説明

Fターム[5F031FA20]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 移送の形態 (16,275) | 移送時の姿勢 (432) | 反転状態 (133)

Fターム[5F031FA20]に分類される特許

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【課題】ウェハのデバイスが形成された面または形成される面に吸着痕や損傷を生じさせることなくウェハを搬送することができるウェハ搬送装置およびウェハ搬送方法を提供すること。
【解決手段】搬送ハンド30の内部には、段差部24に設けられた吸着孔32と、複数の通気用の孔31,33とが設けられている。段差部24は、リブウェハ10のデバイス面2と重ならない位置に設けられている。第1通気用の孔31は、吸着孔32に接続されている。各第1通気用の孔31同士は互いに独立している。各第1通気用の孔31には、異なる第2通気用の孔33が接続されている。各第2通気用の孔33は、それぞれ異なる配管25を介して真空発生源26に連結されている。つまり、複数の吸着孔32に対する真空系統が互いに独立して設けられている。リブウェハ10の吸着状態は、搬送ハンド30の内部に流れる空気の流速に基づいて判定される。 (もっと読む)


【課題】小型化で処理速度を向上させつつも支持用の粘着テープを半導体ウエハの裏面に精度よく貼り付ける粘着テープ貼付け方法および粘着テープ貼付け装置を提供する。
【解決手段】フレーム搬送ユニットによってリングフレームfを保持テーブルのフレーム保持部73に載置するとともに、保持アームで懸垂保持した保護シートPをウエハ保持テーブル72に載置し、さらに保持アームで吸着保持したウエハWをその回路面を下向きにして保護シートP上に載置し、当該保護シートPを介して吸着保持したウエハWとリングフレームfに粘着テープDTを貼り付ける。 (もっと読む)


【課題】ワークの種類に関わらずワークを精度よく搬送可能なワーク搬送方法およびワーク搬送装置を提供する。
【解決手段】同心円周上に所定ピッチで複数個の貫通孔が形成さえた、保持面から僅かに突出したパッド77を先端のU形の保持アーム34に、さらに所定ピッチで複数個有し、当該パッド77から保護シートに向けて圧縮空気を吹き付けて保持アーム34の保持面と保護シートとの間に負圧を発生させて保護シートを浮遊させた状態で懸垂保持し、あるいは当該パッド77で表面の回路の露出したウエハの裏面を吸着保持してそれぞれを搬送する。 (もっと読む)


【課題】 基板に対するパターン形成を迅速且つ正確に行うことができるパターン形成装置を提供する。
【解決手段】 基板wに対してパターン形成を行うパターン形成装置1であって、支持板2と、支持板2を回動する駆動手段8と、支持板2の回動により検出位置Dに搬送された基板wの位置を検出する基板位置検出手段20と、支持板2の回動により加工位置Pに搬送された基板wに対してパターン形成を行う加工手段30とを備え、支持板2の各装着部4,4は、基板位置検出手段20の検出に基づいて基板wの位置を修正する位置修正手段5を備えており、駆動手段8は、支持板2を正逆両方向に180°回動して各装着部4,4が検出位置Dと加工位置Pとの間で移動するように制御される。 (もっと読む)


【課題】ワークの浮上量を所望の値に設定するための部材点数を抑えることができる非接触保持装置を提供する。
【解決手段】非接触保持装置10は、ワークWに対向する保持面31を有して内部に圧縮空気が導入される保持体12と、保持面31に開口を有して保持体12に導入された圧縮空気を開口から流出する旋回流発生室34を備え、旋回流発生室34に流入した圧縮空気の旋回流によって負圧を形成し、保持面31に設けられた開口から流出する圧縮空気によって保持面31とワークWとの間に正圧を形成することによって、保持面31に接触しない位置にワークWを保持する。そして、保持体12には、旋回流発生室34と保持体12の外側の領域である外側領域Sとを連通させることによって、旋回流発生室34内に流入した圧縮空気を保持体12の外側領域Sへ漏出させる連通路36を備える。 (もっと読む)


【課題】ワークが保持される状態において、ワークの姿勢の安定性を高めつつワークと他の部材との接触を防止するチャック装置を提供する。
【解決手段】ワークWに対向する保持面32に開口する旋回室33を有した保持部材12を備え、旋回室33に流入した圧縮空気の旋回流によって旋回室33とワークWとの間に負圧を形成するとともに、旋回室33から流出した圧縮空気によって保持面32とワークWとの間に正圧を形成することによって、支持台40に支持されたワークWを浮上させて保持部材12から保持距離HDだけ離れた保持位置でワークWを保持するチャック装置10において、ワークWの浮上方向において保持面32から保持位置よりも保持部材12の領域である規制領域に配置されるとともに、ワークWとの接触によって浮上方向におけるワークWの進路を規制領域の支持台40側に規制する浮上規制部材45を備えている。 (もっと読む)


【課題】小型かつ比較的安価な構成で、ワークにシートを粘着剤層を介して貼付することのできるシート貼付装置を提供すること。
【解決手段】シート貼付装置100では、クリーニングエリア20へのワークWの搬入、クリーニングエリア20から貼付エリア30へのワークWの搬送、および貼付エリア30からのワークWの搬出などを共通のロボット50で行なう。また、クリーニングエリア20では、ワークWがロボット50に保持された状態でクリーニングが行なわれ、貼付エリア30では、ワークWがロボット50に保持された状態でシートSの貼付が行なわれる。このため、各エリアにワークWを搬入した際、ワークWを整列させる必要がないなどの利点がある。 (もっと読む)


【課題】ベルヌーイチャックで基板を吸引保持するときのハンド部の位置精度を緩やかなものとしながら、吸引保持した基板の位置決めを基板自身で自動的に行なって、非接触状態での基板の移載を高速度で能率よく行なえる移載装置を提供する。
【解決手段】パラレルメカニズムのハンド部に、基板を非接触状態で吸引保持するベルヌーイチャックと、基板を位置決めする複数個のガイド体とを設ける。基板を吸引する際には、吸引開始位置におけるベルヌーイチャックをハンド部で位置保持して、ガイド体が基板の外郭線の外に位置する状態にして基板を吸引保持する。吸引保持された基板を、ノズル穴から吹き出される空気流で一方向へ旋回させ、旋回変位する基板の辺部をガイド体で受け止めて位置決めする。以上により、基板を吸引保持するときのハンド部の位置精度を緩やかにできる。さらに、吸引保持した基板の位置決めを基板自身で自動的に行なえる。 (もっと読む)


【課題】振動の影響を受けることなく位置合わせする。
【解決手段】定盤から支持されて、第一基板を保持する第一ステージと、定盤から支持されて、第一ステージに保持された第一基板に対向させて第二基板を保持する第二ステージと、第二ステージまたは第二ステージに保持された第二基板を観察する第一顕微鏡と、第一ステージまたは第一ステージに保持された第一基板を観察する第二顕微鏡と、定盤から第一ステージへの振動伝播を抑制する第一除振部とを備え、第一顕微鏡および第二顕微鏡による観察から検出した相対位置に基づいて第一ステージ及び第二ステージの少なくとも一方を移動させることにより、第二ステージに保持された第二基板と、第一ステージに保持された第一基板とを互いに位置合わせする位置合わせする。 (もっと読む)


【課題】 基板を位置合わせして重ね合わせる場合に、面と面を接触させるときに互いの面の傾きが大きいと、その後実行される倣い動作において繰り返される試行動作の回数が増えてしまい、装置としてのスループットの低下を招いていた。
【解決手段】 基板重ね合わせ装置は、第1基板を保持する第1ステージと、第1基板に対向して配置される第2基板を保持する第2ステージと、第1ステージに保持された第1基板の接合面である第1接合面と、第2ステージに保持された第2基板の接合面である第2接合面の相対的な傾きを取得する取得部と、第1ステージおよび第2ステージの少なくとも一方を、取得部が取得した傾きに基づいて、第1接合面と第2接合面が互いに平行となるように駆動する駆動部とを備える。 (もっと読む)


【課題】平面研磨装置等において、研磨を行い、純水等でリンスした後、純水等で研磨定盤に付着した平板状ワークを縁部から吸着しながら剥がして搬出するための真空吸着ヘッドを提供する。
【解決手段】本発明の真空吸着ヘッド3は、板状基体31、板状基体31に設けられた吸引口34、及び、吸引口34を取り囲むように一方の端面で板状基体31の平坦面に取り付けられ、他方の端面が真空吸着面を構成する弾性筒状壁体32を備えている。弾性筒状壁体32は、平板状ワークWの縁部に近い側の壁321がその中心に近い側の壁322より狭い壁幅を備えている。これにより、吸引時に平板状ワークWを介して弾性筒状壁体32が大気圧を受けて圧縮変形するとき、縁部に近い側の壁321がその中心に近い側の壁322よりも大きく圧縮変形し、縁部側から剥がされる。 (もっと読む)


【課題】基板貼り合わせ装置のスループットを向上させる。
【解決手段】素子を形成された基板を貼り合わせる基板貼り合わせ装置であって、前記基板に対して処理を実行する3以上の処理部と、前記3以上の処理部の夫々に対して前記基板を搬送する搬送部とを備え、前記3以上の処理部のいずれかは、前記基板を互いに位置合わせして重ね合わせる位置合わせ装置であり、前記3以上の処理部の夫々は前記搬送部の回動中心に対する円周上に配される。 (もっと読む)


【課題】基板吸着時の基板振動が抑制され、安定して基板を吸着保持することができる基板吸着装置の提供。
【解決手段】基板吸着装置は、高速流体を流出口Eから流出してベルヌーイ効果により吸着対象基板7を吸引する吸着部1と、流出口Eから吸着対象基板方向に所定距離を空けて流出口Eを囲むように配置され、吸着部1により吸引された吸着対象基板7に当接するパッド4とを備える。パッド4が流出口Eを囲むように配置されているので、吸着対象基板7がパッド4の当接したときの振動の発生を抑制することができる。 (もっと読む)


【課題】搬送条件に応じて正圧吸引と負圧吸引との少なくとも一方を使用して板状部材を支持することができるようにすること。
【解決手段】搬送装置10は、ウエハWを厚さ方向両側から挟み込む位置に設けられた第1及び第2の支持手段11、12と、これらの支持手段11、12を移動可能に設けられた移動手段13とを備えて構成されている。第1の支持手段11は、気体を吸引することでウエハWを吸引して支持する負圧吸引手段16を備えている。第2の支持手段12は、ウエハWに気体を噴出することで当該ウエハWを吸引して支持する正圧吸引手段28を備えている。 (もっと読む)


【課題】プローブ装置の省スペース化を実現すると共に、ウェハをテストするテスタの稼働率の低下を防止することができる半導体検査装置を提供することである。
【解決手段】本発明にかかる半導体検査装置は、複数のウェハ1が格納されたロットボックス2がセットされるカセット7と、ロットボックス2からウェハテスト部へウェハを搬送するウェハ搬送部と、カセット7とウェハテスト部との間に複数のウェハのうち所定のウェハを格納するウェハバッファ8と、を備えるプローバを有する。 (もっと読む)


【課題】基板処理装置の搬送装置とロードロック室との間で基板の交換を行う場合において、単位時間当たりの基板の処理枚数を増大させることが単純な構成で実現できる基板交換機構を提供する。
【解決手段】ロードロック室内で基板W1を固定して支持する第1の支持部材31と、ロードロック室内に上下動可能に設けられ、基板W2を支持する第2の支持部材32と、搬送装置に設けられ、基板W1、W2のそれぞれを第1及び第2の支持部材31、32のそれぞれとの間で受け渡しする第1及び第2の搬送部材41、42とを有し、ロードロック室内で第1及び第2の搬送部材41、42が一体的に上方又は下方に第1の距離H1だけ移動するとともに、第2の支持部材32が搬送部材41、42の移動方向と同じ方向に第1の距離H1よりも大きな第2の距離H2だけ移動し、搬送部材41、42の一方の搬送部材が基板を受けるとともに、他方の搬送部材が基板を渡す。 (もっと読む)


【課題】複数枚の基板の一括搬送および1枚の基板の枚葉搬送の切り換えに要する時間を短縮することができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板処理装置は、バッチハンド24によりフープ保持部に保持されたフープに対して複数枚の基板Wを一括して搬入および搬出するバッチ式の第1搬出入機構4と、第1および第2枚葉ハンド45,46によりそれぞれバッチハンド24およびフープに対して1枚の基板Wを搬入および搬出する枚葉式の第2搬出入機構5とを含む。 (もっと読む)


【課題】研削加工後の被加工物を吸引保持して洗浄手段に搬送した後に、被加工物を吸引保持パッドから剥離する際に吸引保持パッドに吸引されている研削水が周囲に飛散しないようにした搬出手段を備えた研削装置研削装置を提供する。
【解決手段】被加工物を吸引保持するチャックテーブルと、該チャックテーブル上に吸引保持された被加工物を研削する研削手段と、チャックテーブル上で研削された加工後の被加工物を洗浄する洗浄手段と、チャックテーブル上で研削された被加工物を洗浄手段に搬出する被加工物搬出手段とを具備する研削装置であって、被加工物搬出手段は下面に被加工物を吸引保持する吸着面を有する吸引保持パッドと、吸引保持パッドを一端部に支持する搬送アームと、搬送アームの一端部に吸引保持パッドを懸垂状態で弾性支持する支持手段と、搬送アームの一端部に装着され吸引保持パッドの外周を覆う遮蔽部材とを具備している。 (もっと読む)


【課題】液晶ガラス基板の水平とその搬送方向変更と、水平状態と起立(縦型)状態の起倒転動を単純機構で動作干渉を皆無にし安全確実且つ迅速に行う液晶ガラス基板搬送装置を提供する
【解決手段】 (1)液晶ガラス基板の水平下面支持搬送の高さ位置を変更可能にした昇降式の第一搬送コンベアーと、(2)液晶ガラス基板の水平下面支持搬送の高さ位置を固定した位置固定式の第二搬送コンベアーと、(3)液晶ガラス基板の水平下面支持の平面位置を可変自在にし且つその平面位置を調整する昇降式の姿勢調整装置と、(4)液晶ガラス基板の水平下面吸着支持の高さ位置を可変可能にし、下面吸着支持状態で上下水平平行シフトと水平から倒立状又はその逆の転動と、倒立状態での前後進平行シフトを可能にした吸着支持転動装置とからなる (もっと読む)


【課題】基板の振動や変形を抑制しつつ基板を高速度で搬送する。
【解決手段】基板ハンドリングシステム1は、ガラス基板Gを搬送するための搬送路20を備え、搬送路20は、エアの吹出及び吸引によって搬送路20上でガラス基板Gを浮上保持する基板浮上装置25と、ガラス基板Gを保持し当該ガラス基板Gを移動させる駆動機構24と、を有しており、ガラス基板Gを浮上保持しながら搬送方向Xに搬送する。この基板ハンドリングシステム1では、ガラス基板Gを高速度で搬送しても、ガラス基板Gの主面が傷付くのを確実に抑制できると共に、高い保持剛性によって、ガラス基板Gの振動を抑制し且つガラス基板Gに変形があってもこれを搬送路20に倣った状態にすることができる。 (もっと読む)


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