基板支持装置およびパターン修正装置

【課題】装置構成が簡単で、かつ修正対象の基板の撓みを抑制することが可能な基板支持装置およびこれを用いたパターン修正装置を提供する。
【解決手段】基板支持装置４は、基板３を搬送する搬送装置のハンド部が進入可能な隙間１３を形成するように互いに離れて配置され、基板３を保持する複数の副ステージ１２と、隙間１３内を移動可能なように隣り合う副ステージ１２の間に配置され、基板３を保持する補間ステージ１４とを備えている。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は基板支持装置およびパターン修正装置に関し、より特定的には、表面に微細パターンが形成された基板を支持するための基板支持装置および当該基板支持装置を備えたパターン修正装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイなどのフラットパネルディスプレイにおいては、ディスプレイの大型化や生産効率の向上が求められている。これに対応して、フラットパネルディスプレイの製造においては基板サイズが大型化する傾向にあり、最近では３ｍ角を越える大型のガラス基板が用いられることもある。また、ディスプレイの高精細化の進行により画素数が増大する傾向にある。これに伴って、製造工程で基板の表面に形成される微細パターンにおける欠陥の存在確率が高くなっている。これに対応して歩留まりを向上するため、大型基板に対応したパターン修正装置が求められている。
【０００３】
たとえば、液晶カラーフィルタ基板（ガラス基板）の着色層の一部が色抜けした白欠陥を修正するパターン修正装置として、針の先端に修正液（修正インク）を付着させた後、その塗布針を欠陥部（白欠陥）に押し当てて修正液を塗布するものが知られている（たとえば特許文献１参照）。このパターン修正装置には、修正対象のガラス基板（カラーフィルタ）を搭載するガラス定盤（基板支持装置）が設けられる。このガラス定盤は、ガラス基板を搬入および排出する際にガラス基板をリフトアップするためのリフトアップ機構を備える。そして、ガラス定盤には、リフタピンを通すためのリフタピン孔と、ガラス基板をガラス定盤の上面に固定するための真空吸着用溝とが形成されている。このパターン修正装置においては、ガラス基板の搬出の際には、ガラス基板をリフタによって上方にリフトアップし、ガラス定盤とガラス基板との間に空間を設けてから、この空間にガラス基板を搬送するロボットのハンド部を挿入してガラス基板を保持し、搬出する。一方、ガラス基板の搬入の際には、ロボットのハンド部により保持されて搬入されたガラス基板がリフタ上に載置され、ロボットのハンド部が引き抜かれた後、リフタが下降することによりガラス定盤上にガラス基板が保持される。
【０００４】
また、ガラス基板を保持するチャックステージ（基板支持装置）を複数の副ステージに分割したパターン修正装置が提案されている（たとえば特許文献２参照）。このパターン修正装置においては、隣り合う副ステージの間に形成された隙間にロボットのハンド部が進入可能であることにより、基板の搬入および搬出が容易となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−７２９５号公報
【特許文献２】特開２００８−１５０３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記特許文献１に記載のパターン修正装置では、ガラス定盤に穴を開け、当該穴を通してリフタピンを上下させる機構を設けているため、装置構成が複雑になるという問題がある。また、修正対象となる基板の大型化に伴って、これに対応した大型のガラス定盤を用意する必要がある。さらに、ガラス定盤に穴や溝を形成する場合、加工が難しくコスト高になるという問題もある。
【０００７】
また、上記特許文献２に記載のパターン修正装置では、隣り合う副ステージの間の隙間は、ロボットのハンド部と干渉しない距離、たとえば数百ｍｍ程度とされる。このとき、この隙間上に位置するガラス基板の領域は副ステージにより支持されないため、当該領域は下方に撓んで変形する。そのため、欠陥の確認および修正にあたり、当該領域の微細パターンを観察光学系により観察する際、他の領域を観察する場合に対してフォーカス位置が大きく変わる。そのため、フォーカス位置の検出に時間がかかる、フォーカスの検出範囲外となる、などの問題がある。さらに、微細パターンの修正のために研磨加工のように基板の上方から力を負荷するような加工を実施する場合、隙間上に位置するガラス基板の領域が弾性変形し（すなわち撓んで）、所望の加工を行うことが困難になるという問題がある。
【０００８】
本発明は上記問題点に対応するためになされたものであって、その目的は、装置構成が簡単で、かつ修正対象の基板の撓みを抑制することが可能な基板支持装置およびこれを用いたパターン修正装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に従った基板支持装置は、パターン修正装置において欠陥を修正されるべき基板を支持するための基板支持装置である。この基板支持装置は、基板を搬送する搬送装置のハンド部が進入可能な隙間を形成するように互いに離れて配置され、基板を保持する複数の副ステージと、当該隙間内を移動可能なように隣り合う副ステージの間に配置され、基板を保持する補間ステージとを備えている。
【００１０】
本発明の基板支持装置は、副ステージ間の隙間を移動可能な補間ステージを備えている。これにより、基板の撓みを抑制すべき位置に補間ステージを移動させることが可能となり、適切に基板の撓みを抑制することができる。たとえば、上記隙間上で研磨加工等を実施する場合、加工されるべき領域に対応する位置を支持するように補間ステージが移動することにより、基板の撓みを抑制し、加工の実施を容易にすることができる。また、副ステージの間に移動可能な補間ステージを配置するという簡単な装置構成により、上記動作が可能となる。このように、本発明の基板支持装置によれば、装置構成が簡単で、かつ修正対象の基板の撓みを抑制することが可能な基板支持装置を提供することができる。
【００１１】
上記基板支持装置においては、補間ステージは、上記隙間に上記ハンド部が進入可能な状態を形成するように隙間内において移動可能となっていてもよい。
【００１２】
これにより、基板が搬入および搬出される際には、上記隙間に進入する搬送装置のハンド部と干渉しない位置に補間ステージが移動することにより、基板の搬入および搬出が容易となる。一方、基板上のパターンが修正される際には補間ステージが基板の撓み抑制に適した位置に移動することにより、基板の撓みを抑制することができる。
【００１３】
上記基板支持装置においては、副ステージは、上記ハンド部が進入する方向に沿って延在し、補間ステージは、上記ハンド部が進入する方向に交差する方向に移動可能となっていてもよい。
【００１４】
これにより、上記隙間へのハンド部の進入が容易となるとともに、上記隙間における補間ステージによる基板の適切な支持を容易に達成することができる。
【００１５】
上記基板支持装置においては、複数の補間ステージを備え、当該複数の補間ステージは互いに連結されることにより連動して移動可能となっていてもよい。これにより、複数の補間ステージの位置制御を容易に達成することができる。
【００１６】
上記基板支持装置においては、上記隙間には複数の補間ステージが配置されてもよい。これにより、１つの隙間において基板を複数の補間ステージにより支持することが可能となる。その結果、基板の撓みを一層確実に抑制することができる。
【００１７】
上記基板支持装置においては、補間ステージの基板に接触すべき面は、基板が保持される側に向けて凸な曲面となっていてもよい。
【００１８】
また、上記基板支持装置においては、補間ステージの基板に接触すべき面は、外周部が面取り加工されていてもよい。
【００１９】
また、上記基板支持装置においては、補間ステージの基板に接触すべき面を含むように、基板との摩擦を低減する摩擦低減層が形成されていてもよい。
【００２０】
このようにすることにより、基板を支持した状態で補間ステージを移動させた場合でも、基板と補間ステージとの摩擦を抑制することができる。
【００２１】
本発明に従ったパターン修正装置は、基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するためのパターン修正装置である。このパターン修正装置は、定盤と、定盤の上に配置され、基板を支持する基板支持装置と、定盤の上に配置され、基板の欠陥を修正する欠陥修正部とを備えている。そして、基板支持装置は、上記本発明の基板支持装置である。
【００２２】
上記本発明の基板支持装置を備えていることにより、本発明のパターン修正装置によれば、装置構成が簡単で、かつ修正対象の基板の撓みを抑制することが可能なパターン修正装置を提供することができる。
【００２３】
上記パターン修正装置においては、定盤と基板支持装置との間に配置され、基板に対して光を照射する照明部をさらに備え、副ステージおよび補間ステージは、上記光を透過可能となっていてもよい。
【００２４】
このように照明部を配置し、かつ副ステージおよび補間ステージが照明部からの光を透過可能であることにより、基板上の微細パターンの観察が容易となる。
【００２５】
上記パターン修正装置においては、副ステージおよび補間ステージは樹脂からなっていてもよい。副ステージおよび補間ステージの素材として樹脂を採用することにより、照明部からの光を透過可能で、かつ軽量な副ステージおよび補間ステージを容易に作製することができる。
【発明の効果】
【００２６】
以上の説明から明らかなように、本発明の基板支持装置およびパターン修正装置によれば、装置構成が簡単で、かつ修正対象の基板の撓みを抑制することが可能な基板支持装置およびこれを用いたパターン修正装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】パターン修正装置の構造を示す概略斜視図である。
【図２】図１の線分ＩＩ−ＩＩに沿う断面を示す概略断面図である。
【図３】パターン修正装置の定盤上の構造を示す概略平面図である。
【図４】図３の線分ＩＶ−ＩＶに沿う断面を示す概略断面図である。
【図５】補間ステージの動作を説明するための概略断面図である。
【図６】補間ステージの動作を説明するための概略平面図である。
【図７】補間ステージの動作を説明するための概略断面図である。
【図８】補間ステージの動作を説明するための概略断面図である。
【図９】第１の変形例における補間ステージの構造を示す概略断面図である。
【図１０】第２の変形例における補間ステージの構造を示す概略断面図である。
【図１１】第３の変形例における補間ステージの構造を示す概略断面図である。
【図１２】実施の形態２における基板保持装置の構造を示す概略断面図である。
【図１３】実施の形態２における基板保持装置の構造を示す概略断面図である。
【図１４】実施の形態３における基板保持装置の構造を示す概略断面図である。
【図１５】実施の形態３における基板保持装置の構造を示す概略平面図である。
【図１６】図１５の線分ＸＶＩ−ＸＶＩに沿う断面を示す概略断面図である。
【図１７】実施の形態３の変形例における基板保持装置の構造を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、図面に基づいて本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の図面において同一または相当する部分には同一の参照番号を付し、その説明は繰り返さない。
【００２９】
（実施の形態１）
図１を参照して、本実施の形態におけるパターン修正装置１は、基板３上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するためのパターン修正装置である。パターン修正装置１は、定盤２と、定盤２の上に配置され、基板３を支持する基板支持装置４と、定盤２の上に配置され、基板３の欠陥を修正する欠陥修正部とを備えている。基板３は、たとえば表面に微細パターンが形成されたガラス基板である。定盤２上には、ガントリ型のＸＹステージ５が搭載されている。ＸＹステージ５は、Ｘ軸ステージ５１と、門型のＹ軸ステージ５２とを含んでいる。Ｙ軸ステージ５２は、基板支持装置４を跨ぐように設けられ、その上に搭載されたものを図１中に矢印で示されるＹ軸方向に移動させることができる。Ｘ軸ステージ５１は、Ｙ軸ステージ５２上に搭載され、その上に搭載されたものを図１中に矢印で示されるＸ軸方向に移動させることができる。Ｘ軸方向およびＹ軸方向は定盤２の主表面に平行であり、Ｘ軸方向はＹ軸方向と直交する。
【００３０】
Ｘ軸ステージ５１上には、その上に搭載されたものを上下方向に移動させることが可能なＺ軸ステージ６が搭載される。Ｚ軸ステージ６には、観察光学系７、塗布ユニット８、レーザ９が搭載されている。観察光学系７は、対物レンズ１０を含み、基板３上の欠陥部などを観察するために用いられる。レーザ９は、観察光学系７を介して基板３上の欠陥にレーザ光を照射し、レーザアブレーションによってその欠陥形状を整形したり、欠陥およびその周囲に余分に付着した修正インクを除去したりするために用いられる。
【００３１】
そして、Ｘ軸ステージ５１、Ｙ軸ステージ５２、およびＺ軸ステージ６を制御することにより、観察光学系７、レーザ９および塗布ユニット８の各々を基板３の表面における所望の位置の上方に移動させることが可能となっている。上記ＸＹステージ５、Ｚ軸ステージ６、観察光学系７、塗布ユニット８およびレーザ９は、基板３の欠陥を修正する欠陥修正部を構成する。
【００３２】
なお、本実施の形態では、欠陥修正部が修正インクを塗布する塗布ユニット８を含む場合について説明したが、本発明のパターン修正装置における欠陥修正部はこれに限られず、種々の欠陥修正部を含むことができる。
【００３３】
図１〜図４を参照して、基板支持装置４は、基板３を搬送する搬送装置のハンド部３１が進入可能な隙間１３を形成するように互いに離れて配置され、基板３を保持する複数の副ステージ１２と、隙間１３内を移動可能なように隣り合う副ステージ１２の間に配置され、基板３を保持する補間ステージ１４とを備えている。
【００３４】
ここで、図２に示すように、上記基板支持装置４においては、補間ステージ１４は、隙間１３に輸送ロボットなどの搬送装置のハンド部３１が進入可能な状態を形成するように隙間１３内において移動可能となっていてもよい。副ステージ１２は、ハンド部３１が進入する方向に沿って延在している。補間ステージ１４は、ハンド部３１が進入する方向に沿って延在するとともに、ハンド部３１が進入する方向に交差し、定盤２の主表面に沿った方向に移動可能となっていてもよい。さらに、図１〜図４に示すように、基板支持装置４が複数の補間ステージ１４を含む場合、当該複数の補間ステージ１４は互いに連結されることにより連動して移動可能となっていてもよい。
【００３５】
より具体的には、基板３を保持する基板支持装置４は、Ｘ軸方向に複数（本実施の形態では４つ）の副ステージ１２に分割されたステージを備えており、隣り合う副ステージ１２同士の間には、基板３を下側から支持して運搬する搬送装置のハンド部３１を挿入するための隙間１３が形成されている。副ステージ１２の各々の上面（定盤２とは反対側の主表面）には、基板３を固定するための真空吸着用の溝や空気噴出し用の溝（図示しない）が形成されている。また、各隙間１３には、補間ステージ１４が配置されている。補間ステージ１４は連結板１５に固定され、連結板１５は直動軸受１６により支持される。また、連結板１５の一方の端部には連結板１５を駆動する駆動部１７の出力軸に連結されている。これにより、複数の（本実施の形態では３つの）補間ステージ１４は連動して副ステージ１２間の隙間１３内をＸ軸方向に移動することが可能となっている。駆動部１７としては、エアシリンダなどの直動アクチュエータを採用することができる。直動軸受１６と駆動部１７とを内蔵し、位置決めが可能な一軸ステージを採用してもよい。
【００３６】
次に、パターン修正装置１の動作について説明する。まず、修正処理の対象となる基板３がロボットなどの搬送装置（図示しない）のハンド部３１に保持された状態でパターン修正装置１へと搬入される。このとき、図２および図３を参照して、駆動部１７に駆動された連結板１５に連動して補間ステージ１４が移動し、副ステージ１２に寄せた状態とされる。これにより、隙間１３に進入するハンド部３１が補間ステージ１４と干渉しない状態となる。そして、基板３を保持したハンド部３１が隙間１３に進入し、基板を副ステージ１２および補間ステージ１４上に載置した後、ハンド部３１が隙間１３から退出する。副ステージ１２および補間ステージ１４上に載置された基板３は、副ステージ１２の主表面に形成された吸着用の溝の内部が減圧されることにより、副ステージ１２に固定される。
【００３７】
次に、図５および図６を参照して、駆動部１７に駆動された連結板１５に連動して補間ステージ１４が移動し、隙間１３の略中央に位置する状態とされる。これにより、隙間１３上に位置する基板３の領域が補間ステージ１４により有効に支持され、基板３の撓みが抑制される。また、たとえば図７に示すように基板３に突起欠陥Ａが発見された場合、図８に示すように補間ステージ１４を突起欠陥Ａに対応する位置に移動させ、突起欠陥Ａを押圧する力を負荷した場合における基板３の撓みを抑制した状態で、突起欠陥Ａに研磨テープを接触させて突起欠陥Ａを削り取ることができる。これにより、突起欠陥Ａの修正を容易に実施することができる。
【００３８】
このように、本実施の形態における基板支持装置４およびこれを備えたパターン修正装置１においては、基板３の撓みを抑制すべき位置に補間ステージ１４を移動させることが可能となっており、適切に基板３の撓みを抑制することができる。また、基板支持装置４においては、基板３をリフトアップすることなく、搬送装置による基板３の搬入、搬出が可能となっている。さらに、観察光学系７により基板３の表面を観察する際には、自動フォーカス（焦点合わせ）のサーチ範囲を狭くすることができるため、フォーカス時間をより短縮することができる。また、副ステージ１２の間に移動可能な補間ステージ１４を配置するという簡単な装置構成により、上記効果を得ることができる。以上のように、本実施の形態における基板支持装置４およびこれを備えたパターン修正装置１は、装置構成が簡単で、かつ修正対象の基板３の撓みを抑制することが可能となっている。
【００３９】
次に、上記本実施の形態における基板支持装置４およびこれを備えたパターン修正装置１の変形例について説明する。図９に示す第１の変形例においては、補間ステージ１４の基板３に接触すべき面（補間ステージ１４の上面）を含むように、より具体的には補間ステージ１４の上面を覆うように、基板３との摩擦を低減する摩擦低減層１４Ａが形成されている。摩擦低減層１４Ａを構成する材料としては、たとえばポリアセタール系樹脂やフッ素系の樹脂を採用することができる。
【００４０】
また、図１０に示す第２の変形例においては、補間ステージ１４の基板３に接触すべき面（補間ステージ１４の上面）は、基板３が保持される側に向けて凸な曲面となっている。より具体的には、補間ステージ１４の上面は長手方向に垂直な断面において円弧状面１４Ｂとなっている。
【００４１】
また、図１１に示す第３の変形例においては、補間ステージ１４の基板３に接触すべき面（補間ステージ１４の上面）は、外周部が面取り加工されていている。より具体的には、補間ステージ１４の上面には、面取り部１４Ｃが形成されている。
【００４２】
上記変形例１〜３にようにすることにより、基板３を支持した状態で補間ステージ１４を移動させた場合でも、基板３と補間ステージとの摩擦を抑制するとともに、基板３の裏面（微細パターンが形成された面と反対側の主表面）に傷が付くことを抑制することができる。また、補間ステージ１４の上面に溝や孔を形成し、当該溝や孔から空気などの気体を噴出して補間ステージ１４と基板３との間に空気膜を形成してもよい。なお、上記変形例は、適宜組み合わせて実施してもよい。
【００４３】
（実施の形態２）
次に、本発明の他の実施の形態である実施の形態２について説明する。実施の形態２における基板支持装置およびこれを備えたパターン修正装置は、基本的には実施の形態１の場合と同様の構成を有し、同様の効果を奏する。しかし、実施の形態２における基板支持装置およびパターン修正装置は、補間ステージの構成において実施の形態１の場合とは異なっている。
【００４４】
図１２を参照して、実施の形態２における基板支持装置４においては、隙間１３に複数の（図１２では２つの）補間ステージ１４１，１４２が配置されている。そして、基板３を搬入および搬出する際には、図１２に示すように、搬送装置のハンド部３１が隙間１３に挿入可能な状態とするため、補間ステージ１４１，１４２は副ステージ１２に寄せた状態とされる。より具体的には、補間ステージ１４１と補間ステージ１４２とは、互いに重なるように副ステージ１２に寄せた位置に配置される。
【００４５】
一方、基板３の表面の微細パターンを修正する際には、図１３に示すように、補間ステージ１４１，１４２は副ステージ１２から離れた状態とされ、かつ補間ステージ１４１と補間ステージ１４２とが互いに離れた状態とされる。このようにすることにより、１つの隙間１３において基板３を複数の補間ステージ１４１，１４２により支持することが可能となる。その結果、基板３の撓みを一層確実に抑制することができる。
【００４６】
（実施の形態３）
次に、本発明のさらに他の実施の形態である実施の形態３について説明する。実施の形態３における基板支持装置およびこれを備えたパターン修正装置は、基本的には実施の形態１の場合と同様の構成を有し、同様の効果を奏する。しかし、実施の形態３におけるパターン修正装置は、定盤と基板支持装置との間に配置され、基板に対して光を照射する照明部をさらに備えている点において実施の形態１の場合とは異なっている。
【００４７】
照明部の設置方法としては、たとえば細長い蛍光灯を長手方向がＸ軸方向に沿うように配置して、当該蛍光灯をＹ軸方向に移動可能とする方法も考えられるが、本実施の形態においては以下のような構成が採用される。すなわち、図１４〜図１６を参照して、実施の形態３におけるパターン修正装置１においては、定盤２と基板支持装置４との間にスペーサ１８が配置される。そして、スペーサ１８の配置により形成された定盤２と基板支持装置４との間の空間に照明部２１が配置される。照明部２１は、照明部２１をＹ軸方向に移動可能に支持するＹ軸ステージ２０上に配置される。また、Ｙ軸ステージ２０は、Ｙ軸ステージ２０をＸ軸方向に移動可能に支持するＸ軸ステージ１９上に配置される。そして、副ステージ１２および補間ステージ１４は、照明部２１からの光を透過可能となっている。副ステージ１２および補間ステージ１４の素材としては、たとえばガラスを採用することができる。これにより、副ステージ１２および補間ステージ１４により照明部２１からの光が遮断されることを回避し、基板３上の微細パターンの観察が容易となる。
【００４８】
なお、副ステージ１２や補間ステージ１４の端部と基板３上の欠陥部とが近接する場合、あるいは、副ステージ１２や補間ステージ１４の基板３に接する面に設けられた基板３を吸着固定するための溝（図示しない）と基板３上の欠陥部とが近接する場合には、観察光学系７による観察画像が暗くなるおそれがある。これに対応する観点から、基板シフト機構２２を副ステージ１２に設置してもよい。これにより、上述のように観察光学系７による観察画像が暗くなった場合、基板シフト機構２２を用いて、基板３を水平方向（定盤２の主表面に沿った方向）に微小量移動して、観察画像の明るさを確保することができる。
【００４９】
また、副ステージ１２および補間ステージ１４を構成する材料として透明樹脂（たとえばアクリル）を採用することもできる。これにより、基板支持装置４の軽量化が期待できる。樹脂材料は帯電し易いため、副ステージ１２や補間ステージ１４を構成する材料としては帯電防止機能付樹脂材料を選定する、あるいは副ステージ１２や補間ステージ１４を製作した後に、その表面に帯電防止剤を塗布することが好ましい。
【００５０】
なお、副ステージ１２や補間ステージ１４の素材として樹脂材料を採用した場合、基板３との摺動時に樹脂材料が磨耗するおそれがある。これに対応する観点から、図１７に示す変形例を採用することができる。すなわち、図１７を参照して、本変形例における基板支持装置４の副ステージ１２および補間ステージ１４の上面（基板３と接触すべき面）には、それぞれ耐摩耗性層としてのガラス板２３およびガラス板２４が配置されている。これにより、副ステージ１２および補間ステージ１４の摩耗を抑制することができる。
【００５１】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味、および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【産業上の利用可能性】
【００５２】
本発明の基板支持装置およびパターン修正装置は、表面に微細パターンが形成された基板を支持するための基板支持装置および当該基板支持装置を備えたパターン修正装置に、特に有利に適用され得る。
【符号の説明】
【００５３】
１パターン修正装置、２定盤、３基板、４基板支持装置、５ＸＹステージ、６Ｚ軸ステージ、７観察光学系、８塗布ユニット、９レーザ、１０対物レンズ、１２副ステージ、１３隙間、１４補間ステージ、１４Ａ摩擦低減層、１４Ｂ円弧状面、１４Ｃ面取り部、１５連結板、１６直動軸受、１７駆動部、１８スペーサ、１９Ｘ軸ステージ、２０Ｙ軸ステージ、２１照明部、２２基板シフト機構、２３，２４ガラス板、３１ハンド部、５１Ｘ軸ステージ、５２Ｙ軸ステージ、１４１，１４２補間ステージ。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターン修正装置において欠陥を修正されるべき基板を支持するための基板支持装置であって、
前記基板を搬送する搬送装置のハンド部が進入可能な隙間を形成するように互いに離れて配置され、前記基板を保持する複数の副ステージと、
前記隙間内を移動可能なように隣り合う前記副ステージの間に配置され、前記基板を保持する補間ステージとを備えた、基板支持装置。
【請求項２】
前記補間ステージは、前記隙間に前記ハンド部が進入可能な状態を形成するように前記隙間内において移動可能となっている、請求項１に記載の基板支持装置。
【請求項３】
前記副ステージは、前記ハンド部が進入する方向に沿って延在し、
前記補間ステージは、前記ハンド部が進入する方向に交差する方向に移動可能となっている、請求項１または２に記載の基板支持装置。
【請求項４】
複数の前記補間ステージを備え、
前記複数の補間ステージは互いに連結されることにより連動して移動可能となっている、請求項１〜３のいずれか１項に記載の基板支持装置。
【請求項５】
前記隙間には複数の前記補間ステージが配置される、請求項１〜４のいずれか１項に記載の基板支持装置。
【請求項６】
前記補間ステージの前記基板に接触すべき面は、前記基板が保持される側に向けて凸な曲面となっている、請求項１〜５のいずれか１項に記載の基板支持装置。
【請求項７】
前記補間ステージの前記基板に接触すべき面は、外周部が面取り加工されている、請求項１〜５のいずれか１項に記載の基板支持装置。
【請求項８】
前記補間ステージの前記基板に接触すべき面を含むように、前記基板との摩擦を低減する摩擦低減層が形成されている、請求項１〜７のいずれか１項に記載の基板支持装置。
【請求項９】
基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するためのパターン修正装置であって、
定盤と、
前記定盤の上に配置され、前記基板を支持する基板支持装置と、
前記定盤の上に配置され、前記基板の欠陥を修正する欠陥修正部とを備え、
前記基板支持装置は、請求項１〜８のいずれか１項に記載の基板支持装置である、パターン修正装置。
【請求項１０】
前記定盤と前記基板支持装置との間に配置され、前記基板に対して光を照射する照明部をさらに備え、
前記副ステージおよび前記補間ステージは、前記光を透過可能となっている、請求項９に記載のパターン修正装置。
【請求項１１】
前記副ステージおよび前記補間ステージは樹脂からなっている、請求項９または１０に記載のパターン修正装置。

【図１】