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Fターム[5E346CC36]の内容

多層プリント配線板の製造 (97,916) | 多層の材料・材質 (18,988) | 導体材料 (7,671) | タングステン系 (253)

Fターム[5E346CC36]に分類される特許

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【課題】特別な防湿対策を施すことを不要にしながら、外部サージの放電のし易さが変動することを防止し、また、基板を小型化する。
【解決手段】本発明の配線基板は、基板1に少なくとも2層の配線層6〜10を設けて成るものにおいて、1つの配線層6に外部入力端子用パターン11を設け、上記1つの配線層6と異なる配線層10にグランドパターン12を設け、基板1にその板面に対して垂直方向にビアホール13を設け、このビアホール13に抵抗体14を充填し、そして、抵抗体14の上下端部を外部入力端子用パターン11及びグランドパターン12に接続したものである。 (もっと読む)


【課題】セラミック副コアを収容したコア基板上に配線積層部を形成する際に、配線積層部となる誘電体層及びそれに貫通形成されるビア導体とセラミック副コアの導体パッドとの密着性が十分に得られる配線基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】配線基板1は、コア基板2に収容されたセラミック副コア3の導体パッド31において、その表面にCuメッキ層が形成され、且つ、Cuメッキ層の表面が高分子材料との密着性を向上させるためのCu表面化学処理が施された処理面とされ、処理面に配線積層部の最下層の誘電体層及びそれに貫通形成されたビア導体が接触してなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 電子部品内蔵の多層構造基板をインクジェットプロセスで製造すること。
【解決手段】 多層構造基板の製造方法が、電子部品の端子が上側を向くように前記電子部品を表面上に配置する工程と、前記電子部品の厚さに起因する段差を埋めるように第1絶縁パターンを前記表面上に設ける第1インクジェット工程と、を包含している。 (もっと読む)


【課題】実装信頼性に優れた配線基板を提供する。
【解決手段】複数のセラミック層を積層して成る絶縁基体1の内部に配線導体3を配設
するとともに、絶縁基体1の主面に、配線導体3に対しビア導体4を介して電気的に接続
される複数の接続パッド2と、配線導体3とは独立した状態で、絶縁基体1のセラミック
層間に設けた接合層7に対しビア導体6を介して電気的に接続される複数のダミーパッド
5を、格子状に配列して形成する。さらには、ダミーパッド5に接続されるビア導体6は、絶縁基体1の主面となるセラミック層に配置される。 (もっと読む)


【課題】パッケージ端面へのコンデンサの露出を避け、層間ショートが発生し難く、信頼性の高い構造とした配線基板及び配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】コンデンサを内蔵する配線基板の構造において、パッケージ(配線基板の単位)のダイシング面から、セラミック誘電体層15の外形端面が少なくとも第一引き下がり幅WBTだけ引き下げられ、第一電極20及び第二電極11の外形端面が少なくとも第一引き下がり幅WBTより大きい第二引き下がり幅Wだけ引き下げられて、セラミック誘電体層15、第一電極20及び第二電極11によってコンデンサが形成されている。 (もっと読む)


【課題】 電子部品の搭載部の間隔が狭くなったとしても、搭載部と電気的に接続されて形成されているビア導体の応力分布の集中を抑え、ビア導体間に発生するクラックを効果的に防止することが可能な配線基板を提供する。
【解決手段】 複数の絶縁層を間に内部配線2を介して積層して成る積層体1の一主面に、複数の接続パッド3を配列させるとともに、接続パッド3と内部配線2とを、一端側が積層体1の一主面に導出されたビア導体4を介して電気的に接続してなる配線基板であって、複数の接続パッド3に接続されている複数のビア導体4は、隣接するビア導体4の位置が、ビア導体4が接続されている接続パッド3の配列方向に対し、直交する方向にずらして配置する。さらには、積層体1の一主面および他主面の少なくとも一方に導出された少なくとも1つのビア導体4の外周部に膨出部6が形成される。 (もっと読む)


【課題】追って配線基板となるグリーンシートの少なくとも一方の表面に、導体層とこれを露出させる厚肉の絶縁コート層とを有する配線基板であって、前記段差などが生じにくく、電子部品などを精度良く実装し得る配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】焼成後に配線基板となるグリーンシート1の裏面3に、かかる裏面3に形成された複数のパッド(導体層)5の周縁を覆い且つ当該パッド5よりも厚みの厚い絶縁コート層6を形成する工程と、平板15およびこれに突設した複数の凸部16を有する治具gのうち、絶縁コート層6の表面に平板15を接触させ、且つ絶縁コート層6を貫通し各パッド5が露出する凹部7ごとに各凸部16を挿入するように配置して、グリーンシート1および絶縁コート層6を厚み方向に沿って圧着する工程と、を含む、配線基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 メタライズ組成物の焼結機構を制御してその収縮量を増大させることによりスナップラインの閉塞を防止するとともにセラミック基板と良好な接着力を保持するメタライズ金属層を形成するメタライズ組成物とこれを用いて行う配線基板の製造方法を提供することである。
【解決手段】 平均粒径が1〜2μmのタングステンを70〜99体積%と、平均粒径が0.5〜0.9μmのシリカとアルミナの混合物又はアルミノシリケートを1〜30体積%とを有するものである。 (もっと読む)


【課題】 インダクタンスが低く、抵抗の低い接地性をもたすため、接地配線の厚みを厚くしても、接地配線と同一層に形成された、高周波信号を伝送する信号線路は、厚みが薄くでき、より高周波特性にすぐれ、且つ強固な接地性を有する配線基板を提供する。
【解決手段】 配線基板9は、複数の絶縁層1aを積層して成る絶縁基板1の内部で、絶縁層1aの層間に、接地配線3と接地配線3よりも厚みの薄い信号線路2とを並設した状態で介在させる。 (もっと読む)


【課題】延性を有する金属粉末を含む金属グリーンシートを安価に且つ容易にしかも安定して作製できる製造方法を提供する。
【解決手段】金属粉末7、9と、樹脂と、溶媒10とを含有するスラリー1を、該スラリー1よりも比重が軽いメディア3を用いて混合することを特徴とするスラリー1の製造方法。 (もっと読む)


【課題】各種性能に優れるメタライズ層を有する窒化アルミニウム焼結体を製造する
【解決手段】表面に配線パターンを形成した2枚以上の窒化アルミニウム粉末のグリーンシートを積層し、1100〜1500℃の温度範囲で、かつ実質的に窒素および水素からなる雰囲気下で連続的に脱脂および脱炭を行い、カーボン炉を用い、脱炭後の窒化アルミニウム成形体を耐火性金属からなるセッター2上に載置して、これらを酸化物系セラミックス焼結体の容器3に収容し、1700〜1900℃の温度範囲で、かつ窒素雰囲気下で行ってメタライズ層を有する窒化アルミニウム焼結体1を製造する。
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【課題】 信号線路のインピーダンスを所定の値に調整することが可能で、且つ薄型化が容易な配線基板を提供する。
【解決手段】 絶縁基板1の内部に信号線路2を配置させるとともに、信号線路2の上下両側に一対の接地導体層3を配置させてなる配線基板9であって、信号線路2と各接地導体層3との間に、信号線路2の少なくとも一部を挟むようにして一対の補助接地導体層4を対向配置する。 (もっと読む)


【課題】デラミネーションがなく、高寸法精度でかつ高精度な導体を形成することができるセラミック電子部品の製造方法を提供する。
【解決手段】導体層2を支持体1の表面に導体ペーストを印刷することによって形成した電子部品の製造方法であって、セラミックスラリーの溶解度パラメータと導体層の溶解度パラメータとの差を1.0乃至7.0に設定する。また、導体層付きセラミックグリーンシート4の貫通穴加工は、YAGレーザーを照射することで行ない、支持体1にはUV吸収材を含有させる。 (もっと読む)


【課題】 デラミネーションがなく、寸法精度の高い電子部品の製造方法を提供すること。
【解決手段】 支持体1上に導体層2を形成する工程と、導体層2が形成された支持体1上にセラミックスラリーを塗布することにより第1のセラミックグリーンシート層3を形成する工程と、第1のセラミックグリーンシート層3上に第2のセラミックグリーンシート層4を形成して導体層2と第1,第2のセラミックグリーンシート層3,4とから成る積層セラミックグリーンシート5を得る工程と、積層セラミックグリーンシート5を複数枚積層して加熱することによってセラミックグリーンシート積層体6を作製する工程と、セラミックグリーンシート積層体6を焼成する工程とを具備し、第2のセラミックグリーンシート層4は、セラミックグリーンシート積層体6を作製する際の加熱時に溶融状態となる溶融成分を含有している。 (もっと読む)


【課題】セラミック基板に導電ペースト層を形成し、焼成することによってメタライズドセラミック基板を製造する方法において、導電ペーストが流れたりにじんだりすることを防止すること。
【解決手段】メタライズドセラミック基板の製造方法は、表面に導電層又は導体ペースト層を有していてもよいセラミック基板からなる原料基板を準備する工程(A)と、該原料基板上にセラミックペースト層を形成する工程と、該セラミックペースト層上に導電ペースト層を形成する工程と、を含むメタライズドセラミック基板前駆体調製工程(B)と、前記工程によって得られたメタライズドセラミック基板前駆体を焼成する工程(C)と、を含むメタライズドセラミック基板の製造方法である。 本発明の工程(B)では、セラミック層の形成と導電ペースト層の形成を交互に複数回繰り返してもよい。このようにすることにより導電層の多層化を容易に実現することができる。 (もっと読む)


【課題】金属ケースと回路基板とが強固に接続されていて、衝撃などの外力に対して強く、信頼性の高い金属ケース付き回路基板を提供する。
【解決手段】ケース付き複合回路基板10は、上面に第1表面実装部品11が搭載され且つ側面に側面電極12Fが設けられたセラミック多層回路基板12と、上面に上面電極13Cが設けられた樹脂部13とが接合され且つ上面電極13Cの一部が表面に露出する複合回路基板15と、セラミック多層回路基板12の側面電極12F及び樹脂部13の上面電極13Cの両者と共通の接合材17で接合された脚部14Bを有するケース14と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】 積層された複数の層のうちの表層に設けられたスルーホール内に抵抗体を充填してなる配線基板において、工程を増加させることなく、表層のスルーホール内に抵抗体を設け、適切な抵抗体の電気的接続構成を実現する。
【解決手段】 表層11の内側の層12におけるスルーホール20に対応する部位に、第1の電極部51が設けられ、この第1の電極部51は、内側の層12側に位置する第1の導体層31と抵抗体60側に位置する第1の金属層41とからなり、表層11の外面におけるスルーホール20の開口縁部に第2の電極部52が設けられ、この第2の電極部52は、表層11側から第2の導体層32、第2の金属層42が積層されてなるとともにスルーホール20に開口する開口部52aを有するものであり、抵抗体60は、第1の金属層41と第2の金属層42とに電気的に接続されている。 (もっと読む)


【課題】積層誘電体基板に設置されたSAWフィルタ素子の入力信号経路と出力信号経路間のアイソレーションを十分に確保する。
【解決手段】積層誘電体基板17の内部に入力配線導体パターン305a、出力配線導体パターン305b及び接地導体パターン305c〜305eが形成されている。前記接地導体パターン305c〜305eは、前記入力配線導体パターン305aと前記出力配線導体パターン305bとの間に複数層にわたって形成され、前記複数層にわたって形成された各接地導体パターン305c〜305eどうしを、第4の誘電体層間ビア306e,306fで接続している。 (もっと読む)


【課題】 反りやうねり等の変形を低減させた配線基板を提供すること。
【解決手段】 複数の絶縁層1を間に内部配線6を介して積層して成る積層体の一主面に電子部品が表面実装される矩形状の搭載部5を設けるとともに、搭載部5の外周域に電子部品の端子に電気的に接続される複数個の電極パッド2を配置させ、これら電極パッド2を搭載部の外周と直交する方向に導出された外部配線3と絶縁層中に埋設された貫通導体4とを介して内部配線6に電気的に接続しており、搭載部5の直下に位置する絶縁層間に、積層体を平面透視して、外周を搭載部5の外周と略合致させた導体層7が介在されている。 (もっと読む)


複数の基材を積層してなりかつ複数種類の機能素子を基板内に備えた多層基板で、第一機能材料膜と第二機能材料膜を同一面に配し、第一および第二の機能材料膜により第一および第二機能素子をおのおの形成する。機能材料膜を薄膜法により転写用基板に形成し、基材に転写してもよい。
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