子比率[原子%]、b:W、Pd、およびCuの合計に対するPdの原子比率[原子%]、c:W、Pd、およびCuの合計に対するCuの原子比率[原子%])の関係を満たすである。 (もっと読む)


【課題】記録特性の優れた光情報記録媒体用記録層、その記録層を備えた光情報記録媒体、および上記記録層の形成に有用なスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】レーザー光の照射により記録が行われる記録層であって、Ag酸化物と;In酸化物、Sn酸化物、およびZn酸化物よりなる群から選択される少なくとも一種の酸化物と、を含む光情報記録媒体用記録層である。 (もっと読む)


【課題】メモリー点と非メモリー部との界面付近に偏析濃縮し、書き換え回数及び消去率の低下の原因となる不純物、特に結晶化速度に影響を与える不純物元素を極力減少させると共に、目標組成に対するターゲットの組成のずれ及び成分偏析を減少させて、相変化型メモリーの書き換え特性、結晶化速度を向上させることができる相変化型メモリー用スパッタリングターゲット及び相変化メモリー用膜を提供する。
【解決手段】3元系以上の元素からなり、アンチモン、テルル又はセレンから選んだ1成分以上を主成分とし、目標組成に対する組成のずれが±1.0at%以下であって、ガス成分を除く純度が99.995wt%以上であり、ガス成分である炭素、窒素、酸素、硫黄の総量が700ppm以下である相変化型メモリー用スパッタリングターゲット及び該ターゲットを用いて形成された相変化メモリー用膜。 (もっと読む)


【課題】面内均一性に極めて優れたAg系薄膜を形成するのに有用なAg系スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】Ag系スパッタリングターゲットのスパッタリング面の平均結晶粒径daveを下記手順(1)〜(3)によって測定したとき、平均結晶粒径daveは10μm以下を満足する。(手順1)スパッタリング面の面内に任意に複数箇所を選択し、選択した各箇所の顕微鏡写真(倍率:40〜2000倍)を撮影する。(手順2)各顕微鏡写真について、井桁状または放射線状に4本以上の直線を引き、直線上にある結晶粒界の数nを調べ、各直線ごとに下式に基づいて結晶粒径dを算出する。d=L/n/m式中、Lは直線の長さ、nは直線上の結晶粒界の数、mは顕微鏡写真の倍率を示す。(手順3)全選択箇所の結晶粒径dの平均値をスパッタリング面の平均結晶粒径daveとする。 (もっと読む)


【課題】Crを含有した酸化物スパッタリングターゲットであっても、防着板からのdepo膜の剥がれ落ちを抑制可能な酸化物スパッタリングターゲットおよびこれを用いて成膜された光記録媒体用酸化物膜を提供すること。
【解決手段】ZnOおよびCrを含有する酸化物スパッタリングターゲットであって、さらにSiOを含有し、不可避不純物を除いた全金属成分量に対する原子比で、Zn:p%、Cr:q%およびSi:100−p−q%とされており、これらの成分組成が、33≦p≦90、8≦q≦65、85≦(p+q)≦99の関係を満たしている。 (もっと読む)


【課題】光情報記録媒体の特性の向上及び生産性を大幅に改善するスパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】酸化錫相(110)のピーク強度I1と酸化錫以外の酸化物あるいは複合酸化物相のX線回折図における2θ=15〜40°の範囲に存在する最大ピーク強度I2がI2/I1=0.1〜1であることを特徴とする酸化錫と酸化亜鉛と3価以上の元素の酸化物を主成分としたスパッタリングターゲット。硫化物を含まない酸化錫粉、酸化亜鉛粉、及び3価以上の元素の酸化物粉を混合して800〜1300℃で仮焼し、粉砕、造粒処理を経て加圧成形を行った後、焼結して製造することを特徴とするスパッタリングターゲットの製造方法。 (もっと読む)


【課題】光メディアの記録信頼性を向上できる、スパッタリングターゲットの製造方法等を提供する。
【解決手段】石英ガラス容器及び石英ガラスボールを備えたボールミル中において石英粒子を粉砕する粉砕工程と、粉砕工程後のボールミル中にさらにZnO粒子を添加し、粉砕された石英粒子とZnO粒子とを前記ボールミル中で混合することにより混合物を得る混合工程と、混合物を焼結する工程と、を備える製造方法により得られる、SiO及びZnOを主成分とする干渉膜24を有する光メディアスパッタリングターゲット。 (もっと読む)


【課題】SiO系酸化物を含む材料を採用するとともに、隣接する反射層、記録層の劣化が生じ難く、密着性が良好で、尚且つ高速成膜可能であるスパッタリングターゲット及びその製造方法並びに光情報記録媒体用薄膜(特に保護膜としての使用)及びその製造方法を提供する。
【解決手段】酸化錫相(110)のピーク強度I1と酸化錫以外の酸化物あるいは複合酸化物相のX線回折図における2θ=15〜40°の範囲に存在する最大ピーク強度I2がI2/I1=0.1〜1であることを特徴とする酸化錫と酸化亜鉛と3価以上の元素の酸化物を主成分としたスパッタリングターゲット及びその製造方法並びに前記スパッタリングターゲットを用いた光情報記録媒体用薄膜(特に保護膜としての使用)及びその製造方法。 (もっと読む)


【課題】高屈折率でありかつ光メディアの保存性を十分に確保できる干渉層を有する光メディア、この干渉層の製造に用いるスパッタリングターゲット、及び、光メディアの製造方法を提供する。
【解決手段】光記録層24と、光記録層24の上、及び/又は、下に配置された干渉層22と、を備える光メディア200である。干渉層22は、45〜90mol%のTiOと、残部のZnOと、からなる。 (もっと読む)


【課題】高線速度記録が可能で、広い線速度範囲で高品質の信号が得られ、かつ信号保存性に優れた情報記録媒体を提供する。
【解決手段】本発明の情報記録媒体は、レーザビームの照射または電流の印加によって、相変化を起こす記録層15を有する情報記録媒体1である。前記記録層15は、第1構成層〜第X構成層(Xは2以上の整数)を、前記記録層15の厚み方向に順に配置することによって形成されている。前記第1構成層〜前記第X構成層のうち少なくとも何れか1つの構成層である第m構成層(mは1≦m≦Xを満たす整数)が、Ge−SbまたはTeを含む。 (もっと読む)


【課題】相変化記録媒体の界面層膜の結晶化促進機能と光学的特性とを両立させた金属化合物膜の成膜等を可能にするスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】スパッタリングターゲットは、M(O1-xxz(MはTi、ZrおよびHfから選ばれる少なくとも1種の元素、0.1≦x≦0.5、0.5≦z≦2.0(原子比))で表される組成を有する。このようなスパッタリングターゲットを用いて成膜した金属酸窒化膜は、相変化記録媒体1の界面層4、6等に使用される。 (もっと読む)


【課題】光情報記録媒体(例えばBD−ROM)の反射膜として適切な反射率を示すと共に、再生安定性に優れ、かつ耐久性にも極めて優れた反射膜を備えた、読み出し専用光情報記録媒体を提供する。
【解決手段】反射膜を有する読み出し専用の光情報記録媒体であって、前記反射膜は、Siおよび/またはGeを5〜40%(特記しない限り、成分において%は原子%を意味する。以下同じ。)含むと共に、高融点金属元素および/または希土類元素(好ましくは、Ti、FeおよびMnよりなる群から選択される1種以上の元素)を0.7〜5%含むAl基合金からなることを特徴とする光情報記録媒体。 (もっと読む)


【課題】 ZrS系薄膜よりも短波長のレーザー光に対する屈折率が高く、耐熱衝撃性に優れ、かつ熱に対して高い安定性を有するとともに、直流スパッタリング等の効率の良いデポジション法によって成膜することが可能な薄膜を提供する。
【解決手段】酸化チタン系薄膜は、酸化チタンを主成分とし、副成分として酸化ニオブを含有してなり、400nmの波長光に対する屈折率が2.5以上であり、かつ非晶質構造を有する。この酸化チタン系薄膜は、例えば光記録媒体に用いられる。 (もっと読む)


【課題】従来と同程度の高い屈折率と、安定した高い成膜レートとを併せ持つ優れた透過率調整層を備えた情報記録媒体を提供する。
【解決手段】本発明の情報記録媒体は、基板1上にN個の情報層(Nは2以上の整数)が設けられている。各情報層11,12にレーザビーム4が照射されることによって、情報の記録および再生が行われる。前記N個の情報層を、レーザビーム入射側と反対側から順に第1情報層〜第N情報層とした場合、N個の情報層に含まれる第L情報層(Lは、2≦L≦Nを満たす整数)が、少なくとも、レーザビームの照射によって相変化を起こしうる記録層135と、反射層132と、透過率調整層131とを、レーザビーム入射側からこの順で含んでいる。透過率調整層131は、TiおよびBiの少なくともいずれか一方と、Nbと、酸素(O)とを含む。透過率調整層131におけるNbの含有割合は、2.9原子%以上26.5原子%以下である。 (もっと読む)


【課題】比較的価格の安いアルミを主成分としかつ希土類金属を使用しない、表面平滑性に優れた光メディアの反射層用スパッタリングターゲット、及び、その製造方法提供する。
【解決手段】光メディアの反射層用スパッタリングターゲットは、Alを主成分とし、Ta及びNbからなる群より選択される1又は2種の元素を1〜10at%、及び、Agを0.1〜10at%含む。光メディアの反射層用スパッタリングターゲットの製造方法は、Alを主成分とし、Ta及びNbからなる群より選択される1又は2種の元素を1〜10at%、及び、Agを0.1〜10at%含む組成を有する原料粉体を焼成する工程を備える。 (もっと読む)


【課題】スパッタリングターゲットの強度が高く、スパッタ膜の非晶質性が安定であり、青色波長領域で透過率が高く、また屈折率も高い膜を形成できるスパッタリングターゲット及び光情報記録媒体用薄膜を得る。これによって、光情報記録媒体の特性の向上及び薄膜の品質を大幅に改善しかつ安定化する。
【解決手段】ZnSを主成分とし、ZrO2とY2O3を含み、ZnS:50〜95mol%、ZrO2:4〜49mol%、Y2O3:0.1〜10mol%であることを特徴とするZnSを主成分とするスパッタリングターゲット及びZnSを主成分とし、ZrO2とMgO及び又はCaOを含み、ZnS:50〜95mol%、ZrO2:4〜49mol%、MgO及び又はCaO:0.1〜10mol%であることを特徴とするZnSを主成分とするスパッタリングターゲット。 (もっと読む)


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