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Fターム[5E346CC39]の内容

多層プリント配線板の製造 (97,916) | 多層の材料・材質 (18,988) | 導体材料 (7,671) | 銀系 (1,057)

Fターム[5E346CC39]に分類される特許

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【課題】故障が発生しにくく、信頼性の高い多層配線板及びその多層配線板を製造する多層配線板の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】多層配線板であって、基板と、基板上に配置された第1導電体、第1導電体の基板から離れた面に積層された第2導電体、及び第1導電体と第2導電体との間に配置された応力緩和層を備えるランドと、ランドと接し、前記ランドと電気的に接続されている接続部と、を有することで上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】 絶縁基板の上面から側面にかけて配線導体が被着されており、生産性および外部接続信頼性の向上が容易な配線基板、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 セラミック焼結体からなる複数の絶縁層2aが積層されてなる四角板状の積層体2、および積層体2の上面から上面の1つの外辺を越えて側面にかけて折れ曲がって被着された、この折れ曲がった部分が積層体2の1つの側面を被覆する補助絶縁層3からなる絶縁基板1と、補助絶縁層3の上面の中央部から折れ曲がった部分の露出表面にかけて被着された配線導体4とを備え、補助絶縁層3の折れ曲がった部分の露出表面に被着された配線導体4が外部電気回路に対向して接続される配線基板9である。絶縁基板1の上面から側面にかけて配線導体4が一体的に被着されているため、生産性の向上、および配線導体4の厚みばらつきの抑制による外部接続信頼性の向上が容易である。 (もっと読む)


【課題】電気的接続の高い信頼性を有するビアホール導体により層間接続された、Pbフリーのニーズに対応することができる多層配線基板を提供することを目的とする。
【解決手段】絶縁樹脂層と絶縁樹脂層の両面にそれぞれ配設された配線とこれらの配線間を電気的に接続するためのビアホール導体とを有し、ビアホール導体は金属部分と樹脂部分とを含み、金属部分は、配線間を接続する銅粒子の結合体を含む第一金属領域と、錫,錫‐銅合金,及び錫‐銅金属間化合物等を主成分とする第二金属領域と、ビスマスを主成分とする第3金属領域と、を有し、結合体を形成する銅粒子同士が互いに面接触することにより面接触部を形成し、第二金属領域の少なくとも一部分が第一金属領域に接触している多層配線基板である。 (もっと読む)


【課題】高速動作、高周波動作、多機能動作の要求からプリント回路基板とチップ部品の接点を大幅に増加させ、プリント回路基板の回路密度を高める必要があり、接点間の間隔を縮小させ続けなければならない。
【解決手段】互いに隣接する表面と側面を有する回路基板と、前記回路基板の前記表面の一部を覆う内部回路と、前記内部回路に電気接続され、前記内部回路と同一の追加層に位置する第一サイド電気接続パッドを含み、金属保護層222にはんだバンプ224,226を形成する。はんだバンプ224は、サイド電気接続パッド210a〜210cの末端410a〜410cにそれぞれ接続させる。 (もっと読む)


【課題】貫通ビアに対して充填される導電材料が抜け落ちることを防止すると共に、無効となる導電材料内に含まれる金属粉末を低減する。
【解決手段】吸着紙21b上に多層回路基板10を設置し、貫通ビア11に対して導電ペースト1を充填する。これにより、導電ペースト1の溶剤が吸着紙21b内に吸着され、貫通ビア11内において金属粉末が濃縮されて必要量残るようにできる。このため、溶剤の比率に対して金属粉末の比率を低減することが可能となり、無効ペースト内に含まれる金属材料を低減することが可能となる。また、導電ペースト1を室温で固化する材料で構成し、貫通ビア11に導電ペースト1を充填したのち、多層回路基板10を冷却することで導電ペースト1を固化する。これにより、多層回路基板10を吸着紙21bから剥離させても、導電ペースト1が抜け落ちないようにできる。 (もっと読む)


【課題】電子部品の実装に用いる多層配線板の製造には、従来、B2itなどの導電性バンプを用いて層間の接続を行う多層配線技術が使用されていた。しかし、基板のそりにより、多層配線間の短絡が発生する、あるいは、導電性バンプと配線間の接続不良が発生するという問題があった。
【解決手段】絶縁性フィラーを含む絶縁性ワニスをコーティングし、絶縁性被膜を形成することにした。基板にそりがある場合でも、多層配線間の絶縁性が保持でき、配線接続の安定性が高くなり、製造歩留まりが向上する。 (もっと読む)


【課題】電源及びグランドの平板構造で見られる低特性インピーダンスを維持しつつ平板に置ける共振モードを防止する構造を提供する。
【解決手段】絶縁物層とパターニングされた導体層とを含む積層体10を有する多層配線基板において、前記積層体10内に互いに平行となるように配置された電源用の第1導電路1及びグランド用の第2導電路2と、前記第1導電路1の上面及び前記第2導電路2の上面にまたぐように設けられ、前記第1及び第2導電路側から順次積層された第1絶縁膜3と、第1導電膜4又は第1半導体膜4とを有する第1積層膜と、を備える。 (もっと読む)


【課題】高密度な半導体素子を内蔵した薄型で高信頼性の配線基板を提供する。
【解決手段】半導体素子117を内蔵する配線基板において、配線基板は、支持基板101と、支持基板上の半導体素子と、半導体素子の外周側面を覆う周辺絶縁層113と、配線基板の上面側の上面側配線と含む。半導体素子は、半導体基板103と、半導体基板上に交互に設けられた第1配線および第1絶縁層を含む第1配線構造層と、第1配線構造層上に交互に設けられた第2配線および第2絶縁層を含む第2配線構造層とを含む。上面側配線は、半導体素子の直上から、半導体素子の外縁より外側の周辺領域へ引き出されたファンアウト配線を含む。ファンアウト配線は第2配線を介して第1配線に電気的に接続される。第2配線は第1配線より厚く、上面側配線より薄い。第2絶縁層は樹脂材料で形成され、第1絶縁層より厚い。 (もっと読む)



【課題】 ガラスセラミックグリーンシート積層体の中央付近にボイドが発生するのを抑制するとともに、配線層間の静電容量の増加を抑制しつつ、多層配線基板の熱膨張係数をシリコンの熱膨張係数に合わせた寸法精度の高い多層配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 第1のガラスセラミックグリーンシートの焼成後の厚みが前記第2のガラスセラミックグリーンシートの焼成後の厚みの1/10〜1/3となるように設定し、前記第1のガラスセラミックグリーンシートにのみSiC、TiO、ZnOおよびSiの群から選ばれる1種の高誘電率粒子を含有させるとともに、前記ガラスセラミックグリーンシート積層体の積層方向の上下層側から中央層側に向けて前記第1のガラスセラミックグリーンシートに含まれる前記高誘電率粒子の含有量を多くなるようにしたガラスセラミックグリーンシート積層体をマイクロ波加熱により焼成する。 (もっと読む)


【課題】十分に優れた強度を有するガラスセラミックス基板及び配線基板を提供すること。
【解決手段】ガラスと該ガラス中に分散された板状アルミナフィラーとを含有し、板状アルミナフィラーのアスペクト比が20以上であり、板状アルミナフィラーの(104)結晶面のX線回折ピークに対する(006)結晶面のX線回折ピークの強度比が1.0以上であるガラスセラミックス基板11a〜11d、及びガラスセラミックス基板11a〜11dと導体12,13,14を備える配線基板10である。 (もっと読む)


【課題】電子部品及びマザーボードとの電気的接続信頼性を向上させる要求に応える配線基板を提供する。
【解決手段】配線基板は、樹脂層と該樹脂層よりも熱膨張率が大きい導電層とを含み、上面に電子部品が搭載されるための搭載領域Mを有する積層体を備え、導電層は、厚み方向に貫通するとともに樹脂層の一部が充填された複数の貫通孔Pが形成された第1導電層17aを有し、第1導電層17aは、搭載領域M直下の領域である第1領域R1と、搭載領域M直下外の領域である第2領域R2と、を含み、複数の貫通孔Pは、第1導電層17aの第1領域R1に形成された複数の第1貫通孔P1と、第1導電層17aの第2領域R2に形成された複数の第2貫通孔P2と、を含み、第1貫通孔P1は、平面視における面積が第2貫通孔P2よりも大きい。 (もっと読む)


【課題】ブレイクパターンが変形してブレイク不良が発生する問題を改善できるセラミック多層基板の製造方法を提供する。
【解決手段】未焼成のセラミックシートの表面にブレイクパターンを形成し、それを積層してセラミック積層体を得た後、セラミック積層体を焼成してブレイクパターンを消失させ、空隙を形成する。ブレイクパターンの形成方法として電子写真法を用いることで、粒子径の大きなトナーを使用でき、積層圧着時にブレイクパターンの潰れを抑制し、アスペクト比の大きな空隙を形成できる。そのため、ブレイク不良を改善できる。 (もっと読む)


【課題】 低融点金属との同時焼成が可能であり、クラックや破損が生じにくい回路基板を形成し得る高強度の低温焼成セラミックと、低温焼成セラミックからなる回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 少なくとも主成分としてAl、Si、Sr、Baを含み、組織中に六方晶SrAlSi、(Sr、Ba)AlSi、BaAlSiの少なくとも一種及びAl結晶を有する高強度低温焼成セラミックとする。 (もっと読む)


【課題】放熱性を向上するとともに、設計上の制約を低減することが可能な配線基板を提供すること。
【解決手段】配線パターンが形成された回路基板11と、絶縁性の樹脂で形成された第1の絶縁層3と、絶縁性の樹脂で形成された第2の絶縁層8と、第1の絶縁層3と第2の絶縁層8によって挟まれたシート状の、導電性を有するグラファイトシート2とを有し、回路基板11の配線パターンが形成された側に設けられた放熱層20とを備え、放熱層20は、第1の絶縁層3とグラファイトシート2と第2の絶縁層8を貫通し、配線パターンの全部又は一部と電気的に接続され、導電性材料によって形成された導電部4と、導電部4とグラファイトシート2の間を絶縁するために、絶縁性の樹脂によって形成された絶縁部5とを有する、配線基板である。 (もっと読む)


【課題】層間接続導体部の近傍にクラックが発生することを抑制し、基板の破壊を防止して、突出部材の接合強度を高めることができる多層セラミック基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】スタッド23の底面の外周におけるロウ材層59の外接円と、最表面の低温焼成セラミック層において表面金属層57の周りに配置されるビア55の面積中心との間の距離Zが2.5mm以上、スタッド23の底面の面積中心を中心にして、表面金属層57の半径方向の長さMLと、ロウ材層59の底面の同じ半径方向の長さRLとの差(ML−RL)がスタッド23の外周の全周にわたり0.65mm以上、スタッド23の底面の面積中心を中心にして、スタッド23に最も近いビア55の面積中心までの半径方向における長さVLとスタッド23の底面の同じ半径方向における長さSLとの比(VL/SL)が1.6〜2.0である。 (もっと読む)


【課題】必要部分のみが多層に積層された部分多層フレキシブルプリント配線板(部分多層FPC)であって、高密度実装ができるものが望まれていた。
【解決手段】第1両面FPC52は、一端側に両面回路部53を有し、他端側にも両面回路部55を有し、中央部は、片面回路部である信号ライン部54となっている。一端側の両面回路部53には、ボンディングシート2を介して第2両面FPC60が積層されている。ボンディングシート2を挟んで積層される第1両面FPC52の両面回路部53および第2両面FPC60には、それぞれ、内層側ビアホール16,24が形成されていて、外層側の配線層の実装領域が狭められない構造を有している。 (もっと読む)


【課題】クラック、断線、短絡等の発生が防止された、信頼性の高い導体パターンを備えた信頼性の高い配線基板を効率よく製造することのできる製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の配線基板の製造方法は、セラミックス材料とバインダーとを含む材料で構成されたセラミックス成形体を用意する工程と、セラミックス成形体に、金属粒子と前記金属粒子が分散する分散媒とを含む導体パターン形成用インクを液滴吐出法により吐出して、導体パターン前駆体を形成する工程と、少なくとも、セラミックス成形体の導体パターン形成用インクが付与された部位に、導体パターン形成用インク中における金属粒子の分散性を低下させる分散性低下剤を含む組成物を付与する工程と、複数のセラミックス成形体を積層して積層体を得る工程と、積層体を焼結して、導体パターンおよびセラミックス基板とを有する配線基板を得る工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】導電性ペースト内の導体粉末の二次粒子の直径に影響を受けることなく高精細な印刷が可能であり、かつ焼成時の基板反りを小さく抑えたセラミック多層回路基板を得ることのできる導電性ペーストおよびセラミック多層回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のセラミック多層回路基板の製造方法は、導電性ペーストを焼成して配線を形成する工程を含むセラミック多層回路基板の製造方法であって、配線を形成する工程に用いられる導電性ペーストは導体と分散剤とを含み、導体の含有量は、導電性ペースト全重量に対して60重量%以上90重量%以下であり、導体に対する分散剤の含有量が0.1重量%以上3.0重量%以下であって、上記導体は、電性ペーストにおいて二次凝集体を形成していることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ビア及び配線パターンを容易に形成することが可能な配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】第1の金属層の第1の配線パターン113〜119及びビア111,112が形成された面を第1の絶縁層100の上面と対向させ、第2の金属層の第2の配線パターン121〜127が形成された面を第1の絶縁層100の下面と対向させる工程と、第1の配線パターン113〜119及びビア111,112を第1の絶縁層100の上面から圧入するとともに第2の配線パターン121〜127を第1の絶縁層100の下面から圧入することにより第1の絶縁層100の上部に第1の配線パターン113〜119を埋設し、第1の絶縁層100の下部に第2の配線パターン121〜127を埋設し、ビア111,112を第2の配線パターン122,126と圧着する工程とを含む。 (もっと読む)


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