【課題】支持部の凹部の底面と吸着部との隙間を低減することができる吸着用部材の製造方法を提供する。
【解決手段】凹部が設けられたセラミック焼結体からなる支持部と、該凹部の内部に設けられた、対象物を吸着するための吸着部とを有する吸着用部材の製造方法であって、支持部として、凹部を有するセラミック焼結体を準備する工程と、凹部の内部に、セラミック粒子と第１ガラス粒子とを含む第１原料を供給して下部層を形成する工程と、凹部の内部に、セラミック粒子と第１ガラス粒子よりも軟化点の低い第２ガラス粒子とを含む第２原料を供給して上部層を形成する工程と、下部層および上部層を加圧することにより、凹部の内部において成形体を形成する工程と、成形体を第１ガラス粒子の軟化点よりも高い温度で加熱することにより第１ガラス粒子および第２ガラス粒子を軟化させるとともに、第１ガラス粒子を第２ガラス粒子よりも高い粘度で軟化させる工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】塗布膜に形成されるムラの発生を抑えるとともに、タクトタイムを短縮できる塗布装置および塗布方法を提供する。
【解決手段】基板１０上に吐出装置３aから塗布液を吐出し、塗布後に塗布基板を乾燥装置５に浮上搬送機構６により搬送する塗布装置１であって、前記浮上搬送機構は振動浮上機構４２を有し、搬送工程において基板上に塗布された塗布膜を前記振動浮上搬送機構により基板に生じる振動により引き起こされるレベリング効果より塗布膜に生じる塗布ムラを解消する。 （もっと読む）

【課題】吸着部を構成する多孔質体の目詰まりを抑制し、吸着力の低下を抑制することができる吸着用部材を提供する。
【解決手段】吸着用部材１Ａは、被加工物を吸着する吸着面２ａを備えたセラミック多孔質体からなる吸着部２と、該吸着部２を囲繞した、被加工物からの加工屑を捕集するためのセラミック多孔質体からなる捕集部３と、該捕集部３を囲繞して前記吸着部２および捕集部３を収容する凹部を有する支持部４とを有する。吸着部２の外周面および捕集部３の内周面は、互いに係合する段差部８を有しているとともに、該段差部８を含んで吸着部２の外周面と捕集部３の内周面とが接合材によって接合されている。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、高純度アルミナからなる誘電体の内部に電極を備えたクーロン力型静電チャックで、内部電極層と高純度アルミナ層との密着性と内部電極層の導電性を、同時に満足する静電チャックを提供することである。
【解決手段】 本発明の静電チャックの製造方法は、シート状のアルミナ成形体を、内部電極層を介して積層することにより積層体を形成し、かかる積層体を焼成してなる静電チャックの製造方法において、内部電極層にＰｄ粉末にアルミナを共材として添加したものを用いて、焼成後、ＨＩＰ処理を施すことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 複数の部品の組み合わせからなる電極部材の信頼性を高めたウェハ保持体を提供する。
【解決手段】 本発明のウェハ保持体は、内部もしくは表面に導電回路を有するウェハ保持体であって、該導電回路に接続される電極部材が複数の部品の組み合わせからなり、該各部品の表面全面に耐食性被膜が形成されており、該耐食性被膜が形成された各部品を組み合わせて電極部材とした後、該電極部材の表面全面に耐食性被膜が形成されていることを特徴とする。前記電極部材は、前記各部品をネジで螺合されて組み合わされていることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】加工が容易でかつ被加工物を安定して保持可能なレーザー加工装置用のテーブルを提供する。
【解決手段】レーザー加工装置において被加工物が載置固定されるテーブルの製造方法が、平板状のガラス板を用意する工程と、ガラス板の一方主面の吸引用溝の形成予定位置に、サンドブラスト処理にて粗溝を形成する工程と、粗溝の表面をエッチングして吸引用溝を得る工程と、を備えるようにする。吸引用溝の形成予定位置は、平面視でハニカム状に配置された領域を含むようにする。 （もっと読む）

【課題】作業時間の増大や製品制度の低下を招くことなく、平坦な状態で対象ワークを保持することのできる吸着ステージを提供する。
【解決手段】露光光が結像されて所定のマスクパターンが露光される対象ワーク２２を平坦な載置面４０ｂ上で保持する吸着ステージ（４０）であって、載置面４０ｂに対する対象ワーク２２の姿勢を固定すべく対象ワーク２２を吸着可能な固定吸着機構６０と、載置面４０ｂと面当接させるべく対象ワーク２２を吸着可能な平面吸着機構７０と、を備え、平面吸着機構７０は、載置面４０ｂを開口する複数の平面吸着孔７１を有し、載置面４０ｂ上における任意の一点から外縁へ向けて順に各平面吸着孔７１による吸着動作を開始する。 （もっと読む）

【課題】装置構成が簡単で、かつ修正対象の基板の撓みを抑制することが可能な基板支持装置およびこれを用いたパターン修正装置を提供する。
【解決手段】基板支持装置４は、基板３を搬送する搬送装置のハンド部が進入可能な隙間１３を形成するように互いに離れて配置され、基板３を保持する複数の副ステージ１２と、隙間１３内を移動可能なように隣り合う副ステージ１２の間に配置され、基板３を保持する補間ステージ１４とを備えている。 （もっと読む）

【課題】ステージ上面に気密に貼り付けられたシートを、ステージ上面から容易に剥がすこと。
【解決手段】本実施の形態に係るステージ６０２は、シートＳの外周領域を保持する第一の保持面６５２と、シートＳの内側領域に対応して設けられた凹部６２２の内底面において、シートＳの内側領域を保持する第二の保持面６５３と、凹部６２２の内周面にて、シートＳと第二の保持面６５３と共に閉空間６５７を形成する側面６５４と、閉空間６５７からエアを吸引する吸引口８１３とが形成され、吸引口８１３からのエアの吸引により、第一の保持面６５２に保持されたシートＳを引き伸ばしつつ、第二の保持面６５３に保持させる構成とした。 （もっと読む）

【課題】現状の設備から改造無しで、ウエハによるウエハ載置台の汚染や損傷を回避しつつ、ウエハとウエハ載置台との間での良好な熱伝導を確保することができるウエハ載置機構及びウエハ載置ステージ、並びに、このようなウエハ載置ステージを用いたレジスト形成装置を得る。
【解決手段】ウエハの処理を行う際に該ウエハを支持するウエハ載置ステージ１００ａにおいて、ウエハを支持するための載置ステージ本体１１１と、該載置ステージ本体上に、該載置ステージ本体の表面に密着するよう、該載置ステージ本体に着脱自在に設けられ、該ウエハを載置するためのスペーサ部材１１２とを備えた。 （もっと読む）

【課題】貫通孔の中心軸と円筒部材の中心軸とを一致させ、円筒部材を貫通孔に同心状に装着させることができる円筒部材装着治具を提供する。
【解決手段】リフターピン２１が貫通する貫通孔４１と、貫通孔４１に連通し、貫通孔４１よりも径が大きい座繰り穴４２とを有する基材１３において貫通孔４１にスリーブ４５を装着するための治具であって、座繰り穴４２に嵌合する台座部５１と、台座部５１から突出し、リフターピン２１の外形よりも太く且つスリーブ４５の内径よりも細い位置合わせピン５２を備え、この位置合わせピン５２は、台座部５１を座繰り穴４２に嵌合させた際、位置合わせピン５２の中心軸５２ａが貫通孔４１の中心軸４１ａと重なるように位置決めされている。 （もっと読む）

【課題】チャックへのＲＦバイアスの適用及び電極の加熱によりセラミックの破壊を引き起こさないセラミック本体を備えた静電チャックを提供する。
【解決手段】多層電極を有する薄層状のセラミック本体を備える装置及びこの装置を製作する方法が開示されている。薄層状のセラミック本体はセラミック材料の層を備え、電導材料の中間層でシルクスクリーンされる一定の層の部分を有している。次の焼結は電導材料層製の多層電極を有する固体のセラミック本体を形成する。装置は前記セラミック本体に部分的に延び、これらの電極の少なくとも１つで交差する電気コネクタをさらに備えている。 （もっと読む）

【課題】イオン注入時のシリコンウエハ等の板状試料におけるダメージを抑制することができ、板状試料の非晶質化をダメージ無く均一に進行させることができ、裏面を大気中に曝露した場合においても結露が生じる虞が無い静電チャック装置を提供する。
【解決手段】表面を板状試料Ｗを載置する載置面１１ａとするとともに静電吸着用内部電極１３を内蔵した静電チャック部２と、この静電チャック部２を所望の温度に調整する温度調整用ベース部３とを備え、静電チャック部２と温度調整用ベース部３との間に温度調整用基材４を設け、この温度調整用基材４の静電チャック部２側に凹部３１を形成し、この凹部３１に冷却媒体を流動させる溝３２を形成した。 （もっと読む）

【課題】吸着方法を改善することにより、特定の環境下で使用が可能で、固定用の土台との着脱が容易な静電チャックを提供する。
【解決手段】板状の絶縁材料の中に導電性材料からなる吸着用電極が埋設されている静電チャックであって、前記吸着用電極が、前記板状の絶縁材料の表面側と裏面側の双方に、それぞれ独立して形成されており、好ましくは、前記表面側の吸着用電極は双極型構造、前記裏面側の吸着用電極は単極型構造であること、さらに好ましくは、前記静電チャック裏面の主面方向に対して、前記裏面中心から前記裏面外周に向かって、前記静電チャック裏面の主面全面積の５％以上４０％以下を占める範囲内に配置されている。 （もっと読む）

【課題】ラック・アンド・ピニオンの技術を用いた縦型搬送によるインライン型の真空処理装置であって、ピニオンギヤとラックギヤが同期ずれにより、トレイに振動や衝撃を与えることなく搬送を可能にする搬送機構、及び、それを備えた真空処理装置を提供することにある。
【解決手段】複数のピニオンギヤのうち、少なくとも２つが回転してラックギヤに順次噛合することにより、該ラックギヤを現工程の処理室内に配置されるピニオンギヤから、次工程の処理室内に配置されるピニオンギヤへと受け渡して、トレイを搬送するラック・アンド・ピニオン機構、及び、それを備えた真空処理装置であって、前記ピニオンギヤをそれぞれ独立に上下移動させる上下駆動部を有していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】強い腐食性環境下で、プラズマエッチング加工が行われる半導体加工用装置内に配設される静電チャックの耐久性を向上させること。
【解決手段】電極層と電気絶縁層とからなる静電チャック部材において、この部材最外層に、元素の周期律表の３Ａ族元素の酸化物の溶射被覆層を設けるとともに、前記溶射被覆層の表面に、高エネルギー照射処理によって形成された、孔率が５％未満で、かつ、その表面の平均粗さ（Ｒａ）が０．８〜３．０μｍになる緻密化再溶融層を形成する。 （もっと読む）

【課題】２つの誘電層間に配置された電極を有する可撓性積層体を含んでいる、高効率静電チャック組立体を提供する。
【解決手段】少なくとも一方の誘電層は、標準度又は高純度の熱可塑性フィルムである。可撓性積層体１１２は、静電チャックの表面に改善された温度分布を与える利点を備えるように、第１誘電層１２４の基板支持表面１３２を艶消し仕上げとすることができる。可撓性積層体の基板非支持面側、すなわち、ペデスタル受け側は、プラズマ処理されて、所望の表面仕上げにすることが可能であり、アクリル又はエポキシの接着剤でペデスタルに接合されて、従来のポリマー型静電チャックに較べて、優れた接合強度を生じる結果となる。電極１２２は、剥離ライナーに形成したシート電極とすることができ、これにより製造を簡単にすることができる。 （もっと読む）

【課題】ウエハが載置される部分に切削痕ができないサセプタ基材の加工方法及びサセプタ基材を提供する。
【解決手段】回転刃物を用いて切削加工を行うサセプタ基材１１の加工方法であって、回転刃物１５の軸先端がＲ形状であり、回転刃物１５がサセプタ基材１１の上面の法線２３に対して所定角度傾斜させて前記サセプタ基材の切削加工を行い、サセプタ基材１１の切削加工が行われた凹部に切削痕のない加工面２７を形成する。 （もっと読む）

【課題】１つまたは複数の薄膜コンポーネントなどの１つまたは複数の電子的コンポーネントを確実に形成することができる基板ホルダを提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置用の基板ホルダは、その表面上に設けられた平坦化層を有する。この平坦化層は、薄膜の電子的コンポーネントなどの電子的コンポーネントを形成するための滑らかな表面を設ける。この平坦化層は、複数の副層に設けられてもよい。この平坦化層は、基板ホルダ上にバールを形成するように空所から材料を除去することによってもたらされた粗さの上を滑らかにすることができる。 （もっと読む）

【課題】 紫外線の照射条件の安定化を実現する基板処理装置を提供する。
【解決手段】 本発明の基板処理装置１は、ステージ４上に基板１００を載せて紫外線照射装置２により基板表面に紫外線を照射することにより基板表面を改質するように構成される。この基板処理装置１は、吸着手段を備える。吸着手段は、基板裏面側からエアを吸引する機能を有する。 （もっと読む）