【課題】 冷却速度を向上しても静電チャックの反りや破損が生じない基板保持体を提供する。
【解決手段】 静電チャック１０と静電チャック支持体２０とを備えた基板保持体であって、静電チャック支持体２０を構成する変形防止板２１および冷却機構２２は、この記載順に静電チャック１０に近い側から配置されており、変形防止板２１はその両面において摺動可能に挟持されており、基板Ｗの処理の際の静電チャック１０の表裏面の温度差をΔＴ_１、変形防止板２１の表裏面の温度差をΔＴ_２、冷却機構２２の表裏面の温度差をΔＴ_３、静電チャック１０の基板載置面１０ａの温度と冷却機構２２において変形防止板２１に対向する面とは反対側の面の温度との温度差をΔＴ_４とした時、これらはΔＴ_１／ΔＴ_４＜０.１かつΔＴ_２／ΔＴ_４＜０.１かつΔＴ_３／ΔＴ_４＜０.１の関係を有している。 （もっと読む）

【課題】プラズマエッチング装置等の処理装置に適用した場合に、シリコンウエハ等の板状試料の面内に局所的な温度分布を生じさせることにより、プラズマ印加に伴う経時的な温度変化の調整や広い温度範囲での温度の調整が可能であり、板状試料の局所的な温度制御を行うことが可能な静電チャック装置を提供する。
【解決手段】本発明の静電チャック装置１は、一主面を板状試料Ｗを載置する載置面とするとともに静電吸着用内部電極１３を内蔵した静電チャック部２と、この静電チャック部２を所望の温度に調整する温度調整用ベース部３と、これら静電チャック部２と温度調整用ベース部３との間に設けられた絶縁性有機フィルム４とを備え、この絶縁性有機フィルム４の設ける位置及び厚みを面内で調整することにより載置面における温度分布を調整した。 （もっと読む）

【課題】 ビームに歪みが発生せず、ビームが軽量で安価に製作できるガントリー型ＸＹステージを提供する。
【解決手段】 ガントリー型ＸＹステージは、鋼製の架台と、この架台に設けた互いに平行な一対のＹ軸リニアガイドに案内されて架台の上面と平行な方向であるＹ軸方向に移動可能な一対のＹ軸可動体と、これら一対のＹ軸可動体間に架け渡して設けられてＹ軸方向と直交する方向であるＸ軸方向に長いビーム１０と、このビーム１０に設けたＸ軸リニアガイド１１，１２に案内されてＸ軸方向に移動可能なＸ軸可動体１３とを備える。ビーム１０を、複数本の鋼製角パイプ１０ａ，１０ｂ，１０ｃをそれぞれの長手方向が平行になるように組み合わせて構成する。 （もっと読む）

【課題】セラミック粒子の脱粒しにくい吸着用部材を提供する。
【解決手段】対象物を吸着する際に用いられる吸着用部材であって、対象物が吸着される吸着面を有する吸着部と、該吸着部の周囲に設けられた支持部とを有する。吸着部は、複数のセラミック粒子と該複数のセラミック粒子を結合するガラスとを含む。該吸着部の深さ方向におけるガラス濃度の変化率は１４％以内である。 （もっと読む）

【課題】高精度に導体が内蔵された薄型のセラミックス接合体を提供する。
【解決手段】相対密度９９％以上の第１及び第２のセラミックス焼結体１１，１２、並びに空隙を有する導体１３を用意する工程と、第１及び第２のセラミックス焼結体１１，１２の間に導体１３を挟み込み、ホットプレスすることにより、少なくとも一方のセラミックス焼結体がクリープして空隙が埋まり、他方のセラミックス焼結体と接合する工程とを含む。第１及び第２のセラミックス焼結体１１，１２は、互いに共通する成分を主成分とし、少なくとも一方のセラミックス焼結体の平均粒径を７μｍ以下とする。 （もっと読む）

【課題】高精度に導体が内蔵された薄型のセラミックス部材を提供するものである。
【解決手段】相対密度９９％以上の第１のセラミックス焼結体１１の主面に溝１１１を形成する工程と、溝１１１に導体１２を形成する工程と、第１のセラミックス焼結体１１の主面を導体１２とともに研磨して、主面における溝１１１に形成された導体１２の表面１２１と溝１１１以外の第１のセラミックス焼結体表面１１１とを面一の研磨面とする工程と、相対密度９９％以上の第２のセラミックス焼結体１３の主面を研磨面とする工程と、第１のセラミックス焼結体１１の主面と第２のセラミックス焼結体１３の主面とを密着させてホットプレスする工程とを含む。第１のセラミックス焼結体１１及び第２のセラミックス焼結体１３は、互いに共通する成分を主成分とする。 （もっと読む）

【課題】投影光学系と基板との間を液体で満たして露光処理する場合においても、基板とホルダとの間に液体が浸入することを防止する。
【解決手段】液体１を介して露光される基板Ｐを保持して移動するステージ装置であって、前記基板Ｐを支持する複数の支持部３４と、前記複数の支持部３４の周囲に設けられ、該複数の支持部３４が支持する前記基板Ｐの側面との間にギャップを形成する周囲部材３０と、を備え、前記周囲部材３０は、該周囲部材の側面部に開口する流路６２と、前記ギャップから前記流路６２に向かって傾斜する傾斜面５と、を含む。 （もっと読む）

【課題】基板処理装置の各液処理ユニットに処理液を供給するときに、流量の精度を落とすことなく流量制御機構をまとめることができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】処理液が流れる供給流路６８ａと、供給流路６８ａに処理液を供給する処理液供給部７０と、供給流路６８ａ上に設けられ、供給流路６８ａの流量を制御する流量制御機構１３１と、流量制御機構１３１の下流側に接続される第１の経路６８ｃ又は第１の経路６８ｃと平行に接続される第２の経路６８ｄに切り替える切替機構１３５とを有する。流量制御機構１３１は、供給流路６８ａの流量を計測する流量計測部１３２と、内部に開閉可能な弁を備えた流量制御弁１３３と、流量設定値ＦＳと流量計測値ＦＭとが等しくなるように、流量制御弁１３３を制御する流量制御部１３４とを有する。 （もっと読む）

【課題】各部品の破壊や接触不良を検出する安定で信頼性の高い装置を提供する。
【解決手段】 基板を処理する処理室と、基板を加熱するヒータと、ヒータを内包し処理室内に設けられた基板支持台と、基板支持台を支持するシャフトと、シャフト内に挿通された配線と、配線を保持する保持部と、保持部に接続された温度検出部と、を有する。 （もっと読む）

【課題】回転浮上体の径方向の力と回転トルクとを同一の電磁石で制御することにより不要な外乱の発生を抑制することができる処理装置を提供する。
【解決手段】被処理体に対して処理を施す処理装置において、処理容器と、被処理体を支持する非磁性材料よりなる回転浮上体と、回転浮上体に所定の間隔で設けられた磁性材料よりなる複数の回転ＸＹ用吸着体と、回転浮上体に周方向に沿って設けられた磁性材料よりなる浮上用吸着体と、処理容器の外側に設けられて浮上用吸着体に垂直方向上方に向かう磁気吸引力を作用させて回転浮上体の傾きを調整する浮上用電磁石群と、処理容器の外側に設けられて回転ＸＹ用吸着体に磁気吸引力を作用させて浮上された回転浮上体を水平方向で位置調整しつつ回転させる回転ＸＹ用電磁石群と、ガスを供給するガス供給手段と、被処理体に処理を施す処理機構と、装置全体の動作を制御する装置制御部とを備える。 （もっと読む）

【課題】 常温時の高精度なチャックトップ上面の平面度を常温時に限らず昇温時や冷却時にも高精度に維持することができるウェハプローバ用ウェハ保持体を提供する。
【解決手段】 本発明のウェハプローバ用ウェハ保持体は、ウェハ載置面を有するチャックトップと、チャックトップにおいてウェハ載置面とは反対側の面に設置される温度制御手段と、前記チャックトップ及び／又は前記温度制御手段を支持する支持体と、該支持体の下部に設置された底板とを有し、該底板の熱膨張係数が、前記チャックトップの熱膨張係数以上であり、前記チャックトップ、支持体、底板の熱伝導率をそれぞれＫ１、Ｋ２、Ｋ３としたとき、Ｋ１＞Ｋ２かつＫ３＞Ｋ２であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板に傷をつけることなく、エッチング斑の発生を効果的に防止することが可能な載置台を提供する。
【解決手段】載置台５Ａは、例えばアルミニウムやステンレス鋼（ＳＵＳ）などの導電性材料で形成された基材７と、基材７の上に設けられた絶縁膜８とを備えている。絶縁膜８の上面は、ＦＰＤ用ガラス基板Ｓを載置する基板載置面５０となっている。基板載置面５０は、表面粗さＲａが２μｍ以上６μｍ以下の粗い表面を有する粗化部５１と、この粗化部５１の周囲を囲む表面粗さＲａが２μｍ未満の平滑部５３とを有している。 （もっと読む）

【課題】真空チャックに求められる吸着力で、吸着面の一部に載置される被吸着物を確実に吸着する真空チャックを提供する。
【解決手段】大気圧をＰ１、真空チャック１に求められる最小吸着力をＦｍｉｎとし、到達圧力がＰｕ、排気効率がＳｅの真空ポンプ５で背面側が吸引される吸着パッド２が、吸着パッドの単位表面積と該単位表面積内に露出する貫通孔の総開口面積との比である開口率ｎと、多数の貫通孔による吸着パッド全体のコンダクタンスＣが、


を満たす。（１）式を満たす真空チャック１は、被吸着物に覆われない吸着パッド２の一部から空気漏れがあっても、Ｆｍｉｎ以上の吸着力で被吸着物を確実に吸着保持する。 （もっと読む）

【課題】小型でかつストロークが大きくとれ、適用に制限がないアクチュエータ素子を提供すること。
【解決手段】アクチュエータ素子１０は、シリコーンを含むエラストマーとイオン液体との混合物からなり、電圧が印加されることにより変位する変位子１１ならびに変位子１１に電圧を印加するための電極１２、１３とを有する素子本体１４と、変位子１１の変位によって面外方向に変位する変位伝達部１５とを具備する。 （もっと読む）

【課題】高い電気絶縁性を確保しつつも容易に製造することができる静電チャックを提供する。
【解決手段】基板Ｓを保持するための基板保持用電極９ａ，９ｂを有する上部板１２と、プラズマを発生させるためのプラズマ用電極を有する下部板１４と、ヒドロキシル基を有する含フッ素エチレン性重合体から構成されると共に上部板１２と下部板１４との間に介在して上部板１２と下部板１４とを互いに電気的に絶縁させた状態で接合する熱融着シート１３とを備える。 （もっと読む）

【課題】スペースを取らないで確実にセパレータを回収できる信頼性の高いＡＣＦ貼付装置及び貼付方法を提供する。
【解決手段】搭載部品を表示基板の搭載位置に貼付けるＡＣＦとＡＣＦを積層し保護するセパレータ１１とを具備するＡＣＦテープを搭載位置に搬送し、ＡＣＦを搭載位置に貼付け、ＡＣＦから剥離されたセパレータを回収する際に、セパレータ幅に比して数倍以上の幅を有する巻取りリール２７０を巻取り部２５０に装着し、セパレータを巻取りリールに巻取り、その後、巻取りリールを巻取り部からに着脱することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】静電吸着により被吸着物を保持した際に、被吸着物への傷、パーティクルの発生を抑制できる静電吸着機能を有する装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】支持基板１１と、該支持基板１１上に形成された静電吸着用電極１２と、該静電吸着用電極１２を覆う絶縁層１４と、前記支持基板１１の静電吸着用電極１２側の前記絶縁層１４上に形成された窒化アルミニウム製の突起部１５とを含む静電吸着機能を有する装置であって、前記窒化アルミニウム製の突起部１５の窒化アルミニウムの相対密度が、４０％〜９７％である静電吸着機能を有する装置。 （もっと読む）

【課題】基板に異物が付着するのを防ぐことができる基板カートリッジ、基板処理装置、基板処理システム、制御装置及び表示素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】基板が出し入れされる開口部を有し、前記開口部を介した前記基板を収容するカートリッジ本体と、前記カートリッジ本体に設けられ、外部接続部に対して着脱可能に接続されるマウント部とを備え、前記開口部は、前記マウント部と前記外部接続部との間の接続状態に応じて、前記基板によって閉塞可能に設けられている。 （もっと読む）

【課題】接合材層の穴への流れ込みを防止できるとともに、吸着面の均熱性の低下を防止することができる半導体製造装置用部品を提供すること。
【解決手段】半導体製造装置用部品１は、セラミック部材１０及びベース部材３０を備える。セラミック部材１０には、第２主面１２にて開口する第１の穴４７，８１が設けられる。また、ベース部材３０は、第１の穴４７，８１に連通する第２の穴４９，８２を有する。そして、セラミック部材１０の第２主面１２及びベース部材３０の支持面３１は接合材層２０を介して接合される。また、支持面３１には、穴４９，８２を包囲する位置に溝９０，９１が設けられる。なお、接合材層２０は溝９０，９１の外側領域に存在し、溝９０，９１内の空間には接合材層２０の一部が入り込んで溜まり９２を形成する。 （もっと読む）

【課題】支持ピン用の貫通孔部分の温度低下を抑制し、基板の加熱処理を均一化できる熱処理装置を提供する。
【解決手段】ホットプレート７１およびサセプタ７２には、支持ピン７０用の貫通孔７７が形成され、この貫通孔７７には、円筒状のピン孔用スリーブ７８が嵌め込まれている。このピン孔用スリーブ７８は、サセプタ７２の形状に合わせて、サセプタ面に対して＋／−０．２ｍｍの範囲の高さであり、０．５〜１０ｍｍの範囲の厚さである。また、ピン孔用スリーブ７８は、貫通孔７７に対して約１ｍｍの余裕を持たせて嵌め込まれている。なお、サセプタ７２が石英の場合、石英よりも熱伝導率の高いＡＬＮやＳｉＣ等の材料を用いると、貫通孔７７に対応する部分の温度は、石英の場合より高く設定できる。その結果、支持ピン７０用の貫通孔７７部分の温度低下を抑制できる。 （もっと読む）