【課題】例えば半導体装置製造用の各種基板を収容するＦＯＵＰ等の荷を搬送する運搬装置において、荷を小型化しつつ、比較的容易にして該荷を経路上から取り外して運搬する。
【解決手段】運搬装置（１０）は、内部空間を規定すると共に内部空間が外部空間に開いている開口を規定し、開口を介して外部空間から内部空間に、荷を収容可能な本体部と、本体部における内部空間に面する又は接する位置に配置されており、収容された荷を内部空間内にて保持可能な保持手段（２０）と、本体部における外部空間に面する又は接する位置に配置されており、外部空間側から把持可能な一又は複数の取っ手（１１）とを備える。 （もっと読む）

【課題】２枚の基板受載板を用いて基板を搬送する場合でも基板検出センサが正確にウェーハの有無を検出することができ、又空間的な制約を受けにくい基板処理装置を提供する。
【解決手段】上下２枚の基板受載板８１，８２を用いて基板１２を搬送する基板搬送モジュール部４を具備する基板処理装置に於いて、上受載板と対向可能な位置に上反射型光基板検出器８５を設けると共に、下受載板と対向可能な位置に下反射型光基板検出器８８を設け、前記上反射型光基板検出器が光を射出し、前記下受載板に反射された光を前記上反射型光基板検出器が受光するかどうかで基板の有無を検出し、前記下反射型光基板検出器が光を射出し、前記上受載板に反射された光を前記下反射型光基板検出器が受光するかどうかで基板の有無を検出する。 （もっと読む）

【課題】例えば半導体素子製造用の各種基板を収容する被搬送物を、ポートとの間で移載する搬送システムにおいて、移載用位置のズレ量を検出する。
【解決手段】搬送システム（１００）は、被搬送物（９）が所定位置に載置されるポートとの間で、被搬送物を移載可能であると共に、被搬送物を保持可能である搬送本体部（２０）と、搬送本体部が搭載されており、天井に敷設された軌道に沿って走行可能であると共に停止可能な走行部（１９）と、走行部がポートに対応する停止位置に停止した際に、所定位置に対面するように被搬送物の代わりに搬送本体部に保持され、ポートを撮像し、ポートに係る距離画像を出力する距離画像手段（１０）と、出力された距離画像に基づいて、走行部が停止位置に停止した際における所定位置に対する搬送本体部の移載用位置のズレ量を検出するズレ量検出手段（２５）とを備える。 （もっと読む）

【課題】装置及び搬送のトラブルを迅速に把握する。
【解決手段】半導体製造システム７０には、ホストコンピュータ１、ＣＲレイアウト記憶装置２、統括生産情報システム３、装置管理システム４、搬送制御システム５、歩留統御システム６、半導体製造装置７ａ、半導体製造装置７ｎ、ＬＡＮ８、装置情報取得部１１、搬送情報取得部１２、生産情報取得部１３、連動表示制御部１４、連動表示部１５、搬送指示部１６が設けられる。連動表示制御部１４、連動表示部１５、及び搬送指示部１６は、半導体製造自動化クリーンルームでの装置及び搬送のトラブルを迅速に把握してクリーンルームレイアウト画面に表示する。表示後、クリーンルームレイアウト画面上で搬送車を指定し、搬送車の移送径路の変更、移送先の半導体製造装置の変更を行う。 （もっと読む）

【課題】保管時のペリクル内雰囲気を清浄化し、露光時にレチクルヘイズが発生することを抑える。
【解決手段】通気孔を有する支持枠と、該支持枠に張られたペリクル膜と、を備えるペリクルが取り付けられたレチクルを、ストッカ２０内に収納するレチクル収納装置１０であって、第一ガス（窒素ガス）と、ペリクル膜に対する透過率が第一ガスよりも高い第二ガス（乾燥空気）とで、それぞれストッカ２０内をパージするガス流路３０を備えるレチクル収納装置１０。 （もっと読む）

【課題】例えば半導体装置製造用の各種基板などの荷を搬送する搬送車に夫々備えられており、当該搬送車の種類に応じて当該搬送車を軌道上で如何に搬送させるかを決める搬送制御装置において、搬送効率の低下を抑制する。
【解決手段】搬送制御装置は、軌道（１）が敷設された全領域が区分けされた複数のエリアの内部の各々、及び該内部の相互間を夫々走行すると共に荷を搬送する搬送車に搭載される。搬送制御装置は、予め設定された複数の種類のうち当該搬送車が属する一の種類に応じて、複数のエリアのうち、当該搬送車が走行可能な一又は複数のエリアを走行エリアとして設定するエリア設定手段（５）と、複数のエリアのうち、設定された一又は複数の走行エリアから他の一又は複数のエリアの内部へ、当該搬送車が進入しないように当該搬送車を制御する制御手段（４）とを備える。 （もっと読む）

【課題】作業性を損なうことなくロードポート部上のフープの光学式記号を容易に読み取ることができるフープ洗浄装置を提供する。
【解決手段】ロードポート部４の載置面１４に光を透過する透過窓１７を形成し、透過窓１７の下方に、ロードポート部４上のフープ３の光学式記号７を透過窓１７越しに読み取る記号読取部１８を設けたものである。 （もっと読む）

【課題】 ローディングされたポッドを固定する際に、固定力によるポッドの変形を防止可能なFIMSシステムを提供する。
【解決手段】 FIMSシステムにポッドを固定するポッド固定システムよりポッドに作用する固定力に対し、当該固定力に起因するポッドの変形に対してFIMSシステムに埋設される位置決めピンが当該変形を抑制する抗力を発生可能となるように固定力の作用線を配置する。 （もっと読む）

【課題】優れた振動防止および保護効果を有し、パーティクルの発生を減少させること。
【解決手段】トップカバーとボトムカバーとを含み、ボトムカバーの収納空間の中に緩衝位置決め装置を配置したレチクルポッドのキャリアケースであって、緩衝位置決め装置は、キャリア構造部品と、複数の弾性部品とを含む。キャリア構造部品は、底部と、底部に接続し縦方向に湾曲し延伸した複数の翼部により構成される。複数の弾性部品は、底部に接続しもう１つの向かい合う縦方向に湾曲し、湾曲部を有する複数の弾性部品を形成する。弾性部品の複数の湾曲部は同一平面上に形成する。 （もっと読む）

本発明の目的は、箱のドアによって閉鎖されることが可能であり、平行な平面に従って積み重ねられた基板ウェハを収納する入力／出力開口部を有する輸送箱のためのドレン装置である。ドレン装置は、シールされた壁によって限定され、少なくとも浄化ガス入口オリフィスを有する上部と浄化ガス出口オリフィスを有する下部とに分割され、２つの部分がシールされた隔壁によって分離されている容積、および、ウェハの開口部に対して平行に配列され、浄化ガスを輸送箱の方に向けるためにドレン装置の容積と接続する開口部を規定する一連のガイドを備える。
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【課題】モジュールの種別を操作画面で識別可能のインテグレート装置を提供する。
【解決手段】インテグレート装置はウエハを処理する複数の処理モジュールと、ウエハを複数の処理モジュールに搬送する負圧移載装置および正圧移載装置と、これらを制御する制御システムとを備えている。制御システムは操作画面の稼働状況表示欄ＰＭ１には第一処理モジュールの種別である枚葉式ＣＶＤ装置、稼働状況表示欄ＰＭ２には第二処理モジュールの種別であるＭＭＴ装置、稼働状況表示欄ＰＭ３には第三処理モジュールの種別である第一クーリング装置、稼働状況表示欄ＰＭ４には第四処理モジュールの種別である第二クーリング装置、稼働状況表示欄ＴＭには負圧移載装置、稼働状況表示欄ＬＭには正圧移載装置を表示する。 （もっと読む）

【課題】ミニエンバイラメント方式の半導体製造装置において、ＦＯＵＰのウエハの出入口とローディング部の開口部からダクトが侵入するのを防止する。
【解決手段】ローディング部４の開口部１８の内周面部に、方形枠状のフィルタ収納ケース３２内に、円筒状濾材３３を方形枠状に連結して形成された方形枠状フィルタ３４を配設した清浄空気噴出装置３０が設置され、該清浄空気噴出装置３０を構成するフィルタ収納ケース３２の外側面部３２ａおよび内周面部３２ｂに、多数開口された通気小孔４０より成る噴出部２９から、清浄空気４２をＦＯＵＰ６の出入口９および前記ローディング部４の開口部１８の全周面に沿って均一な風速で噴出して、エアカーテンを形成することにより、前記ＦＯＵＰ６の蓋１０の開放時に、ダスト２７を含んだ外気が、ＦＯＵＰ６および半導体製造装置１内の清浄空間へ侵入するのを阻止する。 （もっと読む）

【課題】基板を効率良く冷却して基板処理のスループットを高くすることができるロードロック装置を提供すること。
【解決手段】ロードロック装置６，７は、真空の搬送室５に対応する圧力と大気圧との間で圧力を変動可能に設けられた容器３１と、容器３１内の圧力を搬送室５に対応する真空と大気圧に調整する圧力調整機構４９と、容器３１内に相対向して設けられ、ウエハＷを近接または接触することによりウエハを冷却する下部クーリングプレート３２および上部クーリングプレート３３と、ウエハＷを下部クーリングプレート３２の冷却位置に搬送するウエハ昇降ピン５０および駆動機構５３と、ウエハＷを上部クーリングプレート３３の冷却位置に搬送するウエハ支持部材６０および駆動機構６３とを具備する。 （もっと読む）

【課題】基板処理装置に故障が発生した場合、特に重大な故障でない限り、装置全体を停止させることなく、基板に対する一部の処理を継続して、基板を洗浄・回収したり、装置内の基板を容易に外部に排出したりすることで、基板が処理不能となるリスクを低減できるようにする。
【解決手段】研磨部３、洗浄部４及び搬送機構７，２２を有する基板処理装置の運転方法であって、研磨部３、洗浄部４及び搬送機構７，２２のいずれかで異常を検知した際に、異常を検知した場所及び基板の基板処理装置内の位置によって基板を分類し、異常検知後における基板に対する処理を分類した基板毎に変えて行う。 （もっと読む）

【課題】シールガスケットの保持力低下を抑制してその一部が蓋体と共に外れてしまうおそれを排除し、シールガスケットの嵌入具合にバラツキが発生するのを抑制できる基板収納容器及びそのシールガスケットの取り付け方法を提供する。
【解決手段】基板を収納する容器本体１と、容器本体１の開口上部に嵌合される蓋体１０と、この開口上部に形成される嵌入溝２０と、嵌入溝２０に嵌入されて容器本体１と蓋体１０の間をシールするシールガスケット３０とを備え、シールガスケット３０に、容器本体１の開口上部に対する蓋体１０の嵌合方向と平行に位置する嵌合突起部を形成する。シールガスケット３０を、嵌入溝２０に嵌入される枠体３１と、枠体３１から伸びて蓋体１０に接触するシール形成部３２とから形成し、嵌合突起部を、枠体３１の直線部に複数形成される第一の嵌合突起部と、枠体３１のコーナ部に形成される第二の嵌合突起部とから形成する。 （もっと読む）

【課題】ケース内のマスクブランクを均一な固定荷重でしっかりと固定でき、しかもケースの気密性を向上させたマスクブランクの収納ケースを提供する。
【解決手段】上方が開口したケース本体５と、該ケース本体５に被せる蓋体６とを備えて、内部にマスクブランクを収納するマスクブランク収納ケースである。ここで、ケース本体５に蓋体６を被せたときの接合部の全周にわたって囲繞する固定用枠１０と固定片１１から構成される固定部材を係合させることにより、接合部の全周にわたって均一に固定荷重がかかるように蓋体５とケース本体６とを固定する。 （もっと読む）

【課題】 基板処理特性の低下を防止できるようにする。
【解決手段】 カセット内に収容された結晶方向を有するウェーハを第１の搬送ロボットによってウェーハ載置棚に収容後、前記ウェーハ載置棚を回転させた後、第２の搬送ロボットによりウェーハを取り出し、反応室内にウェーハの結晶方向を反応室中心線に合わせて載置する。 （もっと読む）

【課題】処理室からの処理ガスの拡散を有効に防止することができる処理方法および処理システムを提供すること。
【解決手段】真空下で被処理基板Ｗに所定のガス処理を施す処理室３１と、処理室３１を真空引きする排気装置と、処理室３１に開閉装置Ｇを介して連結され、真空下に保持される真空予備室５とを備えた処理システム１００を用い、ハロゲン含有ガスを使用して処理室３１内で被処理基板Ｗを処理後、開閉装置Ｇを開放して被処理基板Ｗを真空予備室５へ搬送するにあたり、開閉装置Ｇを開放する直前に、排気装置により処理室３１内を真空引きし、処理室３１の圧力を真空予備室５の圧力よりも小さくし、処理室３１と真空予備室５との間の差圧が一定以上になった時点で、真空引きを継続しつつ、処理室３１内に不活性ガスを供給する。 （もっと読む）

【課題】底部開口容器を用いる場合に、検出装置を移動させることなく、基板の位置ずれを検出することができる基板位置ずれ検出システムを提供する。
【解決手段】底部に開口部を有する本体２と、開口部を開閉自在な蓋体３と、蓋体３に載置されてウエハＷを保持するカセット４とを有する容器１及びカセット４とともに蓋体３を昇降させる担持体８を有するカセットモジュール５に適用される基板位置ずれ検出システムは、担持体８に配されて昇降方向に光を投光・受光する回帰反射型センサ１０と、本体２の天井部において回帰反射型センサ１０と対向するように配されて光を反射する回帰反射板１２と、蓋体３に配されて光を透過させる透過窓１１とを有する検出装置を備え、該検出装置の構成要素は昇降方向の一直線上に配され、回帰反射型センサ１０が投光する光は、カセット４が所定の収容位置に保持するウエハＷによって遮光されない。 （もっと読む）

【課題】自動化の要請や量産化を図ることができ、しかも、高精度な位置決め制御や軽量化を実現できる基板収納容器用の収容槽を提供する。
【解決手段】金属製の底板１と、この底板１上に搭載されて貯えた純水中にオープンカセット２０を浸漬して収容する収容槽１０とを備え、この収容槽１０を、樹脂を含む成形材料により射出成形してその底部にはオープンカセット２０用の配置領域１１を凹み形成する。収容槽１０に半導体ウェーハを手作業により浸漬するのではなく、収容槽１０に複数枚の半導体ウェーハを整列収納したオープンカセット２０をロボットや自動機により浸漬するので、自動化や量産化の要請を図ることができる。 （もっと読む）