【課題】 ＳＭＩＦポッド本体及びウエハーカセットを汚染させることなく、ウエハーカセットをＳＭＩＦポッド本体に出し入れし、ＳＭＩＦ蓋をロックおよびロック解除できる手動式ＳＭＩＦオプナーを安価で提供する。
【解決手段】上下昇降ハンドル７によって操作する昇降ユニット１０により駆動するＳＭＩＦポッド本体２を積載する上下昇降ベースプレート５とウエハーカセットを積載する固定台とＳＭＩＦ蓋３をＳＭＩＦポッド本体２にロック及びロック解除するロック開閉レバーを有し、昇降ユニット１０の上昇駆動に重量バランサー８を設けた。 （もっと読む）

【課題】基板に異物が付着することを抑制することが可能な基板収納容器及び基板輸送方法を提供する。
【解決手段】基板収納容器１００は、ガラス基板等の基板２を収納する第１のカセットと、当該第１のカセットを内包する第２のカセット４とを備えている。そして、基板２は基板収納容器１００を用いて輸送される。このように、基板２を収納する第１のカセットと、当該第１のカセットを内包する第２のカセット４とを設けることにより、本基板収納容器１００の外部に存在する塵埃が基板２に付着することを抑制できる。 （もっと読む）

【課題】 損傷しやすい被搭載物品や固定を要する部材を適切に輸送等することのできる製造の容易な固定キャリア及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 基材１と、基材１の表面３に積層被覆されて半導体ウェーハ２０を着脱自在に粘着保持する変形可能な保持層１０とを備え、基材１の周縁部２を除く表面３から複数の突起４を突出させてその先端面５を保持層１０に接触させるとともに、基材１に、複数の突起４と保持層１０の間の区画空間６に連通する給排孔８を穿孔する。そして、基材１の表面３と各突起４の周面７とを粗面化して非粘着処理を施す。基材１の表面３と突起４の周面７が粗い非粘着面なので、保持層１０の粘着性が高くても、基材１の表面３や突起４の周面７に保持層１０が粘着したり、元の状態に復元するのに長時間を要するのを有効に防止できる。 （もっと読む）

【課題】異なるロック手段を有する半導体ウェーハポッドの開閉を同一装置で行うことができる、ＳＭＩＦ用のポッド開閉装置を提供する。
【解決手段】異なる大きさを有する複数のＳＭＩＦポッドを積載可能な台１１０と、異なるロック手段を有する複数のＳＭＩＦポッドの全てのロックを開閉可能な開閉機構とを備えることにより同一の装置で複数のＳＭＩＦポッドの全ての開閉が可能であるＳＭＩＦポッドの開閉装置１００とする。 （もっと読む）

より有効なキャリアのクリーニングおよび乾燥を促進するための超撥水性表面を備えるキャリアである。本発明では、キャリアの表面全体または表面の一部が超撥水性にされる。キャリアの超撥水性表面により、クリーニングで使用される場合に表面と接触する液体は、液膜またはかなりの数の液滴を残さずに、急速かつ容易に「転がり落ちる」。その結果、表面の乾燥に費やされる時間や労力は少なくなり、再付着する残留物が最小となる。それにより、全体的な処理の質を向上させる。そのうえ、超撥水性表面は、汚染物質が液体または蒸気の形の場合、汚染物質の初期付着に耐性がある。
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【課題】 割れやすく反りやすい精密基板を適切に輸送することのできる精密基板用の固定治具及びその使用方法を提供する。
【解決手段】 フロントオープンボックスタイプの基板収納容器に収納される基板２０と、基板２０に積層され、バックグラインドされた３００ｍｍタイプの半導体ウェーハ３０を着脱自在に密着保持する密着層２５とを備える。そして、基板２０の表面から密着層２５に被覆される複数の突起２１を突出させてこれら密着層２５と複数の突起２１との間には区画空間２２を形成し、基板２０には、区画空間２２に連通する半導体ウェーハ３０用の取り外し孔２３を穿孔する。割れやすく、反りやすい半導体ウェーハ３０を容器本体に直接収納するのではなく、固定治具に密着保持させて収納するので、他の工場に安全、かつ適切に輸送できる。 （もっと読む）

【課題】 保管、搬送等に好適であり、大容量化にも対応することができるような収容物
保管搬送装置を実現する。
【解決手段】 例えば電動ファン２２のような送風手段と、送風手段から送られる気体の
パーティクルを除去する高密度フィルタ２３Ａ等の脱塵手段とを有する送風ユニット２と
、例えば基板１００のような収容物を収容するための空間を形成する筐体１１及び上蓋１
２の箱体に、送風ユニット２との接合する部分となり、送風ユニット２から送られる気体
が流入する給気口部１３を少なくとも設けた清浄空間ユニット１とを備え、送風ユニット
２に対して清浄空間ユニット１を脱着可能にするものである。 （もっと読む）

【課題】 電子ビーム露光のように、基板１枚あたりの処理時間が非常に長い場合でも、レジストの変質を防止してパターンの線幅変動を抑止し、パターンの更なる微細化に十分対応可能な信頼性の高い露光を実現する。
【解決手段】 制御手段５は、ウェーハキャリア１をＳＭＩＦ−ＰＯＤ１１から移動させ、搬送部１７の空間内からサーマルチャンバー４との間でウェーハ１０を搬送及び回収する制御を行い、ウェーハ１０の露光時にはウェーハキャリア１をＳＭＩＦ−ＰＯＤ１１内へ戻し、ウェーハ１０の露光が終了するまでウェーハキャリア１をＳＭＩＦ−ＰＯＤ１１内で待機させる。 （もっと読む）

焼成プレートの表面にサポートされた基板を加熱するように構成された焼成プレートと、冷却プレートの表面にサポートされた基板を冷却するように構成された冷却プレートと、該焼成プレートから該冷却プレートに基板を移送するように構成された基板移送シャトルとを備えており、該基板移送シャトルが、該焼成プレートによって加熱された基板を冷却可能な温度コントロール基板保持表面を有している集積熱ユニット。 （もっと読む）

【課題】 FOUPに収容されたウエハからの汚染物質等の除去操作を容易且つ確実に行うことを可能とする。
【解決手段】 FIMS内部における開口部１０の上部にガス給気パイプを配置し、該パイプより、ポッド内部に収容されたウエハの上面に対して清浄ガスを吹き付けることによって、ウエハからの汚染物質等の除去を行うこととする。 （もっと読む）

【課題】ロック解除装置のベース板よりカセットを無理なく容易に持ち上げることができ、作業性に優れる。
【解決手段】カセット搬送ボックスのロック手段付底板に設けられた２個のラッチピン穴に嵌合する２個の開放ピン２１Ａ、２１Ｂを有して回転自在に設けられた開放治具２０と、ロック手段付底板に設けられた３個の位置決め穴に嵌合する３個の位置決めピン２２Ａ、２２Ｂ、２２Ｃを有して回転自在に設けられた旋回テーブル８とを有し、開放治具２０と旋回テーブル８とは、開放治具２０に固定されたセンターギア５と、センターギア５と同心に配置され旋回テーブル８に固定された内歯を有する原動ギア９と、原動ギア９とセンターギア５とを同方向に回転させる中間ギア１０、１１とから連結され、原動ギア９の歯数は、センターギア５の歯数より多く設けられている。 （もっと読む）

【課題】 半導体製造工程における半導体基板の待機中或いは搬送中に、大気中の水分等不純物の半導体基板への付着を制御できる基板収納装置及びその不純物制御方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 ガス流量を適切にフィードバックした基板収納装置及び基板収納装置内の不純物制御方法を用いることにより、半導体製造工程間における不純物による半導体基板への悪影響、例えば配線の腐食、自然酸化膜の形成等を防止する。 （もっと読む）

【課題】 クリーンルームの清浄度を所定レベルまで高めることなく塵芥が基板に付着するのを防止できると共に、作業者の負担を増やすことなく基板処理のスループットを向上することができる基板処理システムを提供する。
【解決手段】 プラズマ処理システム１は、プラズマ処理装置２、ＳＭＩＦ４及び予備ローダ５を備え、該予備ローダ５は、未処理のポッド３を載置して保管する台状の未処理ポッドポート２８と、処理済みのポッド３を載置して保管する棚状の処理済みポッドポート２９と、未処理のポッド３を未処理ポッドポート２８からＳＭＩＦ４のポッド載置部２４へ移送し、処理済みのポッド３をポッド載置部２４から処理済みポッドポート２９へ移送するポッドアーム３１とを有する。 （もっと読む）

【課題】簡単な構造のウェーハケースを用いることが可能で、信頼性があり、ウェーハを汚染することなく、短時間で読取を行うことができるケース内に収容されたウェーハのマーク読取り方法を提供する。
【解決手段】本ケース内に収容されたウェーハＷのマークＭ読取り方法は、半導体ウェーハＷを複数枚搭載したウェーハキャリアが収納された密封式ウェーハケース１を用意し、各々の半導体ウェーハＷに施された識別マークＭに、識別マーク読取り装置３の複数の識別マーク読取り手段３ａを対向させ、密封式ウェーハケース１の透光部位１ｂ１を介して複数枚の半導体ウェーハＷの識別マークＭを一度に同時に読取ることを特徴とする。 （もっと読む）

ほぼポリカーボネートプラスチックから形成されたエンクロージャ部分を有するキャリアである。エンクロージャの選択された部分は、9.0(m/s ^1/2)(kW/m)^−2/3以下の火災伝搬指数を有するプラスチック材料からほぼ形成された外側表面部分を有している。適したプラスチック材料には、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリケトン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトンケトン、ポリエーテルスルフォン、及びポリテトラフルオロエチレンが含まれる。この発明によるキャリアエンクロージャは、大部分が、比較的低価格で容易に成形可能な透明のポリカーボネートから形成されている。より高コストな防火性ポリマ材料が、そのキャリアや他の隣接キャリアへの火災の広がりに影響を与える必要のあるエンクロージャ上に選択的に配置されている。
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【課題】外部汚染から保護し、装置スループットが最適になるリソグラフィ・パターニング装置を搬送するボックスを提供する。
【解決手段】運搬ボックス２は、パターニング・デバイスを格納する格納位置を有する内部空間１０、及び、パターニング・デバイスの搬送のための開口を有するコンテナ部８を具備する。内部空間から装置へパターニング・デバイスを搬送する前に、内部空間が加圧される。ボックスはまた、開口を閉じる閉塞部、及び／又は、ボックスの内部空間から／そこへ、ガスを排気し、かつ／又は、供給するチャネル・システム１８を備え、こうしたボックス装置と協働するように構成されたリソグラフィ装置を含む。 （もっと読む）

基板コンテナは、エンクロージャとドアシャーシとを有する。エンクロージャはエンクロージャの内部に対して基板を挿入したり取り出したりするためのアクセス開口部を備えている。ドアシャーシは開口部を選択的に閉じるように形成されている。ドアシャーシは第１の壁を有し、そこから周辺壁が延びている。基板コンテナはシャーシに対して動作可能に連結されたラッチ機構を有する。ラッチ機構はシャーシを開口部へ動作可能に固定するように形成されている。基板コンテナのドアは凹凸加工された粒子捕捉領域を有しており、ラッチ機構やその他のところで発生した粒子が粒子捕捉領域によって捕捉される。
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基板容器は、囲み部と、該囲み部に形成されて囲み部を介する基板容器内部への流体アクセスを提供するアクセス構造とを有する。前記アクセス構造は開口部と内部表面とを有する。グロメットはアクセス構造の内部表面と接触するように設置されている。
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半導体ウェーハキャリアが載置される容器本体１と、該容器本体１を覆うカバー２とから構成される半導体ウェーハキャリア容器であって、前記容器本体１が熱可塑性樹脂（ａ１）及び炭素繊維（ａ２）からなる樹脂組成物（Ａ）を成形してなり、該容器本体１の表面抵抗率が１０^２〜１０^１２Ω／□であり、前記カバーが熱可塑性樹脂（ｂ１）及び有機化合物である帯電防止剤（ｂ２）からなる樹脂組成物（Ｂ）を成形してなり、該カバー２の表面抵抗率が１０^３〜１０^１３Ω／□であり、かつ該カバー２が透明性を有することを特徴とする半導体ウェーハキャリア容器によって、帯電防止性に優れ、汚染防止性に優れ、耐擦傷性に優れ、しかも内部の視認性にも優れている半導体ウェーハキャリア容器を提供できる。 （もっと読む）

メモリディスクの輸送容器はカセットを含み、カセットは開放上端と及び開放底と、開放上端を覆う上カバーと、底を覆う底カバーとを有する、本体部は対向側壁及び対向端壁を有する。２個の側壁は各々、垂直な上部と、内方に収束する底部とを備える。この側壁は、基板を垂直方向に位置決めし且つ間隔をあけた配列で保持するために切欠を画定する、内方に対向する長手状歯即ちスペーサを有する。各歯は開放上端から開放底まで連続すると共に、各歯は側壁の垂直上部に上垂直部を、また側壁底部に収束下部を有する。
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