【課題】パターンの線幅を、より一層微細化、具体的には、線幅３０μｍ以下、より好ましくは１５〜２０μｍ以下の細線化が求められている電磁波シールド材において、より低い表面抵抗率とすることができる構成、及び表面抵抗率を、簡易かつ短時間の処理で低減させる処理方法を含む電磁波シールド材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】透明基材１と、該透明基材上に所定のパターンで形成された導電性組成物からなる凸状導電パターン層２を有する電磁波シールド材１０であって、該導電性組成物は導電性粒子とバインダー樹脂を含んでなり、該凸状導電パターン層の横断面の電子顕微鏡写真による観察において、該導電性粒子の少なくとも一部が融合した連なりを有してなる、電磁波シールド材及びその製造方法である。 （もっと読む）

【課題】パターンの線幅を、より一層微細化、具体的には、線幅３０μｍ以下、より好ましくは１５〜２０μｍ以下の細線化が求められている電磁波シールド材において、より低い表面抵抗率とすることができる構成、及び表面抵抗率を、簡易かつ短時間の処理で低減させる処理方法を含む電磁波シールド材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】透明基材と、該透明基材上に所定のパターンで形成された導電性組成物からなる凸状パターン層を有する電磁波シールド材であって、該導電性組成物は導電性粒子とバインダー樹脂を含んでなり、該凸状パターン層の横断面の電子顕微鏡写真による観察において、該導電性粒子の少なくとも一部が融合した連なりを有してなる、電磁波シールド材及びその製造方法である。 （もっと読む）

【課題】従来よりも表面抵抗が低く、導電性が高い導体パターンが生産性高く基材に形成された導体パターン形成基材を提供する。
【解決手段】導体パターン形成基材に関する。基材４の表面にセルロースアセテートアルキレートで受容層５が形成されている。前記受容層５の表面に導電性ペースト３が所定パターン形状に印刷されて導体パターン６が形成されている。 （もっと読む）

【課題】電磁波遮蔽層中の金属層の酸化及び侵食を防ぎ、かつ生産性が良い保護層付き電磁波遮蔽材を提供する。
【解決手段】電磁波遮蔽材は、透明基材フィルム上に金属層を含む電磁波遮蔽層が形成され、さらにその上に硬化性組成物を硬化してなる保護層が直接形成されて構成されている。硬化性組成物としては紫外線硬化性樹脂が用いられ、該紫外線硬化性樹脂に紫外線を照射して硬化させることにより保護層が電磁波遮蔽層上に直接形成される。この保護層は、保護機能を向上させると共に、表面硬度を高めるために、ハードコート層であることが好ましい。また、保護層は、電磁波遮蔽材に反射防止機能を付与するために、最外層に反射防止層を有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】廃棄物の量が少なく手間のかからない工程で導電性の高い導体パターンを形成することができる導体パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】導体パターン１の形成方法に関する。基材２の表面にレジスト層３を形成する工程、前記レジスト層３に前記基材２が底面に露出する溝４を所定パターン形状に形成する工程、前記レジスト層３の表面に導電性ペースト５を供給し、スキージ６を用いて前記導電性ペースト５を前記溝４に充填すると共に余分な導電性ペースト５を前記レジスト層３の表面から掻き取って除去する工程、前記レジスト層３を除去する工程をこの順で経る。 （もっと読む）

【課題】電磁波遮蔽材の導電体パターン層を導電性粒子と樹脂バインダからなる導電性組成物層として、プライマ層を介在さて透明基材上に引抜プラマイ方式凹版印刷法で形成した時に、凹版版面の鏡面加工の跡が開口部で露出するプライマ層表面に現れる筋が光学欠陥になるのを防ぐ。
【解決手段】透明基材１上にプライマ層２を介して導電体パターン層３が形成され、またプライマ層２の厚みが導電体パターン層の形成部で非形成部よりも厚く、非形成部である開口部４で露出するプライマ層表面に現れる互いに平行な多数の直線状の筋５について、鏡面加工時のバイトの送りピッチを調整して、筋が延びる方向に直交方向での筋周期Ｗが５０μｍ以下となる様に設定する。画像表示装置はＰＤＰの前面にこの電磁波遮蔽材をプライマ層面をＰＤＰ側にして間に空間を空けて配置する。 （もっと読む）

【課題】電磁波遮蔽材の導電体パターン層を導電性粒子と樹脂バインダからなる導電性組成物層として、プライマ層を介在さて透明基材上に引抜プラマイ方式凹版印刷法で形成した時に、凹版版面の鏡面加工の跡が開口部で露出するプライマ層表面に現れる筋が光学欠陥になるのを防ぐ。
【解決手段】透明基材１上にプライマ層２を介して導電体パターン層３が形成され、またプライマ層２の厚みが導電体パターン層の形成部で非形成部よりも厚く、非形成部である開口部４で露出するプライマ層表面に現れる互いに平行な多数の直線状の筋５について、それが延びる方向と外形長方形の電磁波遮蔽材１０の短辺との成す劣角である傾斜角θを５〜９０°の範囲に設定する。画像表示装置はＰＤＰの前面にこの電磁波遮蔽材をプライマ層面をＰＤＰ側にして間に空間を空けて、且つ短辺をディスプレイ鉛直方向に平行にして配置する。 （もっと読む）

【課題】電子機器のメカ構造への制約を極力排除しつつフラット表示モジュールに対するＥＳＤ対策を行う。
【解決手段】電子機器は、正面側筐体部分（透明板）１２および背面側筐体部分３０により構成される筐体を有する。この筐体内にフラット表示モジュール１０が収容される。正面側筐体部分１２の、両筐体部分の接合部近傍の内壁に導電層３７が形成される。導電層３７は、接地手段により電気部品を搭載した回路基板のＧＮＤに導通する。 （もっと読む）

【課題】透明性に優れ、且つ、低い表面抵抗率を有すると共に、表面平滑性を有していて安価に製造することが可能な、透明導電性フィルムの製造方法及び透明導電性フィルムを提供する。
【解決手段】（１）透明樹脂基材２の片面上に、溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンを、細線メッシュパターン用のネガ型の遮蔽マスク８として形成し、（２）遮蔽マスク８が透明樹脂基材２を覆っている状態で、透明樹脂基材２の上に、スパッタまたは真空蒸着により、金属薄膜９を形成し、（３）遮蔽マスク８を溶剤に溶解させて除去し、金属薄膜５からなる細線メッシュパターンを表出させ、（４）細線メッシュパターンの金属薄膜５が成す凸状部と、金属薄膜５が形成されていない凹状の開口部７の一部または全面に、透明性を有する導電樹脂層６を、前記凸状部が埋没するように被覆し、導電樹脂層６による被覆表面の表面高低差が５０〜４００ｎｍとする。 （もっと読む）

【課題】光の透過率が高く、ヘイズ（曇り度）が低いシールド材を提供する。
【解決手段】透明基材１０と、透明基材１０上に形成された第１の粘着層１２と、第１の粘着層１２上に形成された樹脂層１４と、樹脂層１４上にパターン化されて形成された金属層１６ａと、金属層のパターン１６ａ及び樹脂層１４の上に、第３の粘着層１２ｂを介して形成された反射防止層２０とを含む。 （もっと読む）

【課題】外光に対する優れた反射防止性能を発揮し、且つ、表面抵抗値の増加を抑え、導電性の低下を抑制することが可能な透明導電材、及び該透明導電材の製造方法を提供する。
【解決手段】透明基材の一面側に、銀粒子及びバインダー樹脂を含む導電性組成物からなる導電性パターン層を有し、該導電性パターン層の表面に、ＡｇＣｌ、ＴｅＣｌ_２、ＴｅＣｌ_４、Ｔｅ、ＡｇＯ、Ａｇ_２Ｏ及びＴｅＯ_２からなる群より選ばれる少なくとも１種を含み、且つ、厚みが０．０１〜０．５μｍである黒化層が積層されていることを特徴とする透明導電材、及び該透明導電材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】比較的簡単な構成で、電子機器に備えるカメラ装置のカメラ駆動回路から輻射されるノイズが周囲に及ぼす影響を抑制できるノイズ低減装置を提供する。
【解決手段】カメラ装置Ｃｍのカメラモジュール基板Ｓｃを金属筐体１６ａ内部に配置したノートパソコンに組み込まれるノイズ低減装置であって、金属筐体１６ａと一体的に形成されて前記カメラモジュール基板の周縁を囲む導電性枠体部４２を備え、前記金属筐体と前記導電性枠体部とで、前記カメラモジュール基板を収容する基板収容凹所４０が形成されている。 （もっと読む）

【課題】パターンの線幅をより一層微細化しても低い電気抵抗とすることができ、電磁波シールド材の凸状パターン層形成側をディスプレイパネルに向けて設置したときに、外光及び画像光による画像の白化、画像コントラストの低下が防止できる電磁波シールド材を含むディスプレイ用フィルタ及びこれを用いた画像表示装置を提供する。
【解決手段】透明基材１と、該透明基材１上に形成されたプライマー層２と、該プライマー層２上に所定のパターンで形成された導電性組成物からなり、かつ、その表面が黒化処理された凸状パターン層３を有する電磁波シールド材であって、該導電性組成物は導電性粒子５とバインダー樹脂６を含み、該凸状パターン層３中の該導電性粒子５の分布が、相対的に、該プライマー層２近傍において疎であり、又該凸状パターンの頂部近傍において密であり、電磁波シールド材の凸状パターン層３形成側をディスプレイパネル側に向けて使用する。 （もっと読む）

【課題】導電性の凸状パターン層を覆う全面に透明保護層を設けた電磁波シールド材において、画像表示装置の前面に配置した場合に透過画像が歪むという課題を解決した電磁波シールド材を提供する。
【解決手段】透明基材１と、透明基材１上に形成された導電性組成物からなる凸状パターン層２と、凸状パターン層２を覆う全面に形成された透明保護層３とを有し、透明保護層３が電離放射線硬化性樹脂からなり、透明保護層３の表面における水に対する接触角が７９°以上であるように構成した。この場合において、透明基材１と凸状パターン層２の間にはプライマー層４が設けられていてもよい。 （もっと読む）

【課題】電磁波を確実に遮蔽可能な電磁波シールドを安価に製造することができる電磁波シールド用フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による電磁波シールド用フィルム２０の製造方法は、帯状の樹脂フィルム２１と、この樹脂フィルム２１上に積層された帯状の金属メッシュ層２２とからなる帯状メッシュ層付樹脂フィルム２５と、帯状機能性フィルム２３を準備する。次に、帯状機能性フィルム２３に、複数の矩形状部２６と、各矩形状部２６間に位置するマージン部２７を区画する切断線２８が設けられる。次に、帯状メッシュ層付樹脂フィルム２５上に、切断線２８が設けられた帯状機能性フィルム２３が積層される。次に、積層された帯状メッシュ層付樹脂フィルム２５と帯状機能性フィルム２３が加圧されて接着される。この際、帯状機能性フィルム２５の矩形状部２６のみが加圧される。 （もっと読む）

【課題】黒化処理を施したパターン状の導電層を有する電磁波シールド材において、黒化層が脱落し難く、外光反射防止性が良好な電磁波シールド材を提供する。
【解決手段】透明基材１と該透明基材１上に形成されたプライマー層２と、該プライマー層２上に所定のパターンで形成された導電性粉末と樹脂バインダーを含む導電性組成物からなる、断面が台形形状の導電性凸状パターン層３を有する電磁波シールド材であって、該導電性凸状パターン層３の表面に、端角部が突出し、中央部が凹陥した金属層４が形成され、かつ、該金属層４の表面には針状金属の黒化層５が形成されていることを特徴とする電磁波シールド材である。 （もっと読む）

【課題】透明樹脂層の端部の位置を機械的に検知し易い様にし、且つ巻きズレや粘着剤層を透明樹脂層の反対側に形成した場合に粘着剤層に端部の跡の凹みが残らない様にする。
【解決手段】透明基材１上に形成されたメッシュ状等の導電体パターン層２上に更に透明樹脂層３が形成され、透明樹脂層が、特にシート流れ方向ＭＤに於いて、導電体パターン層上に位置させた端部Ｆｒに沿って表面が盛り上がっている凸出部３ｔを有するものとする。凸出部の高さΔｔは２〜１０μｍが好ましい。更に、導電体パターン層がプライマ層を介して形成した、導電性粒子と樹脂の導電性組成物層で、プライマ層の厚さが導電体パターン層の形成部が非形成部より厚く、且つ導電体パターン層の形成部である凸部の内で導電性粒子が頂上部近傍で密でプライマ層近傍で疎であるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】導電性粒子とバインダ樹脂を含む導電性組成物の導電性インキで形成した凸状パターン層上に、更に金属層を電解めっきした電磁波シールド材にて、導電性インキの使用量が同じでも凸状パターン層の電気抵抗が下がる様にして、インキ使用量削減による低コスト化、めっき速度高速化による生産性向上を可能とする。
【解決手段】透明基材１上に、導電性粒子とバインダ樹脂を含む導電性組成物のインキをパターン状に印刷して、層内部で複数の導電性粒子が部分的に融合している凸状パターン層２を形成した後、この凸状パターン層の表面に電解めっきで金属層３を形成して電磁波シールド材１０とする。粒子を部分的に融合させるには印刷後、凸状パターン層に高温湿熱処理や酸処理を行う。 （もっと読む）

【課題】電磁波遮蔽材に於いてアースを取り出せる導電体層露出部は間欠的に残せる様にして、導電体層上に機能層を部分的に積層する。
【解決手段】透明基材１上に導電体層２が積層された連続帯状の導電体層積層シート３の導電体層側面、或いは、剥離性基材シート５に機能層６を含む転写層が積層された連続帯状の転写シート７の転写層側面、の何れかの面に、接着剤層４をシート流れ方向に間欠塗工した後、接着剤層を介して導電体層積層シートと転写シートとを重ね合せて転写圧を加え、転写層を導電体層積層シートに接着させた後、剥離性基材シートを剥離することで、接着剤層部分のみ機能層が転写され、間欠塗工の非塗工部４ｃを導電体層露出部２ｅとして残す。また、間欠塗工は導電体層側の面に接着剤層を塗工する前に、別の樹脂層を間欠塗工して重ね塗りしても良い。 （もっと読む）

【課題】 金属パターンの材質を銅から安価なアルミニウムに代えると生じる課題である、ケミカルエッチングのパターン精度不良及びアルミニウム層を透明基材上に接着する際の接着不良を解消して、アルミニウムを用いた安価で而かも実用可能な透明導電部材を提供する。
【解決手段】 透明導電部材１０は、透明基材１上に透明接着剤層４を介して、アルミニウムパターン層２が積層されてなり該アルミニウムパターン層の少なくとも上面（透明基材に対してアルミニウムパターン層が形成された側と同じ向きとなる面）のアルミニウム酸化物皮膜３の厚みを０〜１３Åとした。且つ、該透明接着剤層を硝子転移温度が３０度Ｃ以上のウレタン樹脂から構成する。 （もっと読む）