【課題】ワックスを半導体ウェーハの裏面の全域に均一な形状でかつ均一な厚さで塗布することができる半導体ウェーハ接着方法およびその装置を提供する。
【解決手段】半導体ウェーハ接着装置１０のワックス塗布部１５でシリコンウェーハＷの裏面にワックスを塗布（Ｓ１０４）する直前に、プリベーク部１４において、シリコンウェーハＷを所定の温度までプリベーク（Ｓ１０３）し、シリコンウェーハＷの温度、ひいてはシリコンウェーハＷに塗布されるワックスの温度（粘度）を管理する。これにより、ワックスをシリコンウェーハＷの裏面全域に均一な形状で、しかも均一な厚さで塗布することができる。 （もっと読む）

本発明は、電気的な構成要素を備えたウエハのためのウエハテーブルに関し、ウエハテーブルは、ウエハを載せるための水平な回転円板、及びウエハの支持シートから構成要素を分離するための定位置のエジェクタを備えている。回転円板は、ウエハ平面に対して平行にかつ直線的に断続的なステップ若しくは行程で微動移動可能な往復台に支承されていて、微動操作可能な回転駆動部によって回動させられるようになっている。回転駆動部と直線駆動部とは、各構成要素をエジェクタの位置によって規定された取り出し位置に到達させるように位置決めされている。これによって、ウエハテーブルを小さいスペースで配置して操作できるようになっている。
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【課題】接着剤を付着させることを防止して切断をスムース、且つ、精度良く行うことができる切断装置及び切断方法を提供する。
【解決手段】接着シートを半導体ウエハ毎に幅方向及び周方向に切断する切断装置であって、この切断装置は、先端にカッターが取り付けられたカッターユニットを含む。カッターユニットは、円弧状穴に沿って略鉛直面内で回転可能となる状態でブラケットに取り付けられており、前記カッター刃を傾斜姿勢にした状態で半導体ウエハの外周に沿って接着シートを切断するように構成されている。 （もっと読む）

より安全で簡単かつ確実にウェハを単離させることができ、しかもウェハの単離を行う処理速度の向上を図ることのできるウェハ単離方法、ウェハ単離装置及び該ウェハ単離装置を用いたウェハ単離機を提供する。該最上層のウェハの晶癖線軸（Ａ−Ａ′，Ｂ−Ｂ′）から時計回り又は反時計回りに角度１５°〜７５°ずらした軸方向（Ｌ−Ｌ′）で該最上層のウェハを押さえると共に、該最上層のウェハの曲げ応力が該晶癖線軸からずらした軸方向（Ｌ−Ｌ′）に生じるように、該最上層のウェハの周縁部を上方に反らせつつ、該最上層のウェハの下面と隣接する下側のウェハの上面との間に流体を吹き込むと共に該再上層のウェハを上昇せしめ、ウエハを単離するようにした。
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【課題】貼合せ基板の製造不良を低減することのできる貼合せ基板製造装置を提供すること。
【解決手段】基板Ｗ２は、該基板Ｗ２の内面に向かってガスを噴出させながらその内面外周部を吸着保持する搬送ロボット３１によりプレス装置のチャンバ２０内へ搬入され、加圧板２４ａに保持される。 （もっと読む）

【課題】この発明は、ゲートで仕切られたチャンバ間で搬送対象物を停止することなくスムーズに搬送できる搬送装置を提供することを課題とする。
【解決手段】搬送装置３０は、開閉可能なゲートＧを介して隣接した２つのチャンバ３３、３４間で搬送対象物を受け渡し搬送する搬送機構４０を有する。搬送機構４０は、チャンバ３３、３４毎に設けられ、搬送対象物に固設されたラック３８に歯合するピニオン４１をそれぞれ有する。上流側のピニオン４１が回転して搬送対象物が搬送され、下流側のピニオン４１にラック３８の先端が歯合するとき、下流側のピニオン４１がレール４３に沿って傾斜した方向に退避可能となっている。 （もっと読む）

【課題】吸着ヘッドの吸着面が物品に接触するときの衝撃を十分に小さくして、機械的に脆い物品でも安定かつ確実に吸着保持し、搬送可能にする。
【解決手段】固定部と吸着部との間に設けられて、それらの間に閉じられた気室を形成するベローズを備え、吸着部の吸着面を物品へ接触させる時には、物品に接触する際に生じる衝撃力により吸着部が持ち上がる程度の第１の圧力で、吸着部の吸着面にて吸着された物品を搬送する時には、第１の圧力よりも大きく、搬送中にストッパ部が固定部から離れない程度の第２の圧力で、可動部材のストッパ部が固定部に当接するように、ベローズ内の気室の圧力を調整して物品を吸着保持することを特徴とする吸着ヘッド。 （もっと読む）

【課題】ＩＰ測定作業を自動で行うことができる転写マスク用ＩＰ測定装置を提供する。
【解決手段】転写用マスクとこれを保持するチャックとの２つを一体とした、あるは、前記２つとこれらを載置するためのアダプタとの３つを一体とした、一体部材８０の形態を維持しながら、全ての作業動作を行うもので、静電吸着用として、前記チャックへ所定の電圧を供給する電圧供給用の電源６０を設け、電源からチャックに電圧を供給する回路を、複数６１、６２、６３配し、各回路は、それぞれ、チャックが移動する全経路の一部で、チャックへの静電吸着用の電圧の供給を分担し、あわせて、全経路に渡り、チャックの静電吸着用の電圧を供給し続けるものである。 （もっと読む）

【課題】収納ケース内の基板の配置方向、及び表裏を人手を介することなく変更することで異物の基板への付着、基板端面の損傷、及び基板の粉塵の飛散を抑えることができる基板配置方向制御装置を提供すること。
【解決手段】載置部１００、アーム付き搬送部２００、方向変更部３００を具備し、アーム付き搬送部２００により載置部１００と方向変更部３００とのあいだで基板１の搬送が行われる。方向変更部３００で基板１に備えられたマークが撮像され、あらかじめ登録されているマークデータと照合されて収納ケース内における基板１の配置方向、及び表裏が認識される。認識された基板１の配置方向から登録されている所定の方向に、基板の水平回転、または／および反転を行うものである。 （もっと読む）

本発明は、基板にめっき処理を行ったり、基板を処理液に浸漬させて処理を行ったりするのに好適な基板処理装置に関する。本発明の処理装置（１）は、基板（Ｗ）の出し入れを行うロード・アンロードエリア（１００）と、基板を洗浄する洗浄エリア（２００）と、基板のめっき処理を行うめっき処理エリア（３００）とを有し、ロード・アンロードエリア（１００）には、ドライ仕様の複数のハンド（１３７，１３９）を有する基板搬送ロボット（１３０）と、基板収納カセットを搭載するロードポート（１１０）と、基板をフェースアップからフェースダウンに切換るドライ仕様の反転機（１５０）が配置されている。
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【課題】 被加工物の外周部が沿っている場合であっても好適に吸着保持して搬送可能な被加工物搬送装置を提供すること。
【解決手段】 テーブル３２に載置された被加工物５０の外周部を下側から支持する被加工物保持部２２と；テーブル３２に載置された被加工物の外周部に対して，上側からエアを噴射するエア噴射手段４２，４４と；被加工物保持部２２に設けられ，被加工物の外周部を吸着保持する吸着パッド２４と；吸着パッド２４により被加工物を吸着保持した被加工物保持部２２を移動させる移動手段と；を備えることを特徴とする。かかる構成により，エアの噴射によって被加工物５０の外周部の反りを矯正して，被加工物保持部２２に密着させることができる。このため，被加工物５０の外周部と被加工物保持部２２との間で空気漏れが生じないので，吸着パッド２４によって被加工物５０を好適に吸着保持できる。 （もっと読む）

【課題】 基板の反転を含む基板搬送における基板の損傷を防止し、これらの基板搬送機構を有する基板加工装置の小型化によって設置面積を減少させることができる基板加工方法および基板加工装置が提供される。
【解決手段】 マザー基板を単位基板に割断する基板加工装置は、マザー基板にスクライブラインを形成するスクライブ部３と、形成されたスクライブラインに沿ってマザー基板をブレークするブレーク部４と、少なくとも前記各部の間でマザー基板または単位基板を搬送する基板搬送部２とを具備し、基板搬送部２が、基板をそれぞれの基板の主面で吸着して保持する吸着面を備えた複数の回転台座５１，７３を有し、回転台座５１，７３のそれぞれは、回転軸５２，７２を有し、基板を吸着保持した状態で少なくとも基板の両主面が上下方向に反転するよう各基板をそれぞれの回転軸５２，７２周りにほぼ同時に回動させる基板吸着回動手段を有する。 （もっと読む）

各種ウェハ処理分野に使用される現在の最高技術水準のホルダに勝る製造及び性能利点を有する改善されたウェハホルダ設計を開示する。このウェハホルダには、一連の短い半径方向溝が組み込んである。溝は環状チャンネルの基部から延び、このチャンネルはウェハ寸法と肉厚に基づき変化する固定された半径方向位置へ基部ウェハ凹部の外径沿いに延びている。この溝がウェハに対し若干の重複を備え、ウェハの着脱操作に必要なウェハ下側での自由なガス交換を容易にしている。半径方向溝の短い長さが、ウェハホルダをより簡単に製造させ、現在の最高技術水準のホルダに比べより優れた性能を提供する。 （もっと読む）