【課題】基板サポートの不均一性を回避する。
【解決手段】リソグラフィ投影装置は、放射ビームを提供するための、放射ビームをパターニングし、かつ、パターニングされたビームを基板のターゲット部分に投影するビーム生成システムと、物品を支持するための突起を備えたサポートテーブルと、突起の高さの偏りを検出するディテクタと、突起材料の高さを修正するようになされた材料除去デバイスと、ディテクタと材料除去デバイスの間に結合されたコントローラとを備えており、材料除去デバイスは、機械研磨デバイス、マグネトレオロジー仕上げツール、および一点または多点ダイヤモンドツールからなるグループから選択される除去ツールを備えている。 （もっと読む）

【課題】基板を比較的高い温度で安定して制御するプラズマ処理装置の基板支持台を提供する。
【解決手段】基板Ｗを静電的に吸着するための第１電極と、基板Ｗにバイアスを印加するための第２電極と、基板を加熱するためのヒータとを内蔵する静電吸着板１４と、静電吸着板１４の下面に溶着され、静電吸着板１４と同等の熱特性を持つ合金からなる筒状のフランジ１３と、フランジ１３の下面に対面する面にＯリング１２を有し、Ｏリング１２を介して、フランジ１３を取り付ける支持台１０とを有する基板支持台において、基板Ｗに印加するバイアスパワーを変更するときには、基板Ｗの温度が一定となるように、基板Ｗを加熱するヒータパワーを変更する。 （もっと読む）

【課題】回収した液体から受ける影響を抑えられた液体回収機構を備える液浸露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置ＥＸは、液体を回収する液体回収機構２０を備え、液体回収機構２０のうち、回収された液体に接触する液体接触面の少なくとも一部は、液体に対して耐腐食性を有している。 （もっと読む）

【課題】組立調整に時間がかからない構成とし、ウェハ搬送装置とのウェハ受け渡し時間も大幅に短縮したプリアライナ装置によるウェハ搬送システムを提供すること。
【解決手段】ウェハを保持して回転させ、センサによって前記ウェハの外周を検出し、前記センサの検出情報を用いて少なくとも前記ウェハを所望の方向へと回転させるプリアライナ装置において、前記ウェハを保持する把持部材１に、前記ウェハの裏面と接触してこれを吸着保持する吸着面１２が形成され、かつ前記ウェハを前記吸着面１２へ搬送するウェハ搬送装置のエンドエフェクタ１３が進入可能な凹部１４が形成されたプリアライナ装置とした。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、半導体ウエハの測定装置及び半導体ウエハの測定方法を提供する。
【解決手段】 本発明の半導体ウエハの測定装置１は、半導体ウエハＷを載置する測定ステージ２と、前記測定ステージ２の上面側から前記半導体ウエハＷと接触させるためのプローブ針３とを具備し、前記測定ステージ２の電極部分４の面積を１０〜１５０ｍｍ^２とし、半導体ウエハＷの面積に対する電極部分４の面積を小さくすることで、前記プローブ針３と測定ステージ２間に発生する浮遊容量を低減する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置における基板の露光時間を最大化し、且つ／又は、大きな基板が露光されるときにリソグラフィ装置の占有面積の増加を最小に抑えるための方法及び装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィの方法及び装置は放射線のビームを供給する照明システム１２４、ビーム１１０にパターン形成するパターン形成デバイス１０４、及び、パターン形成されたビームを基板１１４の目標部分上に投影する投影システム１０８を含む。計測システムは投影システムとの基板の位置合わせのために投影システムに隣接して設けられている。２つ以上の可動チャックは各々が、基板を支持し、且つ、ローディング・デバイスと投影システムの間で移動するように構成されている。チャックは独立に可動であり、１つの基板がローディング・システムと投影システムの間を移動される間に、もう１つの基板は計測システム及びパターン形成されたビームを通過可能である。 （もっと読む）

【課題】下部電極を構成する電極部材を長寿命化して部品消耗コストを低減するとともに、飛散物付着による装置内部の汚染を防止することができるプラズマ処理装置およびプラズマ処理装置用の電極部材を提供することを目的とする。
【解決手段】板状のワークを対象としてプラズマ処理を行うプラズマ処理装置においてワークの下面に当接する電極部材４６を、複数の貫通孔４５ａが形成された板状の吸着部材４５と冷却プレート４４とをろう付けして構成し、吸着部材４５の上面にアルミナを溶射した溶射膜６５を形成するとともに、貫通孔４５ａが開口した孔部４５ｄのエッジを溶射膜６５によって覆うようにする。これにより、電極部材のスパッタリングによる消耗を低減させて長寿命化し部品消耗コストを低減するとともに、飛散物による装置内部の汚染を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】コスト上昇を抑制する共に、フォーカスリングの冷却効率を飛躍的に改善することができるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ処理装置は、ウエハＷを載置する静電チャック２５と、ウエハＷの周辺において静電チャック２５上に配置されるフォーカスリング３０と、フォーカスリング３０の熱交換を行うための熱媒体が充填される伝熱ガス導入溝と、フォーカスリング３０を静電チャック２５に静電吸着するために静電チャック２５に設けられた電極板２５ｄに印加するチャック電圧を制御する制御部とを備える。制御部４３は、エッチング工程を含む複数の工程からなるプラズマ処理の各工程に応じてチャック電圧を変更し、エッチング工程では高電圧を電極２５ｄに印加する。 （もっと読む）

【課題】サセプタの貫通孔内においてリフトピンを滑らかに昇降させることのできる構成を有する電気光学装置の製造装置を提供する。
【解決手段】チャンバー６０と、チャンバー６０内に設けられ、基板１０’が載置されると共に、貫通孔６３が設けられたサセプタ６１と、貫通孔６３内に挿通され、基板１０’を昇降自在に支持するリフトピン６２と、リフトピン６２における下端６２ｉ側の外周面６２ｇに形成された、貫通孔６３の内周面６３ｎに接触する接触部位６２ｐ１と、リフトピン６２における上端６２ｔ側の外周面６２ｇに貫通孔６３の長さよりも短く形成された、貫通孔６３の内周面６３ｎに対し非接触となる非接触部位６２ｐ２と、リフトピン６２の下端６２ｉに当接した状態でリフトピン６２を昇降させ、リフトピン６２の上端６２ｔに支持された基板１０’を昇降させるリフトバー６５と、を具備していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
プラズマ処理システムの加工室において基板を保持する基板ホルダーと共に使用する磁気クリップを提供する。
【解決手段】磁気クリップは、締め付け面及び磁石をそれぞれが有する第１の本体部材及び第２の本体部材を含む。第１の本体部材は、基板ホルダーと機械的に接続されるように構成される。第２の本体部材は、閉位置と開位置との間で第１の本体部材に対して移動するようにヒンジによって第１の本体部材と枢着される。閉位置では、第１の締め付け面と第２の締め付け面との間に基板の縁領域が位置決めされる。開位置では、縁領域は解放される。第２の本体部材の磁石は、第２の本体部材が閉位置にあるときに第１の本体部材の磁石を磁気的に引き付け、第１の締め付け面及び第２の締め付け面に対する基板の縁領域の移動を拘束する力を加える。 （もっと読む）

【課題】吸着面に静電吸着される被吸着物の平面度を高くできる静電吸着保持装置、露光装置、露光方法及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】第２静電吸着保持装置３４は、可撓性を有する誘電性材料で形成され、且つウエハＷを吸着する吸着面３４ａが形成された一方の面４２ｂを有する基体４２と、該基体４２の内部に設けられる第１電極部４５及び第２電極部４６と、基体４２の一方の面４２ｂとは反対側の他方の面４２ａに駆動力を付与し、基体４２の吸着面３４ａの形状を変形させる駆動装置４１と、を備えている。この駆動装置４１の駆動によって、吸着面３４ａの形状が変形すると、該吸着面３４ａに静電吸着されるウエハＷの被照射面Ｗａの平面度は高くなる。 （もっと読む）

【課題】 ウエハの大口径化及び配線の微細化に伴って要望される高い均熱性及び信頼性を有するウエハ保持体を提供する。
【解決手段】 ウエハを載置して加熱する加熱体１１と、この加熱体１１をチャンバー内で支持する支持部材１５とからなる半導体製造装置用ウエハ保持体であって、加熱体１１は、そのウエハ載置面を複数の領域に分割して得られる各領域毎に、加熱体１１内に埋設されている発熱体１２ａ、１２ｂと、発熱体１２ａ、１２ｂに接続されている電極部１３ａ、１３ｂと、発熱体部１３ａ、１３ｂが埋設されている領域の温度を測定する温度測定素子部１４ａ、１４ｂとを有しており、支持部材１５は、電極部１３ａ、１３ｂと温度測定素子１４ａ、１４ｂとを全て内包し、且つウエハ載置面上に載置されるウエハを着脱するためのリフトピンを内包していない。 （もっと読む）

【課題】残留吸着作用を低減でき、且つ長寿命の静電チャックの製造方法を提供する。
【解決手段】基板（１２）上に１０¹⁴Ωcm以上の抵抗を有する接着剤層（２２）を形成し、接着剤層上に、電極が埋設されるとともに１０¹⁴Ωcm以上の抵抗を有する表面絶縁層（１４）を形成する。或いは、基板上に１０⁸ Ωcm以上１０¹¹Ωcm以下の抵抗を有する接着剤層を形成し、接着剤層上に、電極が埋設されるとともに１０⁸ Ωcm以上１０¹¹Ωcm以下の抵抗を有する表面絶縁層を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】静電チャックの電極上に設けられた絶縁膜の膜厚に着目し、それを測定することで静電チャックの状態を把握できるようにした静電チャックの管理方法を提供する。
【解決手段】電極１１と、電極１１上に設けられた絶縁膜１５と、を有する静電チャック１００の管理方法であって、渦電流式膜厚測定器２００を用いて、絶縁膜１５の膜厚を測定し、測定された絶縁膜１５の膜厚値と予め設定された基準値とを比較する。このような方法によれば、静電チャック１００の状態を客観的に把握することができる。 （もっと読む）

基板表面に亘って所望の温度プロファイルを維持するための静電チャックシステムが開示されている。静電チャックシステムは、ペデスタル支持部の表面に亘って実質的に均一な温度プロファイルを画定するペデスタル支持部と、ペデスタル支持部によって支持されている静電チャックとを有する。静電チャックは、クランプ電極および独立に制御される複数の加熱電極を含む。独立に制御される加熱電極は、内部加熱領域を画定する内部加熱電極、および、ギャップ距離によって分離されている周辺部加熱領域を画定する周辺部加熱電極を含む。ペデスタル熱領域、内部加熱領域、周辺部加熱領域の熱特性を変化させる、または、内部加熱電極および周辺部加熱電極間のギャップ距離の大きさを変化させることにより、基板表面に亘る温度プロファイルを調整することが可能である。
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【課題】十分な量のロウ材を用いた場合でもロウ材のはみ出しを防止し、基板にクラックが発生するのを防止できる給電端子およびこれを備えるウェハ保持体を提供する。
【解決手段】金属製ブッシュ１００は、セラミック部材３００の止まり穴３１０に嵌入、固定される金属製ブッシュ１００であって、柱体形状に形成され、柱体形状の側面にロウ材溜め用の溝１１０を有する。これにより、ロウ材５００が側面の溝１１０にトラップされ、セラミック部材３００の表面にまで這い上がり、はみ出すことがなくなる。その結果、外観不良を防止し、はみ出したロウ材５００の除去作業を不要とすることができる。また、はみ出したロウ材５００が固着する基板表面の部分に、熱膨張差によりクラックが発生するのを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】均等で、かつ再現性のよい基板加熱を行う。
【解決手段】基板５０から形成される半導体装置の製造装置であって、基板５０が載置される基板載置面を有する基板載置台２１と、基板載置台２１にガスを送るガス導入手段２９、３０、３１、３４と、基板載置台２１内に設けられ、基板載置面に熱を伝えるヒータ２４と、基板載置台２１内に設けられ、基板載置面の温度を測定するセンサー２６と、センサー２６からの温度に基づいてヒータ２４に加える電力を調整するヒータ加熱制御手段２８とを有する。 （もっと読む）

【課題】プラズマチャンバー内で、ワークピースの周囲における露出金属からの電気的アークを減少又は排除することのできるプロセスキットを提供する。
【解決手段】半導体製造プロセスプラズマチャンバー内でワークピース１０の付近に取り付けられるプロセスキットであって、誘電体材料で構成され、中央開口部を有すると共に、その外縁がワークピース１０の外縁よりも外側にある誘電体シールド４０と、抵抗率が０．１Ωｃｍ以下の半導体材料で構成され、中央開口部を有すると共に、その外縁がワークピース１０の外縁よりも外側にある導電性カラー５０、５２とを備え、導電性カラー５０、５２が、誘電体シールド４０の少なくとも一部分の上に横たわる。 （もっと読む）

【課題】ネジ止めされた基板載置台の表面に，ネジのある部分とない部分との間の熱膨張量の差に起因して生じる撓みが発生することを防止する。
【解決手段】ウエハＷを載置する載置台２００であって，載置台本体を構成するサセプタ２１０と，このサセプタの周縁部を処理室１０２内に固定するネジ２３２とを備え，サセプタの周縁部に側面全周に渡る環状溝２４０を設けて，サセプタの周縁部をネジ２３２で締め付けられて熱膨張が抑えられる部分を含む下側の部分と，自由に熱膨張する上側の部分とに分けた。 （もっと読む）

【課題】本発明の態様は、パーティクル汚染の発生を抑制することができ、被処理物の離脱応答性が良好で、静電チャックの載置面部分に形成された被覆部の剥離耐久性が高い静電チャックおよび静電チャックの製造方法を提供する。
【解決手段】被処理物を載置する側の主面に形成された突起部と、前記突起部の周辺に形成された平面部と、を有する誘電体基板と、前記突起部と、前記平面部と、を覆うように形成された被覆部と、を備えた静電チャックであって、前記平面部の少なくとも一部には、前記被覆部が形成されていない領域が設けられていること、を特徴とする静電チャックが提供される。 （もっと読む）