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Fターム[5E343BB06]の内容

Fターム[5E343BB06]に分類される特許

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【課題】表層導体の剥離が生じ難く、電子部品の実装が容易であり、大電流用の配線基板として好適なセラミック基板を提供する。
【解決手段】セラミック基板10は、セラミック焼結体12と表層導体14とが一体化され、表面に表層導体14が露出した構成を有する。セラミック焼結体12の一主面12aと、表層導体14の一主面14aとは、同一平面をなし、表層導体14の一主面14a以外の部分は、セラミック焼結体12に埋設され一体的に接合されている。表層導体14の一主面14a以外の部分、すなわち、表層導体14の側面14bは、セラミック焼結体12の内壁部12bと接合され、表層導体14の他方の主面14cは、セラミック焼結体12の内底面12cと接合されている。 (もっと読む)


【課題】歩留まりが高く、かつ信頼性に優れる多層配線基板の製造方法およびこの製造方法によって製造れた信頼性の高い多層配線基板を提供すること。
【解決手段】 導体パターン前駆体層110が形成された複数の成形体200を積層してなる積層体400を得る第1工程と、該第1工程で得られた積層体400を焼成する第2工程とを有する多層配線基板の製造方法であって、第1工程では、各成形体200を、第1の基板100上に導体パターン前駆体層110を形成した後、第1の基板100の導体パターン前駆体層110が形成された面上に第1の基板100よりも厚さの薄い第2の基板120を積層することにより得、得られた複数の成形体200を積層することにより積層体400を得る。 (もっと読む)


【課題】 線間距離を狭めても信頼性が低下しない多層プリント配線板を提供することにある。
【解決手段】 第2導体回路58と第2導体回路58との間(絶縁間隔:スペース)において、第1樹脂絶縁層50と上層樹脂絶縁層150との間に無機絶縁膜48が介在しており、第1樹脂絶縁層50と上層樹脂絶縁層150とが無機膜は表面がフラットなため給電層の除去が容易に可能となり、第2導体回路との間(絶縁間隔:スペース)において、第1樹脂絶縁材−第2樹脂絶縁材間でのエレクトロケミカルマイグレーションが発生することが無い。このため、第2導体回路の絶縁間隔を10μm以下に狭めても、信頼性が低下しない。 (もっと読む)


【課題】電気化学的マイグレーションによる電気的短絡を防止することができ、高密度化とともに信頼性を向上させることができる印刷回路基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による印刷回路基板およびその製造方法は、絶縁層及び前記絶縁層に配置された回路パターンと前記回路パターンの少なくとも一面を覆うように配置されて前記回路パターンから電気化学的マイグレーション(electrochemical migration)を抑制するバリア層を含んで、信頼性を確保するだけではなく、高密度化を実現することができる印刷回路基板及びその製造方法に関する。 (もっと読む)


【課題】 デラミネーションが発生するのを抑制するとともに、近接する配線間の絶縁性に優れた多層配線基板の製造方法および多層配線基板を提供する。
【解決手段】 本発明の多層配線基板の製造方法は、平均粒径が1〜10μmのセラミック粉末および有機バインダを含むセラミックグリーンシート4を用意し、セラミックグリーンシート4の上面に、第2の金型2を押し付けて第2の突条21による溝41を形成し、セラミックグリーンシート4の上面の少なくとも溝41の内壁に、平均粒径が0.1〜0.5μmのセラミック粉末およびホットメルト樹脂を含むセラミックスラリー5を被着形成し、セラミックグリーンシート4の上面に、ホットメルト樹脂が軟化するように加熱した第1の金型1を押し付けて、第2の突条21による溝の内側に、側面および底面がセラミックスラリー5からなる配線形状の溝51を形成することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】金属薄膜と基板との密着性が高く、密着強度の経時熱劣化が改善された積層体およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の積層体10は、絶縁基板11と、絶縁基板11上に形成された絶縁性樹脂層12と、絶縁性樹脂層12上に形成され、少なくとも当該絶縁基板11との接触界面に金属酸化物14を含有する金属薄膜層13と、を備え、絶縁性樹脂層12がビフェニル骨格を有するジアミン成分を含有した熱可塑性ポリイミドを含むことを特徴とする。 (もっと読む)


ここで開示されているのは、銅、ニッケル、鉄、コバルト、チタン、鉛、アルミニウム、スズおよびこれらの金属の1つを主成分として含む合金からなる群から選択される導電性構成成分を含む導電層と、酸化ホウ素を含む酸化保護層とを含む電極であって、前記酸化保護層が導電層の上面を被覆するかまたは導電層の上面および側面の両方を被覆するかまたは導電層が形成されている全ての場所を被覆する電極であって;導電層および酸化保護層を同時に空気焼成することによって形成される電極である。 (もっと読む)


【課題】絶縁樹脂層と金属層との接着性が高く、さらに、スズめっきなどの薬液耐性の高い積層体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の積層体は、絶縁樹脂層11と、絶縁樹脂層11上に形成された金属層12とを備える積層体であって、少なくとも金属層12と絶縁樹脂層11との接触界面に銅と異なる金属酸化物を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は多層セラミック基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】多層セラミック基板は、多層のセラミック層111、112、113、114、115を積層して構成され、各セラミック層に設けられたビア122を介して層間接続が行われ、上下部にガラス成分の除去された表面改質層111a、115aが設けられたセラミック積層体110と、該セラミック積層体110の上下両面にビア122と電気的に接続されるように設けられたコンタクトパッド140とを含む。 (もっと読む)


【課題】 多層セラミック基板の低背化および高機能化を図るために、表面導体が形成された部分の基板表面を平坦化する。
【解決手段】 基材層20と、基材層20の少なくとも一方主面に配置され、基材層20の焼結温度では実質的に焼結しない拘束層40a,40bと、基材層20と拘束層40a,40bとの界面3a,3bに形成される表面導体6a〜6cと、拘束層40a,40bの基材層20に接する主面に対向する主面および/または内部に形成され、積層方向から投影視した場合に表面導体6a〜6cが形成された領域を覆うように形成されたダミーパターン8a〜8cとを有する未焼成の積層体10を作製する工程と、積層体10を圧着する工程とを備える多層セラミック基板30の製造方法。ダミーパターン8a〜8cが形成された部分はその他の部分よりも積層方向に強く圧力がかかるため、表面導体6a〜6cを基材層20に押し込むことにより、基板表面3a,3bを平坦化することができる。 (もっと読む)


【課題】低コストで所望領域にパターンを高精度に形成することができるパターンの形成方法、及びこのパターンの形成方法を使用した電子部品を得る。
【解決手段】セラミックグリーンシート1上に、パターンを形成すべきパターン形成領域9が設けられている(a)。そして、Ag等からなる金属微粒子を溶剤中に分散させた微粒子分散溶液を用意する。次いで、前記微粒子分散溶液を使用してスクリーン印刷し、これにより多数の金属微粒子10の集合体からなる濡れ拡がり抑制部11をパターン形成領域9に形成する(b)。次いで、インクジェットヘッド12からパターン形成領域9内にインク13を滴下させ、インク13及び金属微粒子10の集合体(濡れ拡がり抑制部11)からなるパターン14を形成する(c)。金属微粒子の他、絶縁性微粒子を使用しても、同様に絶縁パターンを形成することができる。 (もっと読む)


【課題】有機物を単独でまたは無機物を単独で用いて形成した導電性パターンを含む基板より低い焼成温度で焼成しても高い導電度を得ることができる導電性パターンを含む基板の製造方法およびこれによって製造された導電性パターンを含む基板を提供する。
【解決手段】基材上に導電性無機金属粒子を含む導電性無機組成物を吐出するステップと、前記導電性無機組成物上に導電性有機金属錯体を含む導電性有機組成物を吐出するステップ、および前記導電性無機組成物および導電性有機組成物を焼成するステップを含む基板の製造方法およびこの方法によって製造された導電性パターンを含む基板。 (もっと読む)


【課題】パターン毎に別途準備したマスクや専用のインク転写用の基材を用いることなく且つ導電性材料の利用効率が良好なパターン形成層を可能にし、この導電性パターン形成層を任意のフレキシブルフィルム基板に転写可能な転写用紙およびその製造方法、さらに、該転写用紙を利用した有機薄膜トランジスタおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の転写用紙は、原紙面上に遅水性再湿糊層と速水溶性再湿糊層とを含む転写用紙基材と、導電性材料を含有するパターン形成層と、保護部材により形成されるオーバーコート層と、を有し、オーバーコート層形成後の王研式平滑度が1000秒以上である。この転写用紙に水を与え、前記糊層を溶解させ、フレキシブルフィルム等に接触させることで転写し、有機薄膜トランジスタを製造する。 (もっと読む)


【課題】 脱バインダー不良および焼結挙動の不整合による貫通導体の絶縁基体表面からの突出が抑制された配線基板およびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明は、複数のガラスセラミック絶縁層を積層してなる絶縁基体1と、絶縁基体1の表面および内部に形成された配線層2と、内層を構成するガラスセラミック絶縁層1b〜1hに形成された第1の貫通導体31と、表層を構成するガラスセラミック絶縁層1a、1iに形成され第1の貫通導体31に直に接続された第2の貫通導体32とを備えた配線基板であって、第1の貫通導体31および第2の貫通導体32は、同じ金属を主成分として含むとともにガラスおよび析出結晶を含んでおり、第2の貫通導体32に含まれる析出結晶の量が第1の貫通導体31に含まれる析出結晶の量よりも多いことを特徴とするものである。 (もっと読む)


【課題】 脱バインダー不良および焼結挙動の不整合による貫通導体の絶縁基体表面からの突出が抑制された配線基板およびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明は、3層以上のガラスセラミック絶縁層からなる絶縁基体1と、絶縁基体1の表面および内部に形成された配線層2と、内層を構成するガラスセラミック絶縁層1b〜1hに形成された第1の貫通導体31と、表層を構成するガラスセラミック絶縁層1a、1iに形成され第1の貫通導体31に直に接続された第2の貫通導体32とを備えた配線基板であって、第1の貫通導体31および第2の貫通導体32は同じ金属を主成分として含むとともに、第1の貫通導体31はさらにガラスを含みガラスからの析出結晶を実質的に含んでおらず、第2の貫通導体32はさらにガラスおよびガラスからの析出結晶を有していることを特徴とするものである。 (もっと読む)


【課題】ひび割れが発生しない、線幅再現性、接着性、導電性に優れ、更にはデキャップ性に優れる配線パターンを形成すること。
【解決手段】基材にカチオン性化合物を含む液体により下引き層を形成し、その上にゼータ電位が−100mV以上、0mV以下である導電性インクをインクジェット記録装置で射出する配線パターン形成方法において、カチオン性化合物としてカチオン性界面活性剤または分子量が100以上100000以下のカチオン性ポリマーの少なくとも一つを含むことを特徴とする配線パターン形成方法。 (もっと読む)


親水性表面と、この親水性表面上に印刷された導電性及び/又は発光性の有機ポリマーで形成された構造体(16)とを有する、基板(10)において、親水性表面が、前記基板上に配置された酸化物セラミックス(12)及び/又は金属(14)材料で構成された層によって形成されている。
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【課題】経済性に優れ実用レベルの技術として適用可能なプリント基板用複合めっき材を提供する。シード層の除去を不要とすることで経済性に優れたファインパターン形成に対応できるプリント基板用複合めっき材を提供する。
【解決手段】樹脂フィルム11上にプライマー層12を形成するプライマー層形成工程と、前記プライマー層のゲル分率が0〜50%になるように前記プライマー層を加熱する第1加熱工程と、前記プライマー層上にシード層13を形成するシード層形成工程と、前記シード層上に導電層14を形成する導電層形成工程と、を備え、前記シード層を形成した後に、前記プライマー層のゲル分率が60〜100%になるように前記プライマー層を加熱する第2加熱工程を有する。 (もっと読む)


【課題】 基板に、金属ペーストや、金属ナノ粒子を含むインクを印刷して焼成するプロセスを経て配線材料を作製する際に好適に用いられる、インク受容膜形成用塗工液を提供する。
【解決手段】
シリカ、チタニア、ジルコニアおよびアルミナの中から選ばれる少なくとも1種からなり、平均粒径が2〜200nmの範囲内にある一次粒子が2個以上結合した凝集体粒子を25〜100質量%含む凝集体粒子含有物(A)と、特定のアルコキシド化合物を、加水分解−縮合反応して得られた縮合物(C)を含んでなる下地層形成用混合液、およびシリカ、チタニア、ジルコニアおよびアルミナの中から選ばれる少なくとも1種からなり、平均粒子径が前記凝集体粒子を構成する一次粒子の平均粒径よりも大きい金属酸化物粒子(B)と、上記縮合物(C)を含んでなる上塗層形成用混合液を別々に含むインク受容膜形成用塗工液である。 (もっと読む)


【課題】樹脂と銅又は銅合金の十分な密着性が得られ、従来のスズ又はスズ合金層では問題になっていたデンドライトによるイオンマイグレーションが生じることがなく、高ガラス転移点(Tg)樹脂との密着性も向上できる対樹脂接着層及びこれを用いた積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の対樹脂接着層は、樹脂と、銅又は銅合金層とを接着するための、銅又は銅合金からなる対樹脂接着層であって、前記対樹脂接着層は、多数の銅又は銅合金の粒子が集まり且つ粒子間に空隙が存在し、表面においては複数の微細孔が存在したサンゴ状構造の金属層で形成されており、前記微細孔の平均径は10nm〜200nmの範囲にあり、前記微細孔は金属層表面の1μm2あたり平均2個以上存在している。 (もっと読む)


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